专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种低浓度超薄的IGBT芯片-CN201520585638.6有效
  • 关仕汉 - 淄博汉林半导体有限公司
  • 2015-08-06 - 2016-01-20 - H01L29/739
  • 一种低浓度超薄的IGBT芯片,属于半导体器件制造领域。包括P型的衬底(1),在衬底(1)上依次设有N型的第一外延层(2)和第二外延层(3),在第二外延层(3)上设置MOS结构,芯片最上方覆盖有金属层(4),其特征在于:衬底(1)的掺杂浓度为1015本低浓度超薄的IGBT芯片,将衬底的厚度减薄,同时将衬底的浓度降低,提升了芯片的关断速度从而提升产品的工作频率,省去了PT型IGBT制造过程中为提高其工作频率而照电子辐照及高温退火的工序,以及NPT型IGBT制造过程中制程背面工艺及激光扫描的复杂工序,提高芯片流片效率并降低成本。
  • 一种浓度超薄igbt芯片
  • [发明专利]元件芯片制造方法-CN201610825780.2有效
  • 针贝笃史;置田尚吾;松原功幸 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2016-09-14 - 2021-11-23 - H01L21/78
  • 本发明的目的在于提供一种能够抑制安装过程中的导电性材料的爬升的元件芯片制造方法。在对具有多个元件区域的基板进行分割来制造多个元件芯片的元件芯片制造方法中所利用的等离子处理工序之中,通过使基板暴露于第1等离子体中,从而将基板分割为元件芯片(10),具备第1面(10a)、第2面(10b)以及连结第1面(10a)和第2面(10b)的侧面(10c)的元件芯片(10)在载体(4)上成为相互空出间隔被保持的状态。通过使这些元件芯片(10)暴露于以氟化碳和氦的混合气体为原料气体的第2等离子体中,由此形成覆盖侧面(10c)的保护膜(12c),来抑制安装过程中的导电性材料向侧面(10c)的爬升。
  • 元件芯片制造方法
  • [发明专利]集成电路制造的推拉双向式派工方法-CN02108174.3无效
  • 方亨利;陈忠信 - 华邦电子股份有限公司
  • 2002-03-28 - 2003-10-15 - H01L21/70
  • 本发明涉及一种集成电路制造的推拉双向式派工方法,用于决定芯片批次在每一工作站的排货次序。先定义芯片批次的优先次序,接着进行集成电路制造的推拉双向式派工方法,执行数个推货(Push)步骤与拉货(Pull)步骤。其中,推货步骤是不管下游的制作过程阶段或工作站的拥挤或延迟状况,直接由上游来安排推货、另外,拉货步骤是考虑下游的制作过程阶段或工作站的缺货需求,再由制作过程上游来安排推货。接着,再依原先芯片批次的优先次序高低来进行派工即可。利用此集成电路制造的推拉双向式派工方法,具有提高机台设备利用性的优点。
  • 集成电路制造推拉双向式派工方法
  • [发明专利]用于三维金属互连技术的一般化的器件组装的使用-CN201110153204.5有效
  • P·帕瓦兰德 - 马克西姆综合产品公司
  • 2011-06-01 - 2011-12-07 - H01L21/98
  • 组装过程适当地将多个第一裸芯片定位和对准在承载衬底内。第一裸芯片被定位于在承载衬底中形成的凹陷内。然后将承载衬底与第二衬底对准,该第二衬底具有在其中制造的多个第二裸芯片。使用不同的技术制造第一裸芯片和第二裸芯片。将承载衬底与第二衬底对准也对准了第一裸芯片与第二裸芯片。可以将一个或者多个第一裸芯片与每个第二裸芯片对准。一旦经对准,进行晶片键合过程以将第一裸芯片键合到第二裸芯片。在一些情况中,移除承载衬底,留下键合到第二衬底的第二裸芯片的第一裸芯片。在其他情况中,将承载衬底留在适当位置作为帽。然后切割第二衬底以形成裸芯片堆叠。
  • 用于三维金属互连技术一般化器件组装使用

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