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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种具有阻焊阶梯的阻焊层的制作方法-CN201510690440.9有效
发明人：胡志勇;白会斌;罗家伟;叶文钰 -专利权人：江门崇达电路技术有限公司
申请日： 2015-10-20 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： H05K3/28 文献下载
摘要：本发明通过先在板边区域制作第一阻焊对位PAD，制作第一阻焊层时以第一阻焊对位PAD进行对位，并且第一阻焊层在板边区域设开窗，再将开窗制作成第二阻焊对位PAD，制作第二阻焊层时以第二阻焊对位PAD进行对位，即使使用CCD对位曝光机(对位能力为30μm)进行对位曝光，也可保证所制作的第一阻焊层与第二阻焊层的偏差小于或等于50μm，避免了对位偏差大于50μm而导致生产板报废的问题，减少了生产板的报废，降低了生产成本。
一种具有阶梯阻焊层制作方法

[发明专利]一种用于成像扫描信号同步的调制方法、装置及系统-CN202010954762.0有效
发明人：王挺;郭宇;王相入;丁有爽;邵天兰 -专利权人：梅卡曼德（北京）机器人科技有限公司
申请日： 2020-09-11 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： H04N13/128 文献下载
摘要：本申请提出一种用于成像扫描信号同步的调制方法、装置及系统，包括：发射控制信号，其中，控制信号包括振镜驱动信号、激光扫描信号、以及相机曝光信号，振镜驱动信号与相机曝光信号同周期且，在振镜驱动信号一周期内的使振镜正向振荡的时间内，激光扫描信号使激光发射N次；测量振镜的实际信号波形，将实际信号波形进行滤波去噪获得降噪波形；将降噪波形与所述振镜驱动信号相应的控制波形进行波形对比检测，获得波形偏差；根据波形偏差调整所述控制信号后发射
一种用于成像扫描信号同步调制方法装置系统

[发明专利]一种用于成像扫描信号同步的调制方法、装置及系统-CN202110710216.7有效
发明人：王挺;郭宇;王相入;丁有爽;邵天兰 -专利权人：梅卡曼德（北京）机器人科技有限公司
申请日： 2020-09-11 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H04N13/128 文献下载
摘要：本申请提出一种用于成像扫描信号同步的调制方法、装置及系统，包括：发射控制信号，其中，控制信号包括振镜驱动信号、激光扫描信号、以及相机曝光信号，振镜驱动信号与相机曝光信号同周期，且在振镜驱动信号一周期内的使振镜正向振荡的时间内，激光扫描信号使激光发射N次；测量振镜的实际信号波形，将实际信号波形进行滤波去噪获得降噪波形；将降噪波形与所述振镜驱动信号相应的控制波形进行波形对比检测，获得波形偏差；根据波形偏差调整所述控制信号后发射
一种用于成像扫描信号同步调制方法装置系统

[发明专利]基于视觉的智能车辆横向控制方法-CN201510511109.6在审
发明人：王继贞;张绍勇;谷明琴;方啸;李娟娟;徐达学;张世兵;张绍山 -专利权人：奇瑞汽车股份有限公司
申请日： 2015-08-19 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于视觉的智能车辆横向控制方法，该方法包括以下步骤：步骤一、摄像头采集图像；步骤二、根据摄像头实时采集前方车辆图像采集的图像，采用计算机视觉技术检测前方车辆是否存在；步骤三、车辆纵向、横向测距；步骤四、车辆角度偏差计算所述步骤一摄像头实时采集前方车辆图像，采集的初始图像进行图像分析，然后根据图像分析结果调整摄像头曝光参数，根据摄像头采集的图像判断是白天场景和夜晚场景，根据不同场景，采用不同的曝光策略进行曝光，用以满足不同场景车辆检测要求
基于视觉智能车辆横向控制方法

[发明专利]步进排列式干涉微影方法与系统-CN200810130790.X有效
发明人：颜家钰;张所鋐;陈正宏;陈联圣 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2008-07-21 - 公布日： 2010-01-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种步进排列式干涉微影方法，其主要是在干涉微影前先对干涉光束相较于移动承载偏移误差进行量测，以减低后来利用步进式曝光拼接纳米微结构图案时相邻的图案间的位移偏差。此外，本发明更提供一步进排列式干涉微影系统，于步进控制移动的过程中补偿干涉光束曝光时所造成的误差，达成在二维平面上大面积的步进式的精密对位，并且通过多次曝光将微结构精确接合，以产生出大面积的周期性结构。
步进排列干涉方法系统

[发明专利]掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法-CN201880016943.X有效
发明人：谷口和丈;宍户博明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F1/54 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模坯料(100)，利用由氮化硅系材料形成的单层膜构成的遮光膜(2)具有对于ArF曝光用光的较高的遮光性能，并且能够降低遮光膜的图案的EMF偏差。掩模坯料在透光性基板(1)上具备遮光膜。遮光膜对于ArF曝光用光的光学浓度为3.0以上。遮光膜对于ArF曝光用光的折射率n及衰减系数k同时满足以下的式(1)和式(2)中限定的关系。
坯料转印用掩模半导体器件制造方法

[发明专利]一种基于球管灯丝曲线预测球管故障的方法-CN202210035237.8在审
发明人：孙锋;金关华;黄振强;朱炯 -专利权人：明峰医疗系统股份有限公司
申请日： 2022-01-13 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： G01R31/54 文献下载
摘要：本发明涉及CT技术领域，尤其涉及一种基于球管灯丝曲线预测球管故障的方法，通过对球管灯丝进行冲击响应测试，将灯丝电流数据数据反馈到曝光控制板，曝光控制板将数据结合冲击电压打包后发送给上位机进行分析，上位机根据冲击响应的结果分析，当灯丝电流的上升曲线或下降曲线与球管厂家的偏差超过阈值时，即可判断球管灯丝可能会在短时间内故障。
一种基于灯丝曲线预测故障方法

[发明专利]中间掩模透射率测量方法、投影曝光装置及投影曝光方法-CN201510632834.9有效
发明人：村田通博;五味丰 -专利权人：艾普凌科有限公司
申请日： 2015-09-29 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：中间掩模透射率测量方法、投影曝光装置及投影曝光方法。在初次使用中间掩模时，将中间掩模实际装入装置中，进行斜向测量/随机测量，由此，即使不增加采样数，也能够避免成为偏差采样的危险性，取得作为总体的中间掩模整体的中间掩模透射率。
中间透射率测量方法投影曝光装置方法

[发明专利]液晶显示装置的制造方法-CN200610103022.6有效
发明人：藤田康雄 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2006-07-05 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明旨在提供可适当校正位置偏差的液晶显示装置及其制造方法。在阵列基板(10)上，通过步进曝光形成多个显示区域(20)。阵列基板(10)被分为分割曝光中成为照射单位的阵列照射区域(30)。
液晶显示装置制造方法

[发明专利]一种光刻条件控制方法-CN201110455195.5无效
发明人：黄玮 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2011-12-30 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻条件控制方法，通过对曝光参数的自动实时监控来尽可能保证在线条宽和套刻在规范之内，同时针对条宽和套刻在规范内的前提下，对曝光参数进行SPC统计控制，从而能实现每次的光刻工艺都在正常的机台参数下进行操作，不仅可以提高产品本身的质量，更可以避免因机台长时间工作而引起的工艺性系统偏差，减少大规模产品报废的发生。
一种光刻条件控制方法

[发明专利]一种阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置-CN201811352465.8在审
发明人：付婷婷;葛邦同 -专利权人：惠科股份有限公司
申请日： 2018-11-14 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：其中，该阵列基板的制造方法包括依次沉积于基板上的栅金属薄膜层、栅绝缘层、半导体层、以及金属层；在该金属层上涂覆一层光刻胶，通过曝光、显影形成未曝光区域、部分曝光区域以及完全曝光区域；通过第一次灰化处理去除部分曝光区域的光刻胶，暴露出对应所述部分曝光区域的金属层，通过湿蚀刻，形成金属层凹坑，通过第二次灰化处理将第一次灰化处理未刻蚀掉的残余的光刻胶刻蚀掉，进行干蚀刻，形成薄膜晶体管沟道区域图形。这样，通过采用第二次灰化处理，将残余的光刻胶刻蚀掉，保证光刻胶与金属层的边缘相齐平，降低了金属层与光刻胶之间的尺寸偏差。
一种阵列制造方法显示面板显示装置

[实用新型]一种内层线路板曝光对位结构-CN201420493325.3有效
发明人：许晓龙;陈德章;李加余 -专利权人：胜宏科技（惠州）股份有限公司
申请日： 2014-08-29 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：一种内层线路板曝光对位结构，包括内层线路板，内层线路板的四个对角上分别设有一个对位件，所述的对位件由两根直线组成，两直线之间呈十字形，位于内层线路板的四个对角上的各个对位件之间的基点在同一平面上，四个基点组成的局域与贴菲林曝光的图形局域相同本实用新型实现菲林与内层线路板之间的快速对位，提高了内层线路板曝光显影质量和速度，曝光后以及蚀刻后的内层线路板只需要肉眼就能够快速有效的检查出内层线路板是否存在曝光偏差，减少了内层线路板的损耗，及时监控线路板曝光的品质
一种内层线路板曝光对位结构

[发明专利]掩模台扫描倾斜的测量方法及装置-CN200910045594.7有效
发明人：江传亮 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-01-20 - 公布日： 2009-07-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模台扫描倾斜的测量方法及装置，所述方法包括：1.在掩模台上放置一测试掩模，其上具有多列对准标记；2.移动掩模台，使测试掩模上的一列对准标记位于曝光光源系统的视场中心；3.开启曝光光源，使多个对准标记成像于投影物镜下方>f转化为对准标记垂向位置相对于投影物镜物方焦面的高度差Z_i；6.重复执行步骤2至5，以获取对应于不同列的对准标记的Z_i，并根据掩模台的扫描倾斜偏差与Z_i之间的关系，建立多个相应的扫描倾斜偏差模型；7.根据多个模型计算出掩模台的扫描倾斜偏差。
掩模台扫描倾斜测量方法装置

[发明专利]一种提高内层曝光对位精度的方法-CN201610266379.X在审
发明人：喻恩 -专利权人：深圳崇达多层线路板有限公司
申请日： 2016-04-26 - 公布日： 2016-07-13 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高内层曝光对位精度的方法，包括以下步骤：a、在对应于内层芯板第一表面的菲林上制作第一标尺，所述第一标尺由至少3根均匀分布的刻度线组成；b、在对应于内层芯板第二表面的菲林上制作第二标尺，第一标尺刻度线间距较第二标尺间距大0.005mm，两面曝光后，通过读取两标尺的偏移量可测出曝光对位的偏差量，即对位精度，可将对位精度提高至5μm，并且测量方法简单快捷，可以直接读取对位精度，可有效检验曝光制程能力，并提升曝光精度。
一种提高内层曝光对位精度方法

[发明专利]光学邻近修正方法、掩膜版制作及半导体结构的形成方法-CN202010912778.5在审
发明人：王占雨;贺婷;覃柳莎;王杰;张迎春 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法、掩膜版制作及半导体结构的形成方法，包括：提供第一目标版图，所述第一目标版图中包括第一目标图形和第二目标图形；获取第一曝光图像，所述第一曝光图像中包括第一曝光图形和第二曝光图形；根据所述第一目标版图对所述第一曝光图像进行检测由于获取的第二目标版图中的图形经过了补偿修正，因此能够降低因第一目标图形和第二目标图形之间相互吸引而带来的图形位置的偏差，提升了修正后的图形效果，进而提升最终由所述第二目标版图所形成的半导体结构的性能。
光学邻近修正方法掩膜版制作半导体结构形成

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