专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种曝光用高精度CCD对位结构-CN202123355067.1有效
  • 朱育浩 - 广州志信电子有限公司
  • 2021-12-28 - 2022-09-09 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种曝光用高精度CCD对位结构,包括箱体、转向杆和显示器,所述箱体的底部固定连接有机体,所述机体的顶部靠近右侧处固定连接有开关按钮,所述箱体的底部为开口设置,所述箱体的内腔靠近顶部处固定连接有固定条所述固定条的底部开设有第一滑槽,所述第一滑槽的内腔活动连接有束线滑块,所述束线滑块的底部固定连接有若干个传输线,若干个所述传输线的底端共同固定连接有CCD相机,通过各部件间的相互配合,使得该设备具有多方位可调整功能,通过调整曝光位置能够更加精准的对准曝光点,减小位置偏差的情况出现。
  • 一种曝光高精度ccd对位结构
  • [发明专利]成像设备及其快门控制方法-CN201410123290.9有效
  • 陶冶 - 深圳市大疆创新科技有限公司
  • 2014-03-28 - 2014-06-04 - H04N5/235
  • 所述振动感知单元对所述成像设备的振动状态进行感知,获取所述成像设备的振动信息;所述分析单元对所述振动信息进行频谱分析,得到所述成像设备振动中的主振动的振动周期和相位信息;所述计算单元根据所述主振动的振动周期和相位信息计算最优曝光时间点;所述最优曝光时间点为使得所述主振动在预定的曝光时长内总的角位移为最小值的时间点;所述快门控制单元在接收到拍摄指令后,控制所述成像设备的快门在与所述最优曝光时间点的偏差值不超过预定范围的时间内开启。
  • 成像设备及其快门控制方法
  • [发明专利]广告投放方法、装置、存储介质及电子设备-CN202110642108.0有效
  • 邱明涛 - 北京有竹居网络技术有限公司
  • 2021-06-09 - 2023-07-11 - G06Q30/0242
  • 本公开涉及一种广告投放方法、装置、存储介质及电子设备,方法包括:在预设唤醒时刻唤醒ocpm计划;针对预设投放周期内的每一时段,获取时段内的线索实际完成进度以及曝光实际完成进度;在线索实际完成进度晚于针对时段预设的线索分段完成进度的情况下,增加对ocpm计划对应的广告进行投放的概率;并,根据线索实际完成进度与针对预设投放周期预设的总目标线索量之间的关系以及曝光实际完成进度与针对预设投放周期预设的总目标曝光量之间的关系,确定是否唤醒cpm计划,在固定成本下cpm计划是以曝光量为目标的投放计划,ocpm计划是以转化量为目标的投放计划,避免在其中一个目标达到其设定的目标量的同时,另一个目标相较于其设定的目标量产生偏差
  • 广告投放方法装置存储介质电子设备
  • [发明专利]压模-CN98805759.X无效
  • 欧夫·约赫曼;奥克·比尔曼 - 阿尔法瑞典股份公司
  • 1998-05-29 - 2004-03-31 - G11B7/26
  • 106)和用以形成该半制成压模后表面的第二表面(112);该圆盘形构件(100)的第一表面为适于结构化且基本上未预结构化的;b)在上述第一表面(105)上施加一辐照敏感层(120;240),以提供一未经曝光且能够曝光的半制成压模;c)将此未曝光的半制成压模封装在一保护性外壳中(S50),以使该敏感膜基本上保持在未被曝光;以及d)在执行步骤c)之前对此半制成压模进行处理(S30),以使其几何形状适于安装在注模机中;所述处理包括对半制成压模的上述第二表面(112)进行处理,以获得小于2微米的平均表面偏差值(Rz)。
  • 压模
  • [发明专利]压模及其制造方法-CN98807258.0无效
  • 埃克·比尔曼;奥文·奥曼 - 图莱克斯阿尔法股份公司
  • 1998-07-15 - 2000-08-23 - G11B7/26
  • 100;130)的可结构化表面部分(106’)的导轨(6;6’);所述可结构化表面部分(106’)是平坦的,并且实质上未结构化;b)在所述第一表面(105)上涂覆辐照敏感层(120;240),从而提供未曝光,并可曝光的半成品压模;c)把未曝光的半成品压模装入保护性包装盒中),使敏感膜保持未曝光状态;及d)在进行步骤c)之前,处理半成品压模(530),所述处理包括d1)处理半成品压模的所述第二表面(112),以便得到小于2微米的平均表面偏差值(Rz)。
  • 及其制造方法
  • [发明专利]一种无毛刺的光刻方法-CN201711140134.3有效
  • 王世伟 - 成都海威华芯科技有限公司
  • 2017-11-16 - 2020-04-21 - G03F7/20
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,具体涉及一种无毛刺的光刻方法,包括以下步骤:S1、对晶圆进行预处理后在晶圆上涂覆一层负型光刻胶,通过光刻版对负型光刻胶进行选择性曝光,光刻机曝光剂量为100mj‑150mj,焦距偏差值小于1μm;S2、对曝光后的晶圆进行第一次旋覆浸没式显影,显影时间为40‑60s;S3、在步骤S2后对晶圆进行第二次旋覆浸没式显影,显影时间为40‑60s。本发明根据负型光刻胶的特性,通过限定曝光量、曝光焦距及2‑3次旋覆浸没式显影的时间,可以使负型光刻胶很好地形成上宽下窄、下层向内凹陷的图形,使金属在蒸镀过程中不会连续性布满在光刻胶上,从而避免光刻胶下层与金属粘连
  • 一种毛刺光刻方法
  • [发明专利]曝光装置以及图像形成装置-CN200710162920.3无效
  • 宫泽孝雄 - 精工爱普生株式会社
  • 2007-09-27 - 2008-05-14 - B41J2/447
  • 提供一种曝光装置以及图像形成装置,其中该曝光装置的第一元件列包括沿X方向排列的多个发光元件,第二元件列包括位于在Y方向上和第一元件列的各发光元件隔开的位置并沿X方向排列的多个发光元件。透镜(44)将来自第一元件列及第二元件列的各发光元件的出射光向被曝光面聚光。通过来自第一元件列及第二元件列各自的发光元件对被曝光面进行多次曝光。由此抑制光点区域的尺寸和能量强度的偏差
  • 曝光装置以及图像形成
  • [发明专利]图像形成装置-CN201710048523.7有效
  • 滨中隆宏 - 株式会社东芝;东芝泰格有限公司
  • 2017-01-20 - 2019-11-05 - H04N1/00
  • 一种图像形成装置,能够抑制各色的图像间的偏差。图像形成装置具备:偏向器,使得由光源射出的激光朝向各色的光路而向主扫描方向偏向;感光体,位于各所述光路,通过曝光于激光而形成的静电潜影的显影,形成各色的图像;镜子,位于各所述光路,朝向各所述感光体反射激光;位移机构,设置于各所述镜子,为了校正各色的图像间的倾斜偏差而使所述镜子位移;以及控制部,根据各色的图像的倾斜校正量,校正各色的图像在所述主扫描方向的倍率。
  • 图像形成装置

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