专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光掩模、光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法-CN201910982223.5有效
  • 今敷修久;吉川裕;菅原浩幸 - HOYA株式会社
  • 2015-07-16 - 2023-10-27 - G03F1/32
  • 本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩模的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案,上述转印用图案具有:由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案;配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案;以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部,上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度d具有规定的关系。
  • 光掩模制造方法以及显示装置
  • [发明专利]光照射装置-CN202010788061.4有效
  • 紫藤和孝 - HOYA株式会社
  • 2020-08-07 - 2023-10-27 - B41F23/04
  • 本发明提供一种即使是具有玻璃罩的结构,也能够减少杂散光的产生的光照射装置。光照射装置具有:光源单元,其具有基板,和配置在基板的表面上的多个发光元件;玻璃罩,其相对于多个发光元件的光轴而大致垂直地配置;一对分隔板,其以划分多个发光元件的光通过区域的方式,配置在多个发光元件与玻璃罩之间;壳体,其收容光源单元、玻璃罩以及分隔板,一对分隔板以朝向玻璃罩扩展的方式,相对于多个发光元件的光轴以规定的角度倾斜,在一对分隔板的彼此相对的面的多个发光元件侧,具有对来自于多个发光元件的光进行导光的镜面,在玻璃罩侧具有吸收在光通过区域内产生的杂散光的光吸收部。
  • 照射装置
  • [发明专利]眼用透镜、其设计方法、制造方法以及眼用透镜组-CN201880097458.X有效
  • 下条朗;中泽一雄 - HOYA株式会社
  • 2018-12-10 - 2023-10-17 - G02C7/06
  • 提供眼用透镜及其相关技术,该眼用透镜为,在中间部(3)中,具有部分(A)和部分(A’),所述部分(A)在从中央朝向周边的(X)方向上观察时,在中间部(3)的外缘配置成环状,在使度数相比于远用部(2)的远用度数或者近用部(1)的近用度数进一步增强之后减弱的,所述部分(A’)在与(X)方向正相反的方向并且是从中央朝向周边的(X')方向上观察时,也在中间部(3)的外缘配置成环状,在使度数相比于远用部(2)的远用度数或者近用部(1)的近用度数进一步增强之后减弱。
  • 透镜设计方法制造以及
  • [发明专利]光掩模制造方法、检查方法及装置、描绘装置-CN201910879805.0有效
  • 剑持大介 - HOYA株式会社
  • 2016-02-06 - 2023-10-10 - G03F1/68
  • 本发明提供光掩模制造方法、检查方法及装置、描绘装置,能够提高在被转印体上形成的图案的坐标精度。本发明的光掩模的制造方法具有:准备图案设计数据A的工序;准备表示基板的厚度分布的厚度分布数据T的工序;准备表示在曝光装置上保持光掩模时的主表面的形状的转印面形状数据C的工序;采用厚度分布数据T和转印面形状数据C来获得描绘差值数据F的工序;估算与描绘差值数据F对应的主表面上的多个点处的坐标偏差量来求出描绘用坐标偏差量数据G的工序;采用描绘用坐标偏差量数据G和图案设计数据A在光掩模坯体上进行描绘的描绘工序。
  • 光掩模制造方法检查装置描绘
  • [发明专利]掩模坯料、相移掩模及半导体器件的制造方法-CN202310713382.1在审
  • 前田仁;大久保亮;堀込康隆 - HOYA株式会社
  • 2019-01-08 - 2023-10-03 - G03F1/32
  • 本发明涉及一种掩模坯料,其在透光性基板上具备相移膜,所述相移膜是在与所述透光性基板相反侧的表面及其附近的区域具有氧的含量增加的组成梯度部的单层膜,所述相移膜由含有选自非金属元素及半金属元素中的1种以上元素、氮及硅的材料形成,对所述相移膜进行X射线光电子能谱分析,获得所述相移膜中的Si2p窄谱的光电子强度的最大峰PSi_f,并对所述透光性基板进行X射线光电子能谱分析,获得所述透光性基板中的Si2p窄谱的光电子强度的最大峰PSi_s,此时,用所述相移膜中的最大峰PSi_f除以所述透光性基板中的最大峰PSi_s而得到的数值(PSi_f)/(PSi_s)为1.09以下。
  • 坯料相移半导体器件制造方法
  • [发明专利]光罩基底、转印用光罩的制造方法以及半导体设备的制造方法-CN201880031374.6有效
  • 桥本雅广;内田真理子 - HOYA株式会社;HOYA电子新加坡股份有限公司
  • 2018-05-15 - 2023-10-03 - G03F1/54
  • 提供一种光罩基底、转印用光罩的制造方法以及半导体设备的制造方法,在进行EB缺陷修正的情况下能够抑制透光性基板的表面粗糙的发生并且能够抑制在遮光膜的图案中发生自发性蚀刻。在透光性基板上具备用于形成转印图案的遮光膜,遮光膜通过由硅元素和氮元素组成的材料形成或者通过进一步包含从准金属元素和非金属元素中选择的一种以上的元素的材料形成,将除了遮光膜的与透光性基板的界面的附近区域和遮光膜的与透光性基板位于相反侧的表层区域之外的内部区域中的Si3N4结合的存在数量除以Si3N4结合、SiaNb结合(其中,b/[a+b]<4/7)以及Si‑Si结合的总存在数量的比值为0.04以下,将遮光膜的内部区域中的SiaNb结合的存在数量除以Si3N4结合、SiaNb结合以及Si‑Si结合的总存在数量的比值为0.1以上。
  • 基底用光制造方法以及半导体设备
  • [发明专利]显示装置制造用光掩模以及显示装置的制造方法-CN201810208726.2有效
  • 今敷修久 - HOYA株式会社
  • 2018-03-14 - 2023-09-12 - G03F1/54
  • 本发明提供一种在显示装置的制造所应用的曝光条件下,能够兼顾优异的分辨性与生产效率的光掩模。光掩模所具备的转印用图案是用于在被转印体上形成孔的孔图案,其具有露出透明基板的直径W1的透光部;包围透光部的宽度R的遮光缘部;以及包围遮光缘部的相移部。相移部与透光部的相对于曝光用光的代表波长的光的相位差为大致180度。在透射位于透光部的一侧的相移部的曝光用光形成于被转印体上的光强度分布中,从相移部与遮光缘部的边界位置朝向遮光缘部侧,将直至第一波谷的最小值点B1的距离设为d1,将直至第二波谷的最小值点B2的距离设为d2,此时,满足(d1-0.5×W1)≤R≤(d2-0.5×W1)的条件。
  • 显示装置制造用光以及方法
  • [发明专利]电子内窥镜系统-CN202080032237.1有效
  • 牧野贵雄 - HOYA株式会社
  • 2020-08-31 - 2023-09-08 - A61B1/04
  • 一种电子内窥镜系统,其具备:电子内窥镜;处理器,其具备静止图像获取部,其将由电子内窥镜拍摄的运动图像的一部分作为静止图像来获取;对应处理部,其使与管腔内的活组织的拍摄位置相关的位置信息与所述静止图像相对应;以及记录部,其用于记录所述静止图像和所述位置信息;监视器,其用于显示所述运动图像和所述静止图像;以及输入操作设备,其用于以将预设的所述管腔内的多个位置中的1个位置确定为选择位置的操作作为触发,将从所述运动图像中获取所述静止图像的捕获指令发送到所述静止图像获取部中,进一步地在运动图像的拍摄期间内,将所述选择位置信息作为与所述拍摄位置相关的位置信息发送到所述对应处理部中。
  • 电子内窥镜系统
  • [发明专利]光学玻璃和光学元件-CN201811276115.8有效
  • 盐田勇树 - HOYA株式会社
  • 2018-10-30 - 2023-09-08 - C03C3/247
  • 本发明提供一种光学玻璃和光学元件,上述光学玻璃为具有异常部分色散性的氟磷酸盐玻璃,具有比重小的特性,除此以外,具有温度变化导致的光学特性的变动小、清洗耐性优异、更加高折射低色散、并且耐热性优异这些各种特性。一种光学玻璃,为比重是3.3以下的氟磷酸盐玻璃,满足(a)~(d)中的1者以上。(a)He‑Ne激光的波长(633nm)的相对折射率的温度系数dn/dT在20~40℃的范围为0±5.0×10‑6‑1的范围。(b)在0.01mol/L的三聚磷酸钠Na5P3O10水溶液中浸渍了1小时时的每1cm2的玻璃表面的重量减少量DSTPP为0.4mg/cm2·h以下。(c)折射率nd与阿贝数νd满足下述的关系式(1)。(d)玻璃化转变温度Tg为360℃以上。
  • 光学玻璃光学元件

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