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[发明专利]一种光罩数据比对方法、系统、设备及存储介质-CN202310863396.1在审
发明人：赵雪 -专利权人：长鑫科技集团股份有限公司
申请日： 2023-07-13 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本公开实施例涉及半导体技术领域，公开了一种光罩数据比对方法、系统、设备及存储介质，所述方法包括：将处理后的图形数据与原始数据进行对比，生成异或运算结果文件；对所述异或运算结果文件进行预处理，形成预处理文件；遍历所述预处理文件中差异图形的位置，输出不同图形类型对应的图形尺寸与格点关系；设定每种产品类别对应的异或运算结果判定规则；根据所述图形尺寸与格点的关系，基于产品类别对应的异或运算结果判定规则，获取判定结果。本公开的示例性实施例，能够保证光罩制作的准确性；使得整体效率提升80％，解决了XOR结果的叠对判别在JDV过程中占用时间长的问题。
一种数据方法系统设备存储介质

[实用新型]一种超洁净光罩载具-CN202320828236.9有效
发明人：邱摩西;刘汝拯;陈松平 -专利权人：义柏科技(深圳)有限公司
申请日： 2023-04-04 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种超洁净光罩载具，包括上盖和底盖，所述上盖与所述底盖通过铰链连接，所述上盖和底盖可基于铰链进行旋转，所述上盖外凸缘设有矩形扣位，所述底盖外凸缘设有锁扣，所述锁扣与所述矩形扣位相对设置，实现载具的扣合和分离。本实用新型提供的一种超洁净光罩载具具有减小了光罩与载具之间的接触面积等优点。
一种洁净光罩载具

[发明专利]用于提供宽带光源的方法和装置-CN202180086934.X在审
发明人： P·S·尤贝尔;W·R·庞杰斯;S·T·鲍尔施米特;P·M·格茨;L·范登奥特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种辐射源，用于生成宽带辐射，并且包括：泵浦源，该泵浦源仅包括一个单光纤放大器，该泵浦源被配置辐射，泵浦辐射包括具有2.5μJ或小于2.5μJ的脉冲能量的多个辐射脉冲；以及中空纤芯光纤，包括中空纤芯区域和围绕中空纤芯区域的包层，中空纤芯区域中具有加压气体，并且中空纤芯光纤被设置为在输入端处接收泵浦辐射，其中中空纤芯区域的尺寸被设定为使得辐射脉冲具有高于16的孤子阶数，以便在泵浦辐射沿着中空纤芯光纤传播时，使用调制不稳定性来展宽泵浦辐射的光谱，以用于从中空纤芯光纤的输出端提供输出宽带辐射。
用于提供宽带光源方法装置

[实用新型]一种光罩盒-CN202320262135.X有效
发明人：赵鹏;周宏玉 -专利权人：粤芯半导体技术股份有限公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请提出了一种光罩盒，本申请将上盒体的边框设计为相互分离的第一框体和第二框体，卡扣和弹性件设置于第二框体上，该第二框体与收容槽的边缘可拆卸连接。在上盒体与下盒体通过卡扣锁止的状态下，弹性件持续作用于第二框体，第二框体的应力可以通过邻近第一框体的端部释放，第二框体的边缘不易发生翘曲形变，并且第二框体也不会拉扯邻近的第一框体，因此可以改善甚至消除光罩盒边缘的翘曲形变，降低光罩盒报废的几率，另外，即使第二框体的边缘发生翘曲形变，本申请只需更换第二框体即可。
一种光罩盒

[发明专利]一种光罩盒及其作动方法-CN201811230155.9有效
发明人：潘咏晋;钟承恩 -专利权人：家登精密工业股份有限公司
申请日： 2018-10-22 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种光罩盒及其作动方法，所述光罩盒主要包括一上盖、一定位模块以及一下盖。其中，所述定位模块主要包括一本体、一杠杆部、一致动部以及一推动部。本发明透过所述本体、杠杆部、致动部以及推动部的连动原理，配合第一止挡部的限制，可轻易的达到在光罩盒中定位光罩的功效。
一种光罩盒及其方法

[发明专利]制造掩模组件的方法-CN202310182278.4在审
发明人：金辉;金桢国;宋昇勇;李娥凛;赵恩翡;黄圭焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：公开了掩模组件的制造方法。所述掩模组件的制造方法包括以下步骤：将掩模片张紧；将张紧的掩模片与掩模框架连接；以及在张紧的掩模片中限定开口加工区域以形成分别对应于开口加工区域的开口。限定开口加工区域的步骤包括：在第一方向和与第一方向交叉的第二方向上在张紧的掩模片中限定初始开口加工区域，以确定初始开口加工区域的加工顺序；基于加工顺序，计算在初始开口加工区域中的每个中累积的累积变形量；以及基于累积变形量，校正初始开口加工区域中的每个的尺寸和位置。
制造模组方法

[发明专利]掩膜版及其制备方法-CN202010031358.6有效
发明人：任晶;刘晓佳;王中来;王善鹤 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩膜版及其制备方法。所述掩膜版包括：所述掩膜本体、多个支撑结构和多个折射结构。所述掩膜本体包括多个通孔以及间隔的多个所述掩膜块。每一个所述掩膜块的所述出光面至少设置一个所述支撑结构。每一个所述折射结构靠近所述掩膜块与所述通孔的分界线设置。本申请中，通过在所述掩膜版的所述出光面设置高折射率的所述折射结构，达到了使原本发散的衍射光发生折射，折射光向有效透光区靠近，以缩小衍射光线在待曝光膜层上的照射范围，从而使得被曝光区域面积缩小，曝光精度和分辨率得到提高。
掩膜版及其制备方法

[发明专利]一种提高曝光分辨率的版图结构及制作方法-CN202010446374.1有效
发明人：陈宪宏;曾鼎程;胡展源 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2020-05-25 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种提高曝光分辨率的版图结构及制作方法，位于同一图层、形状为条形结构且自上而下依次平行分布的第一至第三图形；第一图形位于第二图形的左上方，第三图形位于第二图形的右下方；第二图形中非端部的一部分定义为第二分段图形；第一图形右边端部图形定义为第一分段图形；第三图形左边端部定义为第三分段图形；第二分段图形向上完全投影于第一分段图形并且向下完全投影于第三分段图形；并且第一分段图形与第三分段图形的长度均大于所述第二分段图形的长度。本发明通过延伸邻近的图形将空间变的紧密,更加适合曝光光源的最佳设定空间周期,有效地提升在曝光时的空间影像对比度,降低工艺变化带宽,并扩大工艺窗口。
一种提高曝光分辨率版图结构制作方法

[发明专利]金属网格、薄膜传感器及掩膜板-CN202180001657.8在审
发明人：贾孟文;于海;张亚飞;王亚丽;张东东;曲峰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种金属网格，包括：多条延伸方向交叉设置的第一金属线(11)和第二金属线(12)；各第一金属线(11)沿第一方向并排设置，且沿第二方向延伸；各第二金属线(12)沿第一方向并排设置，且沿第三方向延伸；其中，第一金属线(11)包括沿第二方向依次连接的多个第一子线段，第二金属线(12)包括沿第三方向依次连接的多个第二子线段；一个第一子线段与一个第二子线段的中点重合，且中点重合的第一子线段和第二子线段构成一个交叉结构(10)，并限定出相对设置的两个第一夹角(θ1)和两个第二夹角(θ2)；第一夹角(θ1)的角度不大于第二夹角(θ2)的角度。还提供一种薄膜传感器及一种掩膜版。
金属网格薄膜传感器掩膜板

[发明专利]掩膜结构、光栅结构、光栅母版与压印模板的制备方法-CN202310391158.5在审
发明人：黄河;张雅琴;楼歆晔 -专利权人：上海鲲游科技有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩模结构，掩模结构包括：沿第一方向排列的若干掩模单元；掩模单元沿第一方向的宽度适配于光栅结构的光栅周期；掩模单元包括：第一图形化区域，用于制备光栅单元的凸起部分；第一图形化区域沿第一方向的宽度适配于对应的光栅单元的凸起部分沿第一方向的宽度；第二图形化区域，用于制备光栅单元的凹槽部分；第二图形化区域沿第一方向的宽度适配于对应的光栅单元的凹槽部分沿第一方向的宽度；其中，第二图形化区域具体包括：若干图形化子单元，图形化子单元包括遮光区域与透光区域；凹槽部分的凹槽深度与透光区域沿第一方向的宽度相关。本发明提供的掩膜结构可以用于制备深度调制的光栅结构、降低了工艺复杂度及工艺难度。
膜结构光栅结构母版压印模板制备方法

[发明专利]掩膜版以及虚拟沟道孔的制作方法-CN202110219733.4有效
发明人：郑亮;刘隆冬;黄海辉;郑安发 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本公开实施例公开了一种掩膜版以及虚拟沟道孔的制作方法。所述掩膜版应用于三维存储器中虚拟沟道孔的制作，包括：掩膜图案阵列，包括：沿第一方向并列设置的多个第一子图案；其中，所述第一子图案位于所述掩膜图案阵列最外侧；每个所述第一子图案包括：第一凹部；其中，所述第一凹部沿所述第一子图案边缘向所述第一子图案中心凹陷；所述第一凹部的开口朝向所述掩膜图案阵列的外侧；位于所述掩膜图案阵列同一侧的所述多个第一子图案的所述第一凹部的开口朝向相同。
掩膜版以及虚拟沟道制作方法

[发明专利]一种晶圆边缘曝光装置、方法及光刻设备-CN202010423426.3有效
发明人：梁学玉 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种晶圆边缘曝光装置、方法及光刻设备。其中装置包括晶圆承载模块、掩模版、掩模版驱动模块、对准模块、曝光模块及控制模块；晶圆承载模块用于承载晶圆，带动晶圆旋转；晶圆包括有效区域和围绕有效区域的边缘区域，边缘区域包括至少一个凹口单元；掩模版的形状与有效区域的形状相同；掩模版驱动模块用于驱动掩模版旋转；对准模块用于检测掩模版和晶圆的对准状态；控制模块用于控制晶圆承载模块和掩模版驱动模块的运动状态，还用于在对准模块检测到掩模版和晶圆对准时控制曝光模块对晶圆进行晶圆边缘曝光。本发明实施例的技术方案，在进行晶圆边缘曝光时可以避免对晶圆有效区域的损伤，提高产品良率。
一种边缘曝光装置方法光刻设备

[发明专利]一种掩模板、背板、背光源以及背板制作方法-CN202010922471.3有效
发明人：徐文结;郭总杰;王静;谢晓冬;储微微;於飞飞 -专利权人：合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板、背板、背光源以及背板制作方法，所述掩模板，包括阵列排布的多个掩模结构；按照预设方向串联各行或列的掩模结构的第一掩模结构线，以及至少一个与所述第一掩模结构线对应设置的第二掩模结构线，所述第二掩模结构线串联部分由所述第一掩模结构线串联的掩模结构。本发明提供的实施例通过在第一掩模结构线的基础上增加至少一条第二掩模结构线，通过第二掩模结构线部分串联掩模结构，使得在玻璃基板的无效区形成的与第二掩模结构线对应的第二数据线能够有效串联与掩模结构对应的焊盘，从而将无效基板转化成电性连接的有效基板，提高了玻璃基板的有效利用率，降低玻璃基板成本，具有广泛的应用前景。
一种模板背板背光源以及制作方法

[发明专利]测试位线异常的版图、测试方法及光掩模的制作方法-CN202310324850.6在审
发明人：汤志林;付永琴;王卉;曹子贵 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了测试位线异常的版图、测试方法及光掩模的制作方法，测试位线异常的版图包括第一测试版图和第二测试版图，所述第一测试版图用于测试所述位线第一方向的异常，所述第二测试版图用于测试所述位线第二方向的异常，所述第一测试版图和所述第二测试版图均包括有源区图案、位线图案和栅极图案，所述位线图案的投影在所述有源区图案的投影内，所述第一测试版图中所述有源区图案和所述栅极图案呈相互平行设置，所述第二测试版图中所述有源区图案和所述栅极图案呈相互垂直设置。通过第一测试版图测试位线第一方向的异常，第二测试版图测试位线第二方向的异常，从而准确定位位线异常的具体位置，更加有效地监测生产线异常情况。
测试异常版图方法光掩模制作方法

[实用新型]一种光罩驱动系统-CN202320728999.6有效
发明人：徐伟峰;雷远坤 -专利权人：深圳杰微芯片科技有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种光罩驱动系统，包括：光罩定位装置，用于放置光掩模板，为圆形结构；移动装置，位于光罩定位装置的下方，与所述光罩定位装置连接，用于驱动光罩定位装置移动，所述移动装置包括圆形凸台，所述光罩定位装置套设与所述圆形凸台，且所述光罩定位装置与所述圆形凸台之间通过滚珠可转动连接；所述移动装置还设有驱动部件，所述驱动部件用于驱动光罩定位装置的旋转；本实用新型的光罩定位装置与移动装置层叠设置，机械结构简单，并且光罩定位装置与移动装置通过滚珠可转动连接，能够驱动光罩定位装置的角度转动，满足了更为复杂的加工需求。
一种驱动系统

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