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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光刻设备-CN200510114473.5有效
发明人：吴恒忠 -专利权人：中华映管股份有限公司
申请日： 2005-10-27 - 公布日： 2007-05-02 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种光刻设备，适于对于基板进行光刻工艺。此光刻设备包括光刻胶涂布及显影装置、曝光装置以及气浮输送装置，其中基板自光刻胶涂布及显影装置移出时，基板具有第一温度范围。气浮输送装置设置于光刻胶涂布及显影装置与曝光装置之间，而气浮输送装置适于将基板输送至曝光装置。气浮输送装置所喷出的气体具有第二温度范围，其中第二温度范围为第一温度范围之部分。基于上述，本发明之光刻设备所形成的图案的变化量能够缩小。
光刻设备

[实用新型]光刻设备-CN202221835507.5有效
发明人：柳龙焕;朴商鎭;李沙罗;朱成培 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：提供了光刻设备。该光刻设备包括清洁目标衬底的清洁单元、干燥从清洁单元提供的目标衬底的干燥单元以及通过在从干燥单元提供的目标衬底上涂布光刻胶来形成光刻胶层的涂布单元。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN202310893295.9在审
发明人：杨凯;戴晓霖;陈东;何少锋 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备，包括：控制系统、激光系统、成像系统和运动系统，所述激光系统与所述控制系统连通，所述激光系统用于提供光斑图案；所述成像系统与所述激光系统连接，根据所述光斑图案提供激光到指定位置；这样，通过使用控制系统、激光系统、成像系统和运动系统构成光刻设备，在光刻设备的结构设计过程中，光刻设备内能够节省掩膜板的设计，以让光刻设备的结构得到简化，以实现数字化生产，且由于节省了掩膜板的设计使用，能够减低光刻设备的生产成本。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN201980035504.8在审
发明人： M·A·范德克尔克霍夫;M·A·G·梅尔克斯;彼得-詹·范兹沃勒 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-05-10 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明披露了一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；图案形成装置(601)，配置成在辐射束的横截面中将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；表膜(602)，配置成覆盖图案形成装置(601)的表面；
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN201980035923.1在审
发明人： M·A·G·默凯科斯;A·P·F·A·M·古森斯;S·范德格拉费;D·W·J·范德威尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于向EUV光刻设备提供氧气(O2)的气体流量控制系统，该气体流量控制系统包括：被配置为连接到第一气体源的第一入口，第一气体包括氧气(O>)气体；气体流量控制系统被配置为混合第一气体和第二气体以获得包括稀释的氧气(O2)的混合气体；气体流量控制系统还包括：被配置为将第一量的混合气体输出到EUV光刻设备的内部的第一出口；以及被配置为将第二量的混合气体输出到EUV光刻设备外部的收集容器的第二出口。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN202080042598.4在审
发明人：亚瑟·温弗里德·爱德华达斯·明内尔特;S·伯恩特松;J·H·J·莫尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于光刻设备的光学系统的保护装置，该光学系统采用具有预定波长的电磁辐射，该保护装置包括膜，该膜对于所述预定波长的辐射是透明的，并且所述膜在所述光刻设备的使用期间被定位成邻近所述光学系统的部件。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN202080049944.1在审
发明人： M·A·范德凯克霍夫;S·阿坎塔;J·H·J·穆尔斯;V·Y·巴宁;S·M·J·詹森斯;A·尼基佩洛维 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-06-05 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：用于支撑衬底的夹持表面，其中夹持表面的属性由至少一个夹持表面参数限定，并且其中夹持表面的属性已被选择为表现出低磨损；夹持设备，用于致动夹持表面与衬底之间的夹持操作，其中夹持操作至少部分地由夹持表面与衬底之间的至少一个界面特性限定
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN202210143131.X在审
发明人：梁学玉 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-02-16 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供了一种光刻设备。该光刻设备包括壳体、工作台、光栅尺、变色结构和检测装置，其中，工作台包括冷却设备和光学结构，冷却设备围设在光学结构的外周，光栅尺位于壳体的内壁上，变色结构位于光栅尺和冷却设备之间的壳体的内壁上，检测装置用于根据变色结构的颜色信息确定冷却设备是否发生液体泄漏该光刻设备包括变色结构和检测装置，变色结构设置在光栅尺和冷却设备之间的壳体内壁上，变色结构在遇到液体时会发生颜色变化，因此，当冷却设备发生液体泄漏，液体流到变色结构上时，变色结构会发生颜色变化，这样只需要用检测装置监控变色结构的颜色信息就可以确定冷却设备是否发生泄漏，从而实现监控光刻设备的冷却水管是否漏水。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN202210996206.9在审
发明人： H·巴特勒;M·J·沃奥尔戴尔冬克;M·W·J·E·威吉克曼斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-01-11 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描述了一种光刻设备，该设备包括：投影系统(PS；200)，所述投影系统被配置为将图案化的辐射束(B)投影到衬底(W)上；所述投影系统包括多个光学元件(200.1、200.2)；传感器框架(220)；第一位置测量系统
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN202011595132.5在审
发明人：仲凯;杨辅强;杨铁刚;刘剑;赵丹平 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻设备，包括主基板、工件台、安装底板、光栅尺及光栅尺读头，所述光栅尺及所述光栅尺读头设置在主基板和工件台之间，所述光栅尺固定在安装底板的一端面上，并通过设置在安装底板的另一端面上的阻尼可调的的粘滞阻尼装置和柔性机构与主基板连接本发明通过调节粘滞阻尼装置中粘滞流体与缸体和活塞的接触面积，进而调节粘滞阻尼装置的阻尼，提高粘滞阻尼装置的振动控制效果，提升光刻设备测量及光刻精度。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN202310773203.3在审
发明人：陈超;涂先勤;姜尧;王鹏;零萍;陈锡媛;许艳;林垂真;王晓 -专利权人：中山新诺科技股份有限公司
申请日： 2023-06-27 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备，其包括：机台、光刻机构、位移机构和调节机构，所述机台上设置有作业位；光刻机构设置于所述机台，所述光刻机构用于对所述作业位上的工件进行光刻作业；所述光刻机构连接有移动组件，所述移动组件能够带动所述光刻机构相对于所述作业位进行位置调节；位移机构设置于所述机台，所述位移机构连接有用于运载物料的载物盘，所述位移机构用于带动所述载物盘相对于所述作业位进行移动；调节机构连接于所述载物盘，所述调节机构用于调节所述载物盘和所述光刻机构之间的相对角度通过调节机构对载物盘和光刻机构之间进行相对的角度调整，从而可以及时、有效地达到角度差的修正效果。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN201510075990.X有效
发明人：恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;J·J·奥坦斯;E·J·M·尤森;J·H·W·雅各布斯;W·P·范德兰特;F·斯塔尔斯;L·J·曼彻特;E·W·博高特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-03-06 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN200910134273.4有效
发明人： C·J·G·范德敦根;N·F·寇普拉斯;M·H·A·里恩德尔;P·M·M·里伯艾格特斯;J·C·H·穆肯斯;E·H·E·C·奥姆梅伦;M·贝克尔斯;R·莫尔曼;C·D·格乌斯塔;D·M·H·菲利普斯;R·J·P·沃黑斯;P·马尔德;E·范维利特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-04-16 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸没式光刻设备，其包括被配置用于供给流体的流体供给系统，所述流体供给系统具有腔，所述腔具有在第一侧壁中的多个进口孔和在第二侧壁中的多个出口孔，所述第一侧壁面对所述第二侧壁，其中，所述进口孔将进入所述腔的流体沿朝在所述多个出口孔之间的第二侧壁的区域的方向引导
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN201410604047.9有效
发明人：徐伟;单世宝 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-11-03 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻设备，其特征在于，包括一基础平台，以及位于所述基础平台上的工件台、掩模台、工件台驱动装置、掩模台驱动装置和平衡质量，所述平衡质量分别连接所述工件台驱动装置和掩模台驱动装置，用以实现所述光刻设备扫描曝光过程中所述工件台和掩模台的同步反向运动
光刻设备

[发明专利]光刻设备-CN200910147536.5有效
发明人： V·普若斯耶特佐夫;S·拉尔巴哈朵尔辛;S·穆萨;李贤宇 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-06-18 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备以及一种用于浸没式光刻设备的衬底平台，所述浸没式光刻设备被设置以将图案化的辐射束从图案形成装置投影到衬底上，所述衬底平台被构建以保持所述衬底并且包括用于感测所述图案化的辐射束的至少一个传感器
光刻设备

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