专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]掩模基板及制造方法、光掩模制造方法和图案转印方法-CN201210187324.1有效
  • 池边寿美;田中敏幸 - HOYA株式会社
  • 2012-06-07 - 2012-12-12 - G03F1/60
  • 本发明涉及光掩模基板及其制造方法、光掩模制造方法和图案转印方法,即使是精细化的转印图案,也能够忠实于图案设计值高精度地进行转印。该光掩模基板用于成为光掩模,该光掩模在主表面形成转印图案,通过安装于接近式曝光装置,与曝光装置的载置台所载置的被转印体之间设置接近间隙地被曝光来进行转印,该光掩模基板通过在主表面上的1个或者多个特定区域进行除去量与特定区域外的周边区域不同的形状加工,形成凹形状、凸形状或者凹凸形状,来降低将光掩模基板安装到曝光装置时产生的接近间隙的基于位置的变动,并且形状加工使从接近间隙的基于位置的变动中提取出的曝光装置所固有的变动降低。
  • 光掩模基板制造方法光掩模图案
  • [发明专利]用于薄膜蒸镀掩模组装体的复合框架要素及其制造方法-CN201910574815.3有效
  • 金永周 - 皮姆思株式会社
  • 2019-06-28 - 2022-09-20 - C23C14/04
  • 本发明涉及用于蒸镀工序掩模组装体的复合框架要素及其制造方法。掩模组装体包括用于对形成有蒸镀开口图案的图案要素进行机械支撑的复合框架要素,上述复合框架要素包括:四边形框架;一个以上的直线条,与上述四边形框架相接合,长度方向位置上的厚度不均匀;以及格子型掩模,配置于一个以上的上述直线条上根据本发明,本发明具有如下优点,即,在向格子型掩模和直线条施加的拉伸力并不大的状态下,可通过直线条的厚度不同的部分,来在格子型掩模的中心部分提供垂直支撑力,因此,可同时减少格子型掩模下垂量及框架弯曲程度,从而提高掩模位置精密度。
  • 用于薄膜蒸镀用掩模组复合框架要素及其制造方法
  • [发明专利]掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模-CN201910915865.3在审
  • 宫崎由宽 - HOYA株式会社
  • 2019-09-26 - 2020-04-07 - G03F1/26
  • 本发明提供光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模,目的在于减少光掩模的缺陷的产生,提高光掩模制造的生产效率及品质。一种光掩模基板的制造方法,上述光掩模基板在透明基板(1)上具有遮光膜(3),其用于通过至少将上述遮光膜(3)图案化而形成包含透光部和遮光部的转印图案从而制成光掩模,其中,遮光膜(3)包含分别具有光密度OD为1.5以上的遮光性的上层(3b)和下层(3a),上述光掩模基板的制造方法具有下述工序:在透明基板(1)上形成下层(3a)的工序;对下层(3a)的表面实施第1异物除去处理的工序;和在下层(3a)上形成上层
  • 光掩模基板制造方法光掩模
  • [发明专利]混合线条的制造方法-CN201110263770.1有效
  • 唐波;闫江 - 中国科学院微电子研究所
  • 2011-09-07 - 2013-03-20 - H01L21/027
  • 本发明提供了一种混合线条的制造方法,包括以下步骤:A、在底层上依次形成材料层、第一硬掩模层和第二硬掩模层;B、对第二硬掩模层光刻/刻蚀形成第二硬掩模图形;C、在第一硬掩模层上形成光刻胶掩模图形;D、以第二硬掩模图形和光刻胶掩模图形为掩模,刻蚀第一硬掩模层,形成第一硬掩模图形;E、以第一和硬掩模图形为掩模,刻蚀材料层,形成第一线条和第二线条。依照本发明的混合线条制造方法,将同一层次图形按线条大小进行拆分,大线条普通光学曝光,小线条用电子束曝光,旨在不影响图形质量的前提下大幅缩减曝光时间。
  • 混合线条制造方法
  • [实用新型]胶片曝光装置-CN201220408290.X有效
  • 金尾正康;佐藤敬行;冨塚吉博 - 株式会社V技术
  • 2012-08-17 - 2013-03-13 - G03F7/20
  • 一种胶片曝光装置,向胶片状的被曝光体上曝光掩模图形,通过抑制曝光面上产生的褶皱,而在曝光面上形成高精度的图形。确保用于配置对准摄像机的空间。胶片曝光装置(1)包括:胶片运送部(2);光掩模(3);掩模保持部(4),将光掩模(3)保持在被曝光体F的曝光面a上;以及光照射部(5(5A、5B)),向光掩模(3)的掩模图形照射光。光掩模(3)具有沿被曝光体F的运送方向配置的第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)。胶片运送部(2)具有与第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)的位置对应而配置的一对支承辊(21、22),一对支承辊(21、22)支持曝光第1掩模图形(31)和第2掩模图形(32)的曝光面a的相反一侧的面
  • 胶片曝光装置
  • [实用新型]一种激光打标掩模-CN201120316467.9有效
  • 邵嘎;孙飞;贾莲莲;王宏 - 浙江龙游道明光学有限公司
  • 2011-08-29 - 2012-05-23 - B41J2/435
  • 本实用新型公开了一种激光打标掩模,本实用新型包括石英玻璃层和全反射层,所述的全反射层为一层金属薄膜,所述的全反射层镀覆在石英玻璃层表面。所述的全反射层为一层耐500℃以上高温的金属薄膜。掩模制作工艺简单,适合批量生产,该掩模能够耐受高温,使用寿命长,掩模选用的石英玻璃大大提高了制作精度,使用后的掩模可以有机化学溶剂擦洗掉,可以重复使用,大大节约成本。
  • 一种激光打标用

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