专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种具有LSPR效应的银基纳米尖锥阵列SERS基底制备方法-CN202310873814.5在审
  • 成鸣飞;王久川;吴静;凌壮壮;葛黄蓉 - 南通大学
  • 2023-07-14 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本发明为一种具有LSPR效应的银基纳米尖锥阵列SERS基底制备方法,包括以下步骤:步骤1:制备PS薄膜,该膜无色透明且表面无孔洞,是制备纳米尖锥阵列结构的前提;步骤2:通过热压印,获得具有纳米尖锥阵列结构的PS模板;步骤3:对步骤2获得的PS尖锥模板进行刻蚀处理,获得高重复性的微纳尖锥阵列模板;步骤4:对步骤3处理后的PS尖锥模板进行蒸镀处理,获得贵金属基纳米尖锥阵列的SERS基底。本方法基于纳米限域压印、多角度物理沉积等方式,低成本实现了大面积贵金属基纳米尖锥阵列结构的可控制备。该工作对高灵敏、高重复性SERS传感器件的开发具有重要的基础研究意义,同时在微纳流控器件的传感检测研究方面具有显著潜力。
  • 一种具有lspr效应纳米阵列sers基底制备方法
  • [发明专利]一种掩膜版制作方法及掩膜版-CN202311078017.4在审
  • 王广成;甘帅燕 - 江苏高光半导体材料有限公司
  • 2023-08-25 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜版制作方法及掩膜版。本发明提供的掩膜版制作方法包括如下步骤:在掩膜版基板上加工预设开口,预设开口的尺寸小于实际开口的尺寸,将加工有预设开口的掩膜版基板张紧固定于支撑框架上,对固定于支撑框架上的掩膜版基板进一步加工,以将预设开口增大至实际开口。该掩膜版制作方法减少了掩膜版在制作过程中产生的偏差,提高了对掩膜版的制作精度,满足了高精度显示产品以及窄边框显示产品的需求,并且制作方法简单便捷。本发明提供的掩膜版采用上述掩膜版制作方法进行制作,提高了对掩膜版的制作精度,满足了高精度显示产品以及窄边框显示产品的需求,并且制作简单便捷。
  • 一种掩膜版制作方法
  • [发明专利]蒸发源装置、蒸镀装置及蒸发源装置的控制方法-CN202110549052.4有效
  • 竹见崇;市原正浩;山田尚人 - 佳能特机株式会社
  • 2021-05-20 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本发明涉及蒸发源装置、蒸镀装置及蒸发源装置的控制方法,提供一种能够使蒸镀速率在蒸镀时长期稳定的技术。一种蒸发源装置,具备:容器,所述容器收容有蒸镀材料;加热部件,所述加热部件具有第一加热部和第二加热部,所述第一加热部对容器的包含有蒸镀材料的放出口的上部区域进行加热,所述第二加热部对容器的包含有底部的下部区域进行加热;以及控制部件,所述控制部件控制加热部件的加热输出,其特征在于,相对于蒸镀期间中的第一时间点的第一加热部的加热输出,控制部件使蒸镀期间中的比第一时间点靠后的第二时间点的第一加热部的加热输出增大。
  • 蒸发装置控制方法
  • [发明专利]一种陶瓷专用的高光泽度镀膜设备及镀膜工艺-CN202211021800.2有效
  • 黄伟树;吴瑜;陈燕洁;陈纯 - 潮州市汇鑫陶瓷科技有限公司
  • 2022-08-24 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本发明涉及一种陶瓷专用的高光泽度镀膜设备及镀膜工艺,包括清洗机,所述清洗机的一端固定连接有底涂机,所述底涂机的一侧固定连接有真空镀膜机,所述清洗机的一端固定连接有清理机构,所述清理机构的一侧固定连接有第一电机,所述清洗机的内壁安装有转轴,所述清洗机的内壁转动固定连接有微波发生器。通过设置多个设备相互配合使用,在对陶瓷基材进行首次清洗除尘他同时进行快速的风干,之后进行底涂并且之后进行烘干,大大提高陶瓷基材高光泽度的同时,有效提高效率,对陶瓷基材依次进行清洗、底涂、预热、刻蚀及镀膜的操作,提升了镀层的附着度他同时大大提升了镀层的均匀性,进而增强了陶瓷基材的质量。
  • 一种陶瓷专用光泽镀膜设备工艺
  • [发明专利]沉积装置-CN202080023713.3有效
  • 文炳竣;金宣基;崔虔熏;曹永秀 - LG电子株式会社
  • 2020-01-21 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本发明的目的是提供一种沉积装置,其能够最小化用于加热坩埚的热量到达衬底的情况,并且还能够有效地缓解堵塞。该沉积装置包括:坩埚;布置在坩埚外部以加热坩埚的加热器部分;用于将从沉积原料蒸发的沉积材料供应到沉积进行制品的多个喷嘴;以及布置在加热器部分外部的冷却部分,并且该沉积装置还可以包括屏蔽部分、热电模块和喷嘴块中的至少一者。
  • 沉积装置
  • [发明专利]成膜装置及电子器件的制造方法-CN202210327314.7有效
  • 梅津琢治;森下昌史 - 佳能特机株式会社
  • 2022-03-30 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本发明提供能够抑制装置的大型化并且抑制润滑剂的飞散的成膜装置及电子器件的制造方法。具备:导轨(10),其附着有润滑剂;成膜源单元,其至少具有成膜源,一边抵接于导轨(10)一边在沿着导轨(10)的移动方向上移动;以及罩构件(61),其安装于所述成膜源单元,覆盖导轨(10)的一部分,在所述成膜源单元位于移动范围的端部时,罩构件(61)的所述移动方向上的长度成为第1长度,在所述成膜源单元移动时,罩构件(61)的所述移动方向上的长度成为比所述第1长度长的第2长度。
  • 装置电子器件制造方法
  • [发明专利]一种密闭式坩埚和使用该坩埚的蒸镀方法-CN201710859094.1有效
  • 申永奇 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2017-09-21 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本发明涉及一种密闭式坩埚,包括:具有放置材料的腔室的坩埚主体,对坩埚主体的腔室进行覆盖密封的盖板;密闭式坩埚还包括与盖板连接的气压驱动装置,气压驱动装置驱动盖板相对于腔室移动,从而开启和关闭腔室;气体驱动装置包括气缸,气缸内设置有间隔件,间隔件被配置为在气压作用下相对于气缸移动并将气缸分隔成第一气室和第二气室,第一气室设置第一阀门,第二气室设置第二阀门,间隔件上位于第一气室的一侧设置有连接盖板的驱动杆,驱动杆配置为驱动盖板移动进而密闭或开启腔室。本发明还涉及一种使用该坩埚的蒸镀方法。本发明能够防止材料因为暴露大气而吸附水分或者被氧化而变质,并能保证操作人员的安全。
  • 一种密闭式坩埚使用方法
  • [实用新型]蒸镀坩埚和蒸镀设备-CN202321325428.4有效
  • 许俊康;林俊宇;卢康帅 - 浙江宏禧科技有限公司
  • 2023-05-26 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本公开提供了一种蒸镀坩埚和蒸镀设备,属于蒸镀设备技术领域。该蒸镀坩埚包括:坩埚筒、储料筒、用于存储蒸镀材料的加料容器和控制装置;所述坩埚筒的底部与所述储料筒的底部连通,所述加料容器与所述储料筒的顶部连通,所述控制装置与所述加料容器连接,且用于控制所述加料容器向所述储料筒内加入蒸镀材料。本公开能避免频繁停机开箱,且加入蒸镀材料时能让腔内蒸镀材料的剩余量保持恒定,提升蒸镀效率和稳定性。
  • 坩埚设备
  • [实用新型]适用于多蒸发源的改善蒸发设备膜均匀性的修正装置和蒸发设备-CN202321345549.5有效
  • 李海江 - 成都海威华芯科技有限公司
  • 2023-05-30 - 2023-10-27 - C23C14/24
  • 本实用新型公开了一种适用于多蒸发源的改善蒸发设备膜均匀性的修正装置和蒸发设备,修正装置包括:一旋转主架,竖向设置;至少两个旋转支架,连接在旋转主架的顶端;每个旋转支架分别与旋转主架呈100‑150度设置,且相邻旋转支架的角度大于30度;修正板,可拆卸式的安装在旋转支架上;驱动电机,与旋转主架电连接。在本实用新型中,根据实际蒸发源的类型,分别选择对应结构的修正板安装在旋转支架上,此时旋转主架上包括多个安装有修正板的旋转支架;之后根据实际蒸发源使用的先后顺序,在驱动电机的驱动下,旋转主架先后带动旋转支架转动至蒸发源上方,从而使得对应结构的修正板适配对应的工艺流程,从而达到最好的制备效果。
  • 适用于蒸发改善设备均匀修正装置

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