专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]掩模-CN200910161312.X无效
  • 朴大镇 - 海力士半导体有限公司
  • 2009-07-20 - 2010-08-18 - G03F1/14
  • 本发明提供一种掩模,其包括辅助图案。该掩模包括:目标图案,其借助于曝光工序转移到晶片上;以及辅助图案,其以目标图案的外部图案为参照线而与目标图案的主要图案对称地形成,因此在散焦环境中将外部图案的损失最小化并将工序裕量最大化。
  • 光掩模
  • [发明专利]掩模-CN200610074348.0无效
  • 金淏哲 - 三星电子株式会社
  • 2006-04-17 - 2006-11-01 - G03F1/14
  • 本发明提供了一种掩模,设计掩模结构以提供用于印刷亚波长特征的增大的光刻工艺窗口。在一方面中,掩模包括掩模基板和掩模图案,掩模基板对给定波长的曝光光透明,掩模图案形成于所述基板的表面上。掩模图案包括由第一和第二临界边缘界定的可印刷元件,其中可印刷元件包括形成于所述第一和第二临界边缘之间的内部非印刷特征。非印刷元件包括空间特征和沟槽特征,空间特征暴露所述掩模基板的与所述第一和第二临界边缘之间的所述可印刷元件对准的区域,沟槽特征形成于掩模基板中且与空间特征对准。
  • 光掩模
  • [发明专利]掩模-CN201080057974.3有效
  • 水村通伸;畑中诚 - 株式会社V技术
  • 2010-12-13 - 2012-09-12 - G03F1/42
  • 本发明提供一种掩模,具有:在透明基板(4)的下表面(4a)形成有规定形状的多个掩模图案(5)的掩模基板(2);在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有将多个掩模图案(5)的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜(10),且在上表面(9b)以使光轴与投影透镜(10)的光轴一致的方式形成有将入射聚光于投影透镜(10)的多个向场透镜(11)的微型透镜阵列(3),以使掩模图案(5)与向场透镜(11)具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合掩模基板由此,能够提高照射于被曝光体的的利用效率。
  • 光掩模
  • [发明专利]掩模管理方法及其条形码辨识装置-CN200410092208.7无效
  • 刘国忠;曾文瑞 - 力晶半导体股份有限公司
  • 2004-11-03 - 2006-05-10 - G03F7/20
  • 一种掩模管理方法及其条形码辨识装置,其中掩模管理方法包括下述步骤:先准备一条形码辨识装置;并对一掩模上的一掩模条形码进行辨识,再将辨识数据传入掩模管理系统后,产生一工艺掩模盒条形码;接着在无尘室中,将掩模从一掩模保护盒换装入一工艺掩模盒中,且将工艺掩模盒条形码设于工艺掩模盒之上;之后将工艺掩模盒条形码数据扫描登录在曝光设备;最后,曝光设备利用此掩模进行曝光。而条形码辨识装置包括:至少一用来夹持掩模保护盒的夹持件;至少一架设于夹持件上方的读取头,以读取掩模条形码;以及一第一光源提供第一光线射向光掩模保护盒,以提高读取头辨识度。
  • 光掩模管理方法及其条形码辨识装置

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