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[发明专利]自动仓库以及物品搬出方法-CN201180042795.7有效
发明人：野村美砂树 -专利权人：村田机械株式会社
申请日： 2011-07-25 - 公布日： 2013-05-22 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：洁净储存库（100）具备：分别保管掩模板与掩模盒的掩模板用旋转架（111）以及空掩模盒用旋转架（112）；将装有掩模板的掩模盒供给给操作者的手动装载端口（160）；暂时保管装有掩模板的掩模盒的装有掩模板的掩模盒用旋转架（113）；检测来自操作者的指示的检测部（180）；掩模盒开启器（140），在检测到第1指示的情况下，从掩模板用旋转架（111）取得掩模板，从空掩模盒用旋转架（112）取得空掩模盒，并将取得的掩模板收纳于空掩模盒；以及掩模盒搬运装置（130），将装有掩模板的掩模盒载置于装有掩模板的掩模盒用旋转架（113），并且在检测出第2指示的情况下，将装有掩模板的掩模盒从装有掩模板的掩模盒用旋转架（113）移载于手动装载端口
自动仓库以及物品搬出方法

[发明专利]真空蒸镀用掩模及用其制造的有机电致发光显示器面板-CN200410005882.7有效
发明人：安彦浩志;高桥晃 -专利权人：东北先锋电子股份有限公司
申请日： 2004-02-20 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种真空蒸镀用掩模及有机EL显示器面板，该真空蒸镀用掩模能够调整蒸镀用掩模的张力，并且能够容易地从掩模框架上卸下蒸镀用掩模。该掩模是保持在掩模框架(11)上的真空蒸镀用掩模(1)，并包括：蒸镀用掩模主体(10)，安装在蒸镀用掩模主体(10)的至少1个边上的导向部件(12)，在保持在掩模框架(11)上时、通过导向部件(12)向蒸镀用掩模主体(10)施加规定的张力的张力施加机构(14)，和将上述导向部件与上述掩模框架相对于掩模表面沿垂直方向进行固定的固定机构(21)。
真空蒸镀用掩模制造有机电致发光显示器面板

[发明专利]真空蒸镀用掩模和用该掩模制造的有机电致发光显示面板-CN03122431.8有效
发明人：安彦浩志 -专利权人：东北先锋电子股份有限公司
申请日： 2003-04-25 - 公布日： 2003-11-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供能调整蒸镀用掩模的张力、同时能容易地从掩模框卸下蒸镀用掩模的真空蒸镀用掩模。本发明的真空蒸镀用掩模1被保持在掩模框11上，具备：蒸镀用掩模本体10；引导构件12，粘接在蒸镀用掩模本体10的至少1边上；以及张力附加装置14，在引导构件12被保持在掩模框11上时，经该引导构件12对蒸镀用掩模本体
真空蒸镀用掩模制造有机电致发光显示面板

[实用新型]一种蒸镀用掩模板-CN201720193052.4有效
发明人：张光浩 -专利权人：成都太锦显示技术有限公司
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2017-09-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蒸镀用掩模板，包括蒸镀用掩模板、掩模板孔部、缓冲用孔部和棱形缓冲用孔部，蒸镀用掩模板上设有第一开口部和第二开口部，第一开口部包括若干个掩模板孔部，第二开口部包括若干个缓冲用孔部，掩模板孔部均设置在若干个缓冲用孔部中间，通过在蒸镀用掩模板上设置多个缓冲用孔部，并将掩模板孔部设置在多个缓冲用孔部之间，使得当掩模板受到拉力作用时，外层的缓冲用孔部能够隔断掩模板孔部受到的拉力，从而避免了因拉力作用导致掩模板孔部的图形不良的情况发生；且缓冲用孔部可以设置成不同的形状，使缓冲用孔部不仅能够隔断垂直于掩模板孔部的长的一面，还可以隔断掩模板孔部短层面的竖直方向上受到的拉力。
一种蒸镀用掩模板

[发明专利]沉积用掩模的制造方法-CN201810093816.1在审
发明人：任星淳;文英慜;黄圭焕;金圣哲 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及沉积用掩模的制造方法，其使得沉积用图案的精度得到提升，该方法包括以下步骤：通过电镀在第一电极上形成掩模基材；将第一电极和掩模基材布置到激光加工装置；对掩模基材进行激光加工，以形成具有沉积用图案的沉积用掩模；以及从第一电极分离沉积用掩模。
掩模沉积第一电极基材激光加工装置图案激光加工电镀制造

[发明专利]离子注入方法、固体摄像器件及其制造方法和电子装置-CN200910176705.8无效
发明人：马渕圭司 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2009-09-17 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： H01L21/76 文献下载
摘要：所述离子注入方法包括：使用多个离子注入用掩模进行多次离子注入，这些离子注入用掩模各自包括主掩模部、连接在主掩模部之间的桥状部和与需要注入离子的环状区域的部分对应的开口，其中，通过组合这些离子注入用掩模来形成多个环状离子注入区域所述固体摄像器件包括：各自包括光电转换部的多个像素；以及将这些像素隔离开的格子状隔离区域，所述隔离区域是通过使用第一离子注入用掩模和第二离子注入用掩模进行离子注入而形成的，所述第一离子注入用掩模和所述第二离子注入用掩模各自包括主掩模部、连接在主掩模部之间的桥状部和与需要注入离子的格子状区域的部分对应的开口。
离子注入方法固体摄像器件及其制造电子装置

[发明专利]灯具用涂敷掩模装置-CN99108498.5无效
发明人：稻叶惠一;矢崎圭 -专利权人：株式会社小糸制作所
申请日： 1999-06-18 - 公布日： 2003-01-01 - 主分类号： B05B15/04 文献下载
摘要：一种灯具用涂敷掩模装置，通过将掩模主体分割为多块，使掩膜主体的操作容易。它包括灯具部件载置用的托架和掩模主体，该掩模主体形成有与托架上的灯具部件的涂敷预定部位相对应的开口，将该掩模主体分割为辅掩模和主掩模，该辅掩模形成有开口，该主掩模覆盖辅掩模所覆盖的区域以外的区域，辅掩模按照可相对主掩模取下的方式构成，从而可不必更换整个掩模主体，而仅仅更换体积小、重量轻的辅掩模。
灯具用涂敷掩模装置

[发明专利]玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模-CN201811229615.6有效
发明人：木下一树;二岛悟;青木阳祐;板仓敬二郎 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2013-09-19 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模
玻璃再生处理方法使用光掩模坯料

[发明专利]玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模-CN201380047359.8有效
发明人：木下一树;二岛悟;青木阳祐;板仓敬二郎 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2013-09-19 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模
光掩模玻璃基板再生玻璃再生处理基板光掩模制造工序光掩模坯料图案痕迹研磨处理低成本均匀化润湿性物理性再利用呼气坯料玻璃再生检查生产

[发明专利]光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法-CN201410219079.7有效
发明人：土屋雅誉;池边寿美 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明提供光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法。光掩模用基板组具有第1光掩模用基板，其用于在主表面上形成待转印至被转印体的转印用图案而成为第1光掩模；以及第2光掩模用基板，其用于在主表面上形成待与所述转印用图案重叠地转印至所述被转印体的转印用图案而成为第2光掩模，其中，当设所述第1光掩模用基板的主表面上的图案区域内设定的任意的点M相对于基准面的高度为Zm，设所述第2光掩模用基板的主表面上的图案区域内的处于与所述第1光掩模用基板上的点M对应的位置处的点N
光掩模用基板组模组显示装置制造方法

[发明专利]掩模坯料、转印用掩模的制造方法及半导体器件的制造方法-CN202180049300.7在审
发明人：宍户博明;野泽顺 -专利权人：豪雅株式会社
申请日： 2021-06-17 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F1/54 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种能够以良好的精度制作具有20nm左右这样的微小尺寸的辅助图案的转印用掩模的掩模坯料。上述掩模坯料具有以下结构：在基板(1)的主表面上依次层叠有图案形成用薄膜(2)、第1硬掩模膜(3)、第2硬掩模膜(4)，其中，图案形成用薄膜含有过渡金属，第1硬掩模膜含有氧和选自硅及钽中的一种以上元素，第2硬掩模膜含有过渡金属，第2硬掩模膜的过渡金属的含量比上述图案形成用薄膜的过渡金属的含量少，主表面上的形成有第1硬掩模膜的区域比形成有图案形成用薄膜的区域小，第2硬掩模膜与图案形成用薄膜至少部分地相接
坯料转印用掩模制造方法半导体器件

[发明专利]有机EL用掩模清洗方法、有机EL用掩模清洗装置及有机EL显示器的制造装置-CN201010283620.2无效
发明人：弓场贤治;片桐贤司;井崎良;片冈文雄 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种有机EL用掩模清洗方法，在应用激光除去附着于有机EL用掩模的有机材料时，对有机EL用掩模不会造成不能复原的损害，获得高的清洁度。一种有机EL用掩模清洗方法，在附着了有机材料(51)的有机EL用掩模(2)的表面扫描激光而除去有机材料(51)，其照射在使激光(L)透过有机材料(51)照射到有机EL用掩模(2)时，将有机材料(51)维持在固态，且有机EL用掩模在照射后不变形的激光(L)。另外，通过照射激光(L)，在有机材料(51)和有机EL用掩模(2)间具有由温度差引起的热膨胀差，由此，对层间作用剥离力进行有机材料(51)的除去。
有机 el 用掩模清洗方法装置显示器制造

[发明专利]一种蒸镀用掩模板及其制作工艺-CN201210010754.6有效
发明人：魏志凌;高小平;赵录军;孙倩;郑庆靓 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2012-01-16 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提出一种蒸镀用掩模板及其制作工艺，所述制作工艺包括如下步骤：设置基板；在基板的一面依次电铸至少两层掩模板层，各掩模板层设有开口，掩模板层开口的尺寸随着掩模板层与基板的距离扩大而变大。通过本发明提出的蒸镀用掩模板及其制作工艺，通过电铸多层掩模板层，提高了OLED蒸镀用掩模板的位置精度；提高了OLED蒸镀用掩模板开口尺寸的精度；能够任意控制上下开口的角度，以满足蒸镀要求。
一种蒸镀用掩模板及其制作工艺

[发明专利]蒸镀掩模用盒体-CN202080037209.9在审
发明人：真野隆夫;石坂大 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2020-10-02 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀掩模用盒体，构成为收容蒸镀掩模，该蒸镀掩模包括形成有多个贯通孔的图案区域以及包围上述图案区域的周边区域。蒸镀掩模用盒体具备：支撑部，包括当蒸镀掩模用盒体收容蒸镀掩模时对蒸镀掩模进行支撑的平坦的支撑面；盖部，包括当蒸镀掩模用盒体收容蒸镀掩模时与支撑部对置的对置面以及从对置面凹陷的凹部，从与支撑面对置的视点观察，以蒸镀掩模的图案区域位于上述凹部内、且周边区域延伸到凹部之外的方式对蒸镀掩模进行覆盖；以及标识，用于使盖部与支撑部相区别。
蒸镀掩模用盒体

[实用新型]蒸镀掩模用盒体-CN202022192018.X有效
发明人：真野隆夫;石坂大 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： B65D75/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种蒸镀掩模用盒体，构成为收容蒸镀掩模，该蒸镀掩模包括形成有多个贯通孔的图案区域以及包围上述图案区域的周边区域，该蒸镀掩模用盒体具备：支撑部，包括当蒸镀掩模用盒体收容蒸镀掩模时对蒸镀掩模进行支撑的平坦的支撑面；盖部，包括当蒸镀掩模用盒体收容蒸镀掩模时与支撑部对置的对置面以及从对置面凹陷的凹部，从与支撑面对置的视点观察，以蒸镀掩模的图案区域位于上述凹部内、且周边区域延伸到凹部之外的方式对蒸镀掩模进行覆盖；以及标识
蒸镀掩模用盒体

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