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- [发明专利]金属掩膜板-CN202010534133.2在审
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王广成;樊春雷;郑庆靓;刘通
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上海和辉光电股份有限公司
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2020-06-12
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2021-12-17
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C23C14/04
- 本申请提供一种金属掩膜板，包括：掩膜板本体及形成于掩模板本体上的多个蒸镀孔；掩膜板本体具有相对设置的玻璃面和蒸镀面，每个蒸镀孔均包括第一凹槽和第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽均沿着掩膜板本体的厚度方向设置且相互连通，第一凹槽的其中一端与玻璃面齐平，第一凹槽的另一端与第二凹槽的其中一端相连，第二凹槽的另一端与蒸镀面齐平；其中，第一凹槽的侧壁与所述玻璃面的夹角在90°以下。在本申请提供的金属掩膜板中，通过调整蒸镀孔在玻璃面的开孔形状，避免蒸镀口的内壁遮挡有机材料，进而扩大蒸镀的有效膜宽，同时避免像素的边缘出现阴影区域，使得像素内有效发光区的蒸镀位置的公差范围更大，进而提高蒸镀的良率。
- 金属掩膜板
- [发明专利]金属掩膜板-CN202010381752.2在审
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樊春雷;王广成;郑庆靓;段雪波;屈晓娟;刘通
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上海和辉光电股份有限公司
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2020-05-08
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2021-11-09
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C23C14/04
- 本申请提供一种金属掩膜板，包括：至少一个子掩膜板，子掩膜板设置有多个蒸镀区，每个蒸镀区中均设置有多个蒸镀孔，每个蒸镀孔均包括一凹槽和一弧形槽，凹槽与弧形槽相互连通，任意相邻的蒸镀孔之间均设置有遮挡结构，遮挡结构的侧面分别构成凹槽与弧形槽的侧壁；弧形槽的中心截面包括第一弧线和第三弧线，第三弧线与遮挡结构的侧面重合，第三弧线与第一弧线的弧度相同且圆心位置重合。在本申请提供的金属掩膜板中，通过在相邻的蒸镀孔之间设置遮挡结构以控制蒸镀区的厚度，使得蒸镀角得以缩小，由此提高了蒸镀膜层的有效膜宽，进一步的，通过增大蒸镀区外围的辅助区的宽度，能够避免应力集中在蒸镀区的边缘，进而避免蒸镀异常问题。
- 金属掩膜板
- [实用新型]金属掩膜板-CN202021079855.5有效
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王广成;樊春雷;郑庆靓;刘通
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上海和辉光电股份有限公司
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2020-06-12
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2021-02-02
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C23C14/04
- 本申请提供一种金属掩膜板，包括：掩膜板本体及形成于掩膜板本体上的多个蒸镀孔；掩膜板本体具有相对设置的玻璃面和蒸镀面，每个蒸镀孔均包括第一凹槽和第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽均沿着掩膜板本体的厚度方向设置且相互连通，第一凹槽的其中一端与玻璃面齐平，第一凹槽的另一端与第二凹槽的其中一端相连，第二凹槽的另一端与蒸镀面齐平；其中，第一凹槽的侧壁与所述玻璃面的夹角在90°以下。在本申请提供的金属掩膜板中，通过调整蒸镀孔在玻璃面的开孔形状，避免蒸镀口的内壁遮挡有机材料，进而扩大蒸镀的有效膜宽，同时避免像素的边缘出现阴影区域，使得像素内有效发光区的蒸镀位置的公差范围更大，进而提高蒸镀的良率。
- 金属掩膜板
- [实用新型]金属掩膜板-CN202020751169.1有效
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樊春雷;王广成;郑庆靓;段雪波;屈晓娟;刘通
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上海和辉光电股份有限公司
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2020-05-08
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2020-12-08
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C23C14/04
- 本申请提供一种金属掩膜板，包括：至少一个子掩膜板，子掩膜板设置有多个蒸镀区，每个蒸镀区中均设置有多个蒸镀孔，每个蒸镀孔均包括一凹槽和一弧形槽，凹槽与弧形槽相互连通，任意相邻的蒸镀孔之间均设置有遮挡结构，遮挡结构的侧面分别构成凹槽与弧形槽的侧壁；弧形槽的中心截面包括第一弧线和第三弧线，第三弧线与遮挡结构的侧面重合，第三弧线与第一弧线的弧度相同且圆心位置重合。在本申请提供的金属掩膜板中，通过在相邻的蒸镀孔之间设置遮挡结构以控制蒸镀区的厚度，使得蒸镀角得以缩小，由此提高了蒸镀膜层的有效膜宽，进一步的，通过增大蒸镀区外围的辅助区的宽度，能够避免应力集中在蒸镀区的边缘，进而避免蒸镀异常问题。
- 金属掩膜板
- [发明专利]一种易于焊接的蒸镀用掩模板的制备工艺-CN201210010677.4有效
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魏志凌;高小平;郑庆靓
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昆山允升吉光电科技有限公司
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2012-01-16
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2017-06-06
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C23C14/04
- 一种易于焊接的蒸镀用掩模板的制备工艺，其工艺流程如下芯模(基板)前处理→电铸→后处理→剥离→双面贴膜→单面曝光→单面显影→蚀刻→退膜→激光切割。应用该工艺可以制备得到具有单面凹形区域，凹形区域部分具有蒸镀用开口图形，而凹形区域的四周为焊接区域的蒸镀用掩模板。该蒸镀用掩模板具有以下优点避免不良焊接，如焊不透、焊穿等现象；提高薄掩模板的焊接质量。在确保满足蒸镀要求的同时，又满足掩模板与掩模框架的焊接要求。同时，本发明使用电铸工艺进行掩模板基体的制备，以确保掩模板表面光滑，无毛刺、划痕等缺陷，厚度均一；本发明使用蚀刻工艺进行凹形区域的刻蚀，保证蚀刻深度均匀可控；本发明使用激光切割进行开口图形的雕刻，保证雕刻开口宽度精确，切口光滑。
- 一种易于焊接蒸镀用掩模板制备工艺
- [发明专利]掩模组件间接对位的方法-CN201210010695.2有效
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魏志凌;高小平;郑庆靓
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昆山允升吉光电科技有限公司
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2012-01-16
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2017-03-15
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C23C14/04
- 本发明公开了一种掩模组件间接对位的方法，包括以下步骤将掩模框架放置在对位基台上，使掩模框架与对位销钉对齐；将对位辅助板放置在掩模框架上且使其与对位基台相对固定，并使对位辅助板的对位孔与掩模框架对位孔对应；通过CCD捕捉对位辅助板及掩模框架上对位孔的位置图像，并测量它们相应的两个对位孔的位置偏差L；调整对位销钉的位置以微调掩模框架的位置使得L≤15μm；取下对位辅助板，将掩模板放置在掩模框架上且使其固定在对位基台上；以及通过CCD捕捉掩模板对位孔与相应的掩模框架对位孔的位置图像，检测前者是否被后者的边缘遮挡，若被遮挡则重复以上步骤直至掩模板对位孔完全为通孔。
- 模组间接对位方法
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