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[实用新型]一种蒸镀用模块化金属掩模板-CN202123364178.9有效
发明人：潘旭;张辉;叶加久;汪子涵 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种蒸镀用模块化金属掩模板，包括框架和多个掩模板本体，所述框架上设置有用于与多个所述掩模板本体相适配的开口，所述开口的内侧壁上设置有第一台阶，多个所述掩模板上分别设置有与所述第一台阶配合的第二台阶本实用新型通过设置框架，并设置多个掩模板本体，框架能够对掩模板本体进行限位固定，保证蒸镀工序的正常进行，并且能够在一次蒸镀的过程中进行多个掩模板本体的蒸镀工序，有效提高了蒸镀的效率。
一种蒸镀用模块化金属模板

[发明专利]制造印版的方法以及使用该方法制造液晶显示器件的方法-CN200610090306.6有效
发明人：柳洵城;权五楠 -专利权人： LG.菲利浦LCD株式会社
申请日： 2006-06-29 - 公布日： 2007-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种制造精确印版的方法，和使用该方法制造LCD器件的方法，制造精确印刷板的方法包括在基板上形成预定图案的掩模层；通过使用预定图案的掩模层用包含阴离子表面活性剂的蚀刻剂蚀刻基板，从而形成沟槽；以及移除所述掩模层
制造方法以及使用液晶显示器件

[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法-CN201910982223.5有效
发明人：今敷修久;吉川裕;菅原浩幸 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2015-07-16 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、光掩模坯料以及显示装置的制造方法。有利地适于显示装置制造用掩模的曝光环境、并且能够稳定地转印微小的图案。光掩模具有通过对成膜于透明基板上的半透光膜以及低透光膜分别进行图案化而形成的转印用图案，上述转印用图案具有：由露出上述透明基板的透光部构成的直径W1(μm)的主图案；配置于上述主图案的附近、由在上述透明基板上形成有上述半透光膜的半透光部构成的宽度d(μm)的辅助图案；以及配置于上述转印用图案的形成有上述主图案以及上述辅助图案以外的区域、在上述透明基板上至少形成有上述低透光膜的低透光部，上述主图案的直径W1、上述半透光部的透光率T1以及上述半透光部的宽度
光掩模制造方法以及显示装置

[发明专利]清洁单元、丝网印刷装置、生产系统-CN201810289949.6在审
发明人：藤井雅治 -专利权人： JUKI株式会社
申请日： 2018-04-03 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： B41F35/00 文献下载
摘要：对丝网印刷用的丝网掩模(80)进行清洁的清洁单元(70)构成为，具有：抽出卷轴(72)，其将卷状的清洁纸(75)以能够抽出的方式支撑；卷绕卷轴(73)，其对从抽出卷轴抽出的清洁纸进行卷绕；以及清洁头(74)，其向丝网掩模推压清洁纸，清洁纸的卷宽度小于丝网掩模，在针对丝网掩模的指定的擦拭部位通过清洁头实施局部清洁。
丝网掩模清洁纸抽出清洁单元卷轴清洁头丝网印刷装置局部清洁卷绕卷轴生产系统丝网印刷运行成本清洁卷绕卷状推压擦拭节拍支撑

[发明专利]心脏MRI中视场的自动确定-CN200910149776.9有效
发明人： Y·孙;J·D·格林;J·古林;C·H·罗伦茨;P·施佩尔;M·-P·乔利;M·施密德特 -专利权人：西门子共同研究公司;西门子公司
申请日： 2009-05-22 - 公布日： 2009-12-09 - 主分类号： A61B5/055 文献下载
摘要：通过阈值化初步图像(S41)和识别最大连接的组成部分(S42)生成身体掩模，从生成的身体掩模的边界得到边界掩模(S44)。用矩形边界框拟合得到的边界掩模(S45)。
心脏 mri 视场自动确定

[发明专利]掩模基板及光掩模-CN200780005734.7有效
发明人：三井胜;佐野道明;牛田正男 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2007-02-15 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供适于FPD用大型掩模的方法(抗蚀剂涂覆方法或蚀刻方法、洗涤方法等)的掩模基板和光掩模。其为用于制造在透光性基板上具有遮光性膜和具有调整透射量的功能的半透光性膜中至少一个的FPD设备的掩模基板，其特征在于，上述遮光性膜和上述半透光性膜的膜表面的均方根粗糙度Rq为2.0nm以下。
掩模基板光掩模

[发明专利]等离子体显示板的制造方法以及等离子体显示板-CN200480000241.0无效
发明人：足立大辅 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2004-02-23 - 公布日： 2005-11-16 - 主分类号： H01J9/02 文献下载
摘要：本发明的目的在于实现抑制在PDP的构造物中发生缺陷，而且，能够抑制构造物的翘曲、剥离等的PDP的制造方法，在光刻法中，用开口宽度分别不同然而具备相同曝光图形的第1光掩模和第2光掩模进行两次曝光，使通过第1光掩模的第1次曝光的区域(A′)与通过第2光掩模的第2次曝光的区域(B′)的曝光量不同。
等离子体显示制造方法以及

[发明专利]一种蒸镀用复合磁性掩模板的制作方法-CN201510678505.8在审
发明人：魏志凌 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2015-10-20 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种蒸镀用复合磁性掩模板的制作方法。本发明提供了一个完全不同于现有蚀刻工艺制作掩模板的方法，该方法包括：S1、金属支撑层电铸制作，S2、金属支撑层表面覆膜，S3、光阻膜层曝光，S4、光阻膜层显影；通过该方法制作的磁性掩模板，可以将构成掩模板的有机掩模层做的很薄，进一步将开口的宽度尺寸做的更小，从而使得形成的最终磁性掩模板能够蒸镀形成分辨率更高的OLED产品，同时兼具电铸高精度的特性。
一种蒸镀用复合磁性模板制作方法

[发明专利]成膜装置及使用该成膜装置的成膜方法-CN200910165014.8有效
发明人：曾田岳彦;荣田正孝;宫田一史 -专利权人：佳能株式会社;株式会社日立显示器
申请日： 2009-07-28 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种成膜装置和使用该成膜装置的成膜方法，它们能够形成具有良好尺寸精度以及具有基板与掩模之间在将基板压向掩模时于平面方向上的减小的不对准的像素图案。该成膜装置包括使基板和掩模相互对准的对准机构以及用设置于挤压体的一端的接触部件将基板压向掩模的挤压机构，其中该挤压体被设置于真空室中。在通过对准机构使基板与掩模之间对准之后，使挤压体的接触部件和在与掩模相对的一侧上的基板的表面达到接触以压基板。
装置使用方法

[发明专利]焦点监测用光掩模、监测方法、监测装置及其制造方法-CN02123288.1无效
发明人：中尾修治;宫本由纪;玉田尚久;前岛伸六 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2002-06-14 - 公布日： 2003-04-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的焦点监测用光掩模5包括透过曝光光的基板5a和聚焦监测用单元掩模结构Q。焦点监测用单元掩模结构Q具有在基板5a的表面上形成的2个位置测量用图形5b1、5b2，以及在基板5a的背面形成的、而且具有使对2个位置测量用图形5b1、5b2的曝光光的入射方向产生实质性差异用的背面图形
焦点监测用光方法装置及其制造

[发明专利]部分镀敷用掩模、使用该掩模的绝缘电路基板的制造方法以及部分镀敷方法-CN202111253617.0在审
发明人：肥后正昭;井手口悟 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C25D5/02 文献下载
摘要：本发明公开部分镀敷用掩模、使用该掩模的绝缘电路基板的制造方法以及部分镀敷方法。提供能够对设置于绝缘基板上的电孤立的金属部件的表面的预定部分选择性地实施部分电镀且具有比以往非常简单的构造的部分镀敷用掩模。另外，提供使用该掩模的绝缘电路基板的制造方法以及部分镀敷方法。上述课题通过具有形成有与实施镀敷的部分对应的形状的开口部的绝缘片材部件的、厚度方向单侧的面的部分区域被安装于该区域的一个或者多个导电片材部件覆盖的构造的部分镀敷用掩模达成。
部分敷用使用绝缘路基制造方法以及

[发明专利]焊球印刷机及焊球印刷方法-CN201410055214.9有效
发明人：五十岚章雄;栗原弘邦;水鸟量介 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2014-02-19 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： B23K3/00 文献下载
摘要：本发明提供焊球印刷机及焊球印刷方法，保持基板的平面精度，并且高精度地保持掩模与基板的间隙，不产生焊球的错位地将焊球可靠且高精度地装载于基板上的焊盘（电极部）。焊球印刷机（20）使用填充辊（3）向形成于掩模（1）的多个开口（1a）嵌入焊球（18），在形成于与掩模相对的基板（2）的表面的多个电极部（19）印刷焊球。焊球印刷机具备：装载基板并在背面侧形成多个孔部（4a）的基板载置桌台（6）；装载有该基板载置桌台的印刷桌台（12）；能够将印刷桌台在水平面内驱动的XYθ载置台（13）以及能够上下移动驱动的印刷桌台用气缸（14）；具有能嵌合于基板装载桌台的构件的掩模吸附部（11）；能使该掩模吸附部上下移动驱动的掩模吸附用气缸（10）。
印刷机印刷方法

[发明专利]掩模框架组件、沉积装置及有机发光显示装置的制造方法-CN201510194081.8有效
发明人：郑茶姬 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2015-04-22 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及掩模框架组件、沉积装置及有机发光显示装置的制造方法。本发明的一实施例的掩模框架组件包括：框架；和多个掩模，用框架支撑多个掩模的两端部，各掩模包括：主体部，用框架支撑主体部的外围区域；和图案部，沿各掩模的长度方向彼此相隔地配置且包括使沉积物质通过的多个图案孔和形成在各图案孔之间的肋
框架组件沉积装置有机发光显示装置制造方法

[发明专利]蒸镀用狭长沟槽掩模板的制备方法-CN201210010687.8无效
发明人：魏志凌;高小平;郑庆靓 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2012-01-16 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀用狭长沟槽掩模板的制备方法，主要解决现有OLED制造技术中，蒸镀时有机颗粒由于掩模板开口壁的遮蔽而无法达到基板的技术问题，本发明通过采用一种蒸镀用狭长沟槽掩模板的制备方法，采用双面蚀刻工艺，包括如下几个步骤：从掩模板材料的ITO面蚀刻形成ITO面狭长沟槽状开口(1)；从掩模板的蒸镀面刻蚀形成狭长沟槽开口(2)，并使狭长沟槽开口(2)与ITO面狭长沟槽状开口(1)中心重合，且狭长沟槽开口(2)中心对称；且开口孔壁具有一定凹弧度，形成了30～50°蒸镀锥角；通过蚀刻工艺，制得具有ITO面小尺寸狭长沟槽状开口(1)与蒸镀面大尺寸狭长沟槽开口(2)相贯通形成葫芦状开口的掩模板的技术方案，较好地解决了该问题
蒸镀用狭长沟槽模板制备方法

[发明专利]蒸镀用掩模板的制备方法-CN201210010691.4无效
发明人：魏志凌;高小平;郑庆靓 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2012-01-16 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀用掩模板的制备方法，主要解决现有OLED制造技术中，蒸镀时有机颗粒由于掩模板开口壁的遮蔽而无法达到基板的技术问题，本发明通过采用一种蒸镀用掩模板的制备方法，采用双面蚀刻工艺，包括如下几个步骤：从掩模板材料的ITO面蚀刻形成网格状开口(1)；从掩模板的蒸镀面刻蚀形成网格状开口(2)，并使网格状开口(2)与网格状开口(1)中心重合，且网格状开口(2)中心对称；且开口孔壁具有一定凹弧度，形成了30～50°蒸镀锥角；通过蚀刻工艺，制得具有ITO面小尺寸网格状开口(1)与蒸镀面大尺寸网格状开口(2)相贯通形成葫芦状沟槽通孔的掩模板的技术方案，较好地解决了该问题，可用于有机发光二级管的工业生产中。
蒸镀用掩模板制备方法