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[发明专利]掩模金属膜、掩模金属膜支撑模板、掩模支撑模板及其制造方法-CN202110367006.2在审
发明人：李永浩;韩进求;李东真;张泽龙 -专利权人：悟勞茂材料公司
申请日： 2021-04-06 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及掩模金属膜、掩模金属膜支撑模板及其制造方法。本发明涉及的掩模金属膜用于制造OLED像素形成用掩模，其至少包括经轧制(rolling)工艺制造的金属膜(sheet)的中央部，而且至少一表面包括圆形或者x轴长：y轴长的比例为1：1至3：1的椭圆形的缺陷
金属膜支撑模板及其制造方法

[发明专利]定义深沟槽用的硬掩模层的图案化方法-CN201110268927.X在审
发明人：许胜杰;萧世和 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2011-09-13 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明公开一种定义深沟槽用的硬掩模层的图案化方法，该图案化方法包括首先提供基底，该基底上已形成有隔离结构。接着于该基底上形成硬掩模层，再于硬掩模层上形成图案化光致抗蚀剂层，该图案化光致抗蚀剂层中有深沟槽开口图案位于隔离结构上方。然后以图案化光致抗蚀剂层为掩模，使用不含氢元素的蚀刻气体蚀刻硬掩模层，以将上述深沟槽开口图案转移至硬掩模层。
定义深沟硬掩模层图案方法

[发明专利]基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、光掩模制造方法-CN201710012067.0在审
发明人：剑持大介 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2017-01-06 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明提供基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、光掩模制造方法，能够提高被转印体上形成的图案的坐标精度且适合于光掩模基板。保持显示装置制造用的光掩模基板水平的基板保持装置具有由低膨胀材料构成的载台(11)和设在该载台(11)上的多个支撑件(12)。各支撑件(12)构成为在前端具备具有凸曲面的接触部(14)，该接触部(14)与光掩模基板(1)的背面(3)实质性地点接触，由此保持光掩模基板(1)水平。
保持装置描绘光掩模检查制造方法

[发明专利]投影曝光装置和方法、光掩模以及基板的制造方法-CN201510526534.2有效
发明人：中泽朗 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2015-08-25 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：投影曝光装置和方法、光掩模以及基板的制造方法。在投影曝光装置中，使掩模图案高精度地对准并转印到基板的投射区域上。在中间掩模上形成与多个投射区域变形对应的掩模图案，并按照步进和重复方式，将掩模图案转印到形成有多个投射区域的基板上。按照全局对准方式，计测样本用对准标记的位置坐标，根据全局对准区域的形状误差，检测投射区域的形状误差。进而，选择具有与该形状误差对应的、即变形情况处于相同的趋势的范围形状的掩模图案。
投影曝光装置方法光掩模以及制造

[发明专利]一种有机电致发光器件蒸镀用掩模板调节装置-CN201210527824.5无效
发明人：袁桃利;牟强 -专利权人：陕西科技大学
申请日： 2012-12-10 - 公布日： 2013-04-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明属于平板显示技术领域，涉及一种有机电致发光器件蒸镀用掩模板调节装置。本发明的掩模板调节装置包括一端带有调节装置的框架，所述框架两侧的内壁上设置有导轨，所述导轨中安装有掩模板板体，调节装置和掩模板板体相连接。本发明的掩模板系统是一种全新的结构，调节装置的设置，使得蒸镀制备器件过程中不必频繁更换掩模板，使得蒸镀过程更容易操作，提高了工作效率。
一种有机电致发光器件蒸镀用掩模板调节装置

[发明专利]部件的涂敷方法及其装置-CN01116847.1无效
发明人：石上操;山内贵志 -专利权人：株式会社小糸制作所
申请日： 2001-03-07 - 公布日： 2001-09-12 - 主分类号： B60Q1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种部件的涂敷方法及其装置,将部件的一部分用掩模本体覆盖,用喷枪涂敷从上述掩模本体露出的上述部件的被涂敷面,在把对着上述喷枪的射流涂敷起掩模作用的前面侧配置成相对垂直方向向下倾斜的上述掩模本体的背面侧上,对上述部件定位后进行固定,并在上述掩模本体倾斜成使从掩模本体滴下的多余涂料不会滴在上述部件上的给定角度的状态下进行射流涂敷。
部件方法及其装置

[发明专利]一种制作超小型磁性随机存储器阵列的方法-CN201910079448.X有效
发明人：张云森;郭一民;陈峻;肖荣福 -专利权人：上海磁宇信息科技有限公司
申请日： 2019-01-28 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H10N50/10 文献下载
摘要：本发明提供一种制作超小型磁性随机存储器阵列的方法：在基底上沉积底电极、磁性隧道结(MTJ)、硬掩模和牺牲掩模各膜层；图形化定义MTJ图案，选择性横向缩微硬掩模和牺牲掩模；刻蚀MTJ直到底电极之上并维持少量过刻蚀；沉积绝缘层，并使底电极刻蚀前端和牺牲掩模顶部绝缘层厚度大于MTJ和硬掩模侧壁绝缘层厚度；对MTJ侧壁进行修剪；沉积底电极刻蚀用自对准掩模；刻蚀底电极；覆盖绝缘覆盖层，填充电介质并磨平。本发明在刻蚀MTJ和底电极时采用两次刻蚀，有效降低了阴影效应，另外在硬掩模刻蚀后，增加横向修剪工艺，使得后续底电极刻蚀前端和牺牲掩模顶端沉积绝缘层厚度大于MTJ和硬掩模侧壁绝缘层厚度，大大提升修剪效率。
一种制作超小型磁性随机存储器阵列方法

[发明专利]用于安装曝光装置的中间掩模的轮-CN200910165288.7无效
发明人：朴钟夏 -专利权人： DE&T株式会社
申请日： 2009-08-14 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种用于安装曝光装置的中间掩模的轮，尽管该轮只是将通过自动机输送的中间掩模放在旋转支架上，但可以使中间掩模始终配置在正确位置上。该轮安装在进行曝光作业的工作台上，在曝光部的一侧设置旋转轴，以使在曝光部的上侧配置中间掩模，其包括多个旋转支架，旋转支架相隔一定角度、间隔配置在上述旋转轴的上端，用于固定中间掩模，并且，在旋转支架的上面形成中间掩模插入槽，中间掩模插入槽朝下方凹入，用于插入中间掩模，在中间掩模插入槽内侧形成朝上部外侧方向倾斜的倾斜面。该轮的结构简单，可简单制造，且可使中间掩模始终位于正确位置上，当进行在LCD等显示装置用玻璃或半导体晶片表面形成电路的曝光作业时，可提高精度。
用于安装曝光装置中间

[发明专利]EUV光刻用反射型掩模基板及EUV光刻用反射型掩模-CN200980127898.6有效
发明人：林和幸;宇野俊之;海老原健 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2009-07-10 - 公布日： 2011-06-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供来自掩模图案区域外侧的区域的反射光所造成的影响得到抑制的EUV掩模及用于该EUV掩模的制造的EUV掩模基板。EUV光刻(EUVL)用反射型掩模在衬底上具有掩模图案区域和位于该掩模图案区域的外侧的EUV光吸收区域，所述掩模图案区域中在所述衬底上具有反射EUV光的反射层，该反射层上存在包括吸收EUV光的吸收体层的部位和不包括所述吸收体层的部位，包括所述吸收体层的部位和不包括所述吸收体层的部位的配置形成掩模图案，该掩模的特征在于，来自所述吸收体层表面的EUV反射光的反射率为5～15％，来自所述EUV光吸收区域表面的EUV反射光的反射率在1％以下
euv 光刻反射型掩模基板型掩模

[发明专利]光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法-CN201611178018.6有效
发明人：山口昇 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2016-12-19 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明提供光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法，能够尽量减小清洗工序中产生异物的可能性，抑制光掩模坯体、光掩模制造工序中产生瑕疵的风险。一种用于形成转印用图案而成为光掩模的由透明材料构成的光掩模基板，具有用于形成转印用图案的第1主表面、位于反面侧的第2主表面、以及垂直于这些主表面的端面。
光掩模光掩模基板及其制造方法光掩模坯体显示装置

[发明专利]掩模-CN200410104806.1有效
发明人： E·安祖雷斯;R·K·巴尔;T·C·舒特 -专利权人：罗姆和哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2004-12-23 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：描述一种用于在基质上形成图像的掩模。可将该掩模选择性地涂于基质上的辐射能敏感材料之上。施加在该复合材料上的光化辐射使未被掩模覆盖的那部分辐射能敏感材料发生化学变化。用适当的碱水溶液显影剂除去该掩模和此部分辐射能敏感材料。该掩模由碱水溶液可溶解或可分散的聚合物和遮光剂组成。
掩模

[发明专利]模版掩模及模版掩模的形成方法-CN00129585.3无效
发明人：小场文博 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 2000-10-08 - 公布日： 2001-04-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种模版掩模在模版掩模制作用的SOI基板的硅绝缘膜11之下形成高浓度含硼硅层21和低浓度含硼硅层22,用KOH溶液等碱溶液进行湿性蚀刻。通过高浓度含硼硅层21的作用抑制蚀刻率的不均匀性,谋求均匀化。按这种模版掩模及其形成方法提高在从模版掩模的背面进行蚀刻(背蚀刻)时晶片面内的蚀刻率的均匀性并提供模样位置精度高的模版掩模。
模版形成方法

[发明专利]一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法-CN94103513.1无效
发明人：高士平;孙宝银;程秀玲 -专利权人：中国科学院微电子中心
申请日： 1994-04-19 - 公布日： 1995-10-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法，涉及一种制作含有深亚微米金吸体图形的X光光刻掩模的方法，特别是涉及一种在掩模基片上制作三层结构，通过特殊设计的常规光刻掩模版的套准光刻和垂直定向刻蚀，采用常规电镀和在图形侧面覆盖金膜相结合的混合技术，制备含有深亚微米线宽的金吸收体图形的X光光刻掩模的方法。
一种混合技术制作光刻方法

[发明专利]掩模基底、转印用掩模以及半导体器件的制造方法-CN201980059055.0在审
发明人：石田宏之;相泽毅 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：提供一种掩模基底，即使在掩模基底的基板主表面上存在缺陷，该缺陷也不会对利用转印用掩模的转印像产生影响，能够作为合格品。一种掩模基底，其在透光性基板的主表面上具备转印图案形成用的薄膜，在所述透光性基板的主表面上存在缺陷，该缺陷在将从所述主表面侧观察时的宽度设为w、从所述主表面到垂直方向上的缺陷的前端为止的长度设为L时，满足
基底转印用掩模以及半导体器件制造方法

[发明专利]OLED金属掩模及其制造方法-CN202210581868.X有效
发明人：金振禹 -专利权人：江苏精润鸿测控技术有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种OLED蒸镀用金属掩模的制造方法，该方法可以将OLED蒸镀金属掩模的制备过程中的变形或弯曲概率降到最低，随着材料蒸镀时材料的均匀蒸镀而便于进行尺寸管理，可靠性提高。此外，提供了一种OLED蒸镀用金属掩模的制造方法，该方法在制造OLED蒸镀金属掩模时，可以使内饰线的凸起部分最小化，从而显著减少基板上产生划痕的概率，从而减少基板损伤造成的工艺不良，提高工艺收率。
oled 金属及其制造方法