专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]三维半导体存储器件-CN202010142200.6在审
  • 安钟善;沈在龙;郑基容;韩智勋 - 三星电子株式会社
  • 2020-03-04 - 2020-10-30 - H01L27/11519
  • 一种三维(3D)半导体存储器件包括:第一半导体层和第二半导体层,彼此水平地间隔开;掩埋绝缘层,在第一半导体层和第二半导体层之间;设置在第一半导体层上的第一单元阵列结构和设置在第二半导体层上的第二单元阵列结构;以及隔离结构,设置在第一单元阵列结构和第二单元阵列结构之间的掩埋绝缘层上,其中第一单元阵列结构包括:电极结构,包括在垂直于第一半导体层的顶表面的方向上堆叠的电极;和第一源极结构,设置在第一半导体层和电极结构之间,第一源极结构延伸到掩埋绝缘层上,隔离结构在第一单元阵列结构的第一源极结构和第二单元阵列结构的第二源极结构之间。
  • 三维半导体存储器件
  • [发明专利]半导体激光器装置-CN201480006900.5有效
  • 吉野雅也;绀谷亘 - 优志旺电机株式会社
  • 2014-03-12 - 2017-12-26 - H01S5/022
  • 本发明的目的在于提供一种半导体激光器装置,即使在来自多个半导体激光器阵列的光的聚光透镜入射光路长度不同的情况下,也能够使来自这些多个半导体激光器阵列的光高效地入射到光纤,因此能够得到高光输出。本发明的半导体激光器装置中设置有来自多个半导体激光器阵列的光经由准直构件而入射的聚光透镜、以及来自聚光透镜的光所入射的光纤,其特征在于,在聚光透镜的光入射面上由来自多个半导体激光器阵列的各光形成光入射列,多个半导体激光器阵列中的至少1个半导体激光器阵列的、来自半导体激光器阵列的光到达聚光透镜为止的光路的长度即聚光透镜入射光路长度相对不同,来自聚光透镜入射光路长度最长的半导体激光器阵列的光入射到光入射列中除了最外侧以外的位置
  • 半导体激光器装置
  • [发明专利]半导体结构、存储器及半导体结构的制造方法-CN202310463781.7有效
  • 刘志拯 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2023-04-26 - 2023-09-19 - G11C5/02
  • 本公开实施例涉及半导体领域,提供一种半导体结构、存储器及半导体结构的制造方法,半导体结构包括:阵列半导体层,具有多个存储块,所述存储块包括多条位线和多条字线;与所述阵列半导体层相键合的外围半导体层,所述外围半导体层包括字线驱动区域和感测放大区域;所述感测放大区域的感测放大器与所述位线电连接,所述字线驱动区域的字线驱动器与所述字线电连接;所述字线驱动区域和所述感测放大区域在所述阵列半导体层上的正投影与至少一个所述存储块在所述阵列半导体层上的正投影至少部分重叠本公开实施例至少提高半导体结构的集成度,提高生产效率和半导体结构的性能。
  • 半导体结构存储器制造方法
  • [发明专利]双层隔离三维阵列半导体纳米线MOSFET-CN201210048768.7有效
  • 黄晓橹 - 上海华力微电子有限公司
  • 2012-02-28 - 2012-07-04 - H01L27/092
  • 一种双层隔离三维阵列半导体纳米线MOSFET,包括:半导体衬底;第一半导体纳米线MOSFET,进一步包括第一半导体纳米线阵列以及第一栅氧化层;第二半导体纳米线MOSFET,进一步包括第二半导体纳米线阵列以及第二栅氧化层;隔离介质层,设置在所述第一半导体纳米线MOSFET与所述第二半导体纳米线MOSFET之间;埋氧层,设置在所述第一半导体纳米线MOSFET与所述半导体衬底之间。本发明双层隔离三维阵列半导体纳米线MOSFET的第一半导体纳米线MOSFET与第二半导体纳米线MOSFET通过隔离介质层间隔,可以完全独立的进行工艺调试,且器件集成度高。同时,本发明采用第一半导体纳米线MOSFET和第二半导体纳米线MOSFET均具有三维阵列式的半导体纳米线的结构设计进一步改善场效应晶体管的电学性能,并适用于前沿纳米器件技术领域。
  • 双层隔离三维阵列半导体纳米mosfet
  • [发明专利]三维存储器器件及其形成方法-CN202180002867.9在审
  • 王言虹;刘威;陈亮;夏志良;周文犀;张坤;杨远程 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-06-30 - 2023-05-02 - H10B41/35
  • 在某些方面中,一种三维(3D)存储器器件包括第一半导体结构、第二半导体结构以及第一半导体结构与第二半导体结构之间的键合界面。第一半导体结构包括NAND存储器串阵列、包括第一晶体管的NAND存储器串阵列的第一外围电路、在NAND存储器串阵列与第一外围电路之间的多晶硅层、以及与第一晶体管接触的第一半导体层。多晶硅层与NAND存储器串阵列的源极接触。第二半导体结构包括NAND存储器串阵列的第二外围电路以及与第二晶体管接触的第二半导体层,该第二外围电路包括第二晶体管。第二半导体层在键合界面与第二半导体层之间。多晶硅层在第一半导体层与第二半导体层之间。
  • 三维存储器器件及其形成方法
  • [发明专利]单片LED阵列及其前体-CN202180040129.3在审
  • 安德烈亚·皮诺斯;萨米尔·迈祖阿里;谭唯欣;约翰·莱尔·怀特曼 - 普列斯半导体有限公司
  • 2021-05-28 - 2023-02-03 - H01L27/15
  • 一种单片LED阵列前体,包括共享第一半导体层的多个LED结构,其中,该第一半导体层限定该LED阵列前体的平面,每个LED结构包括:(i)该第一半导体层上的第二半导体层,具有与该LED阵列前体的平面平行的上表面部分,该第二半导体层具有垂直于该上表面部分的规则梯形截面,使得该第二半导体层具有倾斜的侧面;(ii)该第二半导体层上的第三半导体层,具有与该LED阵列前体的平面平行的上表面部分,该第三半导体层具有垂直于该上表面部分的规则梯形截面,使得该第三半导体层具有与该第二半导体层的倾斜的侧面平行的倾斜的侧面;(iii)该第三半导体层上的第四半导体层,具有与该LED阵列前体的平面平行的上表面部分,该第四半导体层具有垂直于该上表面部分的规则梯形截面,使得该第四半导体层具有与该第三半导体层的倾斜的侧面平行的倾斜的侧面;(iv)该第四半导体层上的初级电接触件,其中,该接触件仅位于该第四半导体层的与该LED阵列前体的平面平行的上表面部分上;(v)该第四半导体层的倾斜的侧面上的光学透明的电绝缘间隔件,这些间隔件具有面向该第四半导体层的倾斜的侧面的内表面和相反的外表面;以及(vi)反射层,在这些间隔件的外表面上导电延伸,其中,该第三半导体层包括多个量子阱子层,这些量子阱子层在与该LED阵列前体的平面平行的部分上具有更大的厚度
  • 单片led阵列及其

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