专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]TFT-LCD阵列基板及其制造方法-CN200910088291.3有效
  • 刘翔;谢振宇;陈旭 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2009-07-13 - 2011-01-26 - G02F1/1362
  • 本发明涉及一种TFT-LCD阵列基板及其制造方法。阵列基板包括栅线、数据线、像素电极和薄膜晶体管,薄膜晶体管包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极,半导体层的表面为经表面处理形成的欧姆接触层,源电极和漏电极分别通过欧姆接触层与半导体层连接。制造方法包括:形成包括像素电极、栅线和栅电极的图形;形成包括栅绝缘层和半导体层的图形,且半导体层的表面为经表面处理形成的欧姆接触层;形成包括数据线、源电极和漏电极的图形,源电极和漏电极分别通过欧姆接触层与半导体层连接本发明避免了过刻半导体层和物理轰击半导体层表面的工艺,通过采用厚度较薄的半导体层,大幅度提高了TFT-LCD阵列基板的性能。
  • tftlcd阵列及其制造方法
  • [发明专利]封装工艺及封装结构-CN200910174057.2有效
  • 沈启智;陈仁川;潘彦良 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2009-10-20 - 2011-05-04 - H01L21/50
  • 接着,将多个第一半导体元件配置于粘着层上。然后,在承载板上形成第一封装胶体,第一封装胶体覆盖第一半导体元件的侧壁并填满第一半导体元件之间的间隙,以使第一半导体元件与第一封装胶体形成芯片阵列板。之后,将多个第二半导体元件分别倒装接合至第一半导体元件上。接着,在芯片阵列板上形成第二封装胶体,第二封装胶体至少覆盖第二半导体元件的侧壁并填满第二半导体元件之间的间隙。然后,分离芯片阵列板与粘着层。之后,沿着第二半导体元件之间的间隙切割第二封装胶体与第一封装胶体。
  • 封装工艺结构
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN201310612879.0有效
  • J·B·常;P·常;A·马宗达;J·W·斯雷特 - 国际商业机器公司
  • 2013-11-27 - 2014-06-11 - H01L21/8234
  • 本发明涉及半导体结构及其形成方法。形成第一和第二半导体材料的交替叠层。在所述交替叠层上形成限定鳍片的掩模结构。随后形成平面化电介质层以及其中的第一和第二栅极腔。各向同性蚀刻所述第二半导体材料以横向扩展所述第一栅极腔并且形成包括所述第一半导体材料的第一半导体纳米线阵列,并且各向同性蚀刻所述第一半导体材料以横向扩展所述第二栅极腔并且形成包括所述第二半导体材料的第二半导体纳米线阵列每个替代栅结构可以横向包围二维半导体纳米线阵列
  • 半导体结构及其形成方法
  • [发明专利]一种具有等离子体阵列电极太赫兹光电导天线-CN202310751772.8在审
  • 贾光瑞;岳梓巍;苗宇航 - 河南师范大学
  • 2023-06-25 - 2023-08-29 - H01Q1/38
  • 本发明公开了一种具有等离子体阵列电极太赫兹光电导天线,沿光电导天线的信号输入方向到信号输出方向依次为电极层、薄膜介质层、半导体衬底层和透镜,其中透镜位于半导体衬底层下表面,薄膜介质层位于半导体衬底层上表面,电极层位于半导体衬底层上表面紧贴薄膜介质层,电极层包括梯形电极阵列和金属纳米球阵列,梯形电极阵列包括左侧梯形电极阵列和右侧梯形电极阵列,左侧梯形电极阵列和右侧梯形电极阵列结构相同且两者呈镜像对称布置,金属纳米球阵列设置于左侧梯形电极阵列和右侧梯形电极阵列之间的衬底内部。本发明通过调节等离子体阵列电极的电极尺寸和排布来影响所辐射出太赫兹波的强度和带宽。
  • 一种具有等离子体阵列电极赫兹电导天线
  • [发明专利]半导体测试结构及其制备方法-CN202110753566.1在审
  • 王路广 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-07-02 - 2021-10-01 - H01L23/544
  • 本发明涉及一种半导体测试结构的制备方法,包括:提供半导体结构,半导体结构包括基底及位于基底正面上的电容阵列结构,电容阵列结构包括多个呈阵列排布的电容器,各电容器的下电极通过电容接触结构与基底相连接,各电容器的上电极共用同一个电容极板,电容极板延伸至电容阵列结构一侧下部;对半导体结构进行背面减薄,直至露出电容接触结构;自所得结构的底部对电容阵列结构的边缘区域进行刻蚀,直至露出电容极板;于暴露出的电容极板的底部形成第一测试焊盘。上述半导体测试结构的制备方法,通过将电容阵列结构底部的基底进行去除,以露出电容接触结构,并在电容极板的底部形成焊盘,使得纳米探针技术可以应用于DRAM电容结构的电容值测量。
  • 半导体测试结构及其制备方法
  • [发明专利]半导体器件的双钝化层结构及其制备方法-CN202010222808.X在审
  • 方绍明;李照华;戴文芳 - 深圳市明微电子股份有限公司
  • 2020-03-26 - 2021-09-28 - H01L21/48
  • 本发明提供了一种半导体器件的双钝化层结构的制备工艺,包括如下步骤:提供半导体基板,所述半导体基板包括基板以及设置在所述基板上的金属阵列;在所述半导体基板的金属阵列所在的表面制备第一钝化层;在所述第一钝化层背离所述半导体基板的一侧表面沉积聚合物,制备第二钝化层;对所述第二钝化层覆盖所述金属阵列的区域进行光刻处理,得到间隔设置的第二钝化层,所述间隔设置的第二钝化层设置在所述金属阵列之间;对所述第一钝化层覆盖所述金属阵列的区域进行刻蚀处理,得到间隔设置的双钝化层结构,所述间隔设置的双钝化层结构设置在所述金属阵列之间,其中,未设置双钝化层结构的区域形成压焊窗口。
  • 半导体器件钝化结构及其制备方法
  • [发明专利]竖直存储器件-CN201980001757.3有效
  • 张中 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2019-08-23 - 2021-08-17 - H01L27/11524
  • 本公开内容的各方面提供了一种半导体器件。该半导体器件包括沿垂直于半导体器件的衬底的方向,在衬底上方的阵列区中交替地堆叠的栅极层和绝缘层。此外,该半导体器件包括在阵列区中形成的沟道结构的阵列。此外,该半导体器件包括通往栅极层的触点结构。该触点结构形成于具有不均匀的阶梯深度的阶梯台阶上。
  • 竖直存储器件
  • [发明专利]一种显示面板和显示装置-CN202310252219.X在审
  • 周洪波;伍黄尧 - 武汉天马微电子有限公司
  • 2021-06-30 - 2023-05-30 - H10K59/12
  • 本发明实施例公开了一种显示面板和显示装置,显示面板包括阵列基板,阵列基板包括像素电路,多个像素电路在行方向和列方向上呈阵列分布,各像素电路包括像素驱动半导体部,像素驱动半导体部包括两个固定电位节点,行方向和列方向相交;参考信号线,固定电位节点与参考信号线电连接;像素连接半导体部,在第一方向上相邻的两个固定电位节点通过像素连接半导体部电连接,第一方向平行于阵列基板所在平面。采用上述技术方案,通过设置像素驱动半导体部包括两个固定的电位阶段,同时设置在第一方向上相邻的两个固定电位节点通过像素连接半导体部电连接,有利于提升像素驱动半导体部的性能,进而提升显示面板的显示效果。
  • 一种显示面板显示装置

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