[发明专利]一种半导体结构及其制备方法

权利要求书

1.一种半导体结构，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底包括相对的上表面和下表面；

贯穿所述衬底的通孔结构；

位于上表面一侧的所述衬底内的沟槽，以及位于所述沟槽内的阻挡结构；

位于所述通孔结构侧壁外侧的所述衬底中的空隙；其中，

所述空隙位于所述阻挡结构的下方，且所述空隙的第一端与所述阻挡结构的底部接触。

2.根据权利要求1所述的半导体结构，其特征在于，

所述阻挡结构的膨胀系数小于所述衬底的膨胀系数；和/或，所述阻挡结构的弹性模量大于所述衬底的弹性模量。

3.根据权利要求1所述的半导体结构，其特征在于，

所述阻挡结构底部的宽度不小于所述空隙的宽度，所述阻挡结构底部的宽度和所述空隙的宽度分别为所述阻挡结构与所述空隙沿第一方向的宽度，其中，所述第一方向为平行于所述衬底平面的方向。

4.根据权利要求3所述的半导体结构，其特征在于，

所述空隙的宽度沿第二方向变大，其中，所述第二方向为垂直于所述衬底平面且从所述衬底的下表面指向所述衬底的上表面的方向。

5.根据权利要求4所述的半导体结构，其特征在于，

所述空隙包括靠近所述衬底上表面的第一空隙和靠近所述衬底下表面的第二空隙；

所述第一空隙沿第一方向的宽度大于所述第二空隙沿第一方向的宽度。

6.根据权利要求4或5中任一项所述的半导体结构，其特征在于，

与所述阻挡结构的底部相接触的所述空隙的第一端沿第一方向的宽度等于所述阻挡结构的底部沿第一方向的宽度。

7.根据权利要求5所述的半导体结构，其特征在于，还包括：

电路结构，所述电路结构包括位于所述衬底上表面上的第一部分和位于靠近所述上表面的所述衬底内的第二部分；

所述第二部分的高度等于所述阻挡结构与所述第一空隙的高度之和。

8.根据权利要求1所述的半导体结构，其特征在于，还包括：

覆盖所述衬底下表面的保护层，所述保护层封闭所述空隙的与所述第一端相对设置的第二端的开口。

9.根据权利要求8所述的半导体结构，其特征在于，

所述阻挡结构的材料和所述保护层的材料具有高刻蚀选择比。

10.一种半导体结构的制备方法，其特征在于，包括：

提供衬底，所述衬底包括相对的上表面和下表面；

从所述衬底的上表面刻蚀所述衬底形成沟槽，在所述沟槽内填充第一材料形成阻挡结构；

形成贯穿所述衬底的通孔结构；

从所述衬底的下表面刻蚀所述衬底，以在所述通孔结构侧壁外侧的所述衬底内形成凹槽，所述阻挡结构作为刻蚀所述凹槽的刻蚀停止层，使得所述凹槽靠近所述衬底上表面的第一端停止于所述阻挡结构的靠近所述衬底下表面的底部；

形成覆盖所述衬底下表面的保护层，所述保护层覆盖所述凹槽的开口以在所述衬底的内部形成空隙。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在通孔结构侧壁外侧的所述衬底内形成凹槽之前，所述方法还包括：

形成覆盖所述衬底的下表面的预保护层；

在所述通孔结构侧壁外侧的所述衬底内形成凹槽，包括：从预保护层的下表面刻蚀所述预保护层与所述衬底，以在所述预保护层与所述衬底内形成凹槽；

在所述衬底的内部形成空隙，包括：形成覆盖所述预保护层的下表面的次保护层，所述次保护层覆盖所述凹槽的开口以在所述衬底的内部形成空隙；其中，所述预保护层与所述次保护层共同构成保护层。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，

所述第一材料和所述预保护层的材料具有高刻蚀选择比。