[发明专利]半导体装置封装体及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910327240.5 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN110660752A 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 陈又维;郭立中;施应庆;卢思维;林俊成;李隆华;黄冠育 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/29;H01L21/56;H01L25/18
代理公司: 72003 隆天知识产权代理有限公司 代理人: 王宇航;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 底胶层 集成电路芯片 热膨胀系数 封装体 半导体装置封装体 封装基板 接合 中介层 底胶 半导体装置 导电连接器 芯片连接器 封胶层 制造
【说明书】:

一种底胶结构及底胶结构的半导体装置的制造方法。半导体装置封装体包括一封装体,封装体包括一集成电路芯片;一中介层,经由多个芯片连接器接合至集成电路芯片;以及一封胶层,围绕集成电路芯片。半导体装置封装体还包括一封装基板,经由多个导电连接器接合至中介层;一第一底胶层,位于封装体与封装基板之间,第一底胶层具有第一热膨胀系数(CTE);以及一第二底胶层,围绕第一底胶层,第二底胶层具有小于第一热膨胀系数的第二热膨胀系数。

技术领域

发明实施例涉及一种半导体技术,且特别涉及一种半导体装置封装体及其制造方法。

背景技术

半导体装置用于各种电子应用中,例如个人电脑、手机、数码相机及其他电子设备。半导体装置的制造通常经由在半导体基底上按序沉积绝缘或介电层、导电层及半导体材料层,并使用光刻工艺图案化各种材料层,以在其上形成电路部件及元件。

半导体工业通过不断减小最小特征部件尺寸继续改善各种电子部件(例如,晶体管、二极管、电阻器、电容器等)的集积密度,这允许将更多元件集积于一给定区域。然而,随着最小特征部件尺寸的减小,也出现了应当解决的其他问题。

发明内容

一种半导体装置封装体包括:一种半导体装置封装体包括:一封装体,包括一集成电路芯片、经由多个芯片连接器接合至集成电路芯片的一中介层以及围绕集成电路芯片的一封胶层;一封装基底,经由多个导电连接器接合至中介层;一第一底胶层,位于封装体与封装基板之间,第一底胶层具有一第一热膨胀系数;以及一第二底胶层,围绕第一底胶层,第二底胶层具有小于第一热膨胀系数的一第二热膨胀系数。

一种半导体装置封装体的制造方法包括:将一芯片贴附至一中介层的一第一表面;以一封胶层封装芯片;形成多个导电连接器于中介层的一第二表面,第二表面相对于第一表面;经由导电连接器将中介层接合至一封装基底;沉积一第一底胶层于中介层与封装基底之间,并围绕导电连接器;以及沉积一第二底胶层以围绕第一底胶层,第二底胶层具有比第一底胶层低的热膨胀系数。

一种半导体装置封装体包括:一第一封装体,包括:一第一集成电路芯片、围绕第一集成电路芯片的一封胶层以及位于封胶层及第一集成电路芯片上的一重布层;多个功能连接器;一第二封装体,经由多个功能连接器接合至第一封装体,其中功能连接器及重布层电性连接第二封装体的一第二集成电路芯片至第一集成电路芯片;一第一底胶层,位于第一封装体与第二封装体之间,第一底胶层围绕功能连接器;以及一第二底胶层,围绕第一底胶层,第二底胶层具有不同于第一底胶层的材料组成,第二底胶层的最顶部区域范围位于第一底胶层的最上表面的上方。

附图说明

图1至图9B是示出根据一些实施例的半导体装置封装体中间制造阶段的剖面示意图。

图10至图17是示出根据一些实施例的半导体装置封装体中间制造阶段的剖面示意图。

附图标记说明:

100 第一装置封装体

100A、100B 装置区域

102 晶圆

104 芯片连接器

106A 第一芯片堆叠

106B 第二芯片堆叠

202 底胶层

302、1110 封胶层

402 导电连接器

404、1306 胶带

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910327240.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top