专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]智能功率模块和具有其的电子设备-CN202310641268.2在审
  • 谢地林;李正凯;周文杰;成章明;刘剑;别清峰 - 海信家电集团股份有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-09-01 - H01L25/16
  • 本发明公开了一种智能功率模块和具有其的电子设备,包括:基板,基板设有导电区;框架,框架包括控制侧框架和功率侧框架,控制侧框架和功率侧框架分设于基板的相对两侧;功率芯片,功率芯片安装于导电区且与功率侧框架电连接;电路板,电路板与控制侧框架连接驱动芯片,驱动芯片安装于电路板;导电插针,导电插针穿过电路板以与功率芯片连接,固定电路板和功率芯片的相对位置,驱动芯片通过电路板和导电插针和功率芯片电连接根据本发明实施例的智能功率模块能够避免在塑封过程中溢料,且电路板和功率芯片之间电连接结构短,便于连接。
  • 智能功率模块具有电子设备
  • [实用新型]一种新型超结IGBT结构-CN201621232477.3有效
  • 徐承福;白玉明;张海涛 - 无锡同方微电子有限公司
  • 2016-11-17 - 2017-08-15 - H01L29/739
  • 本实用新型涉及高压IGBT器件终端技术领域,尤其是一种新型超结IGBT结构,包括N‑基区、P基区、N+集电区、集电极、P柱、和背部P柱,其中P柱为多个且分布在N‑基区的内两侧,背部P柱为两个且位于集电极的上表面,两个背部P柱分别位于N‑基区的底部两侧。本实用新型的新型超结IGBT结构集成了超结MOSFET结构和结构,可以得到相应的超结MOSFET结构和结构的优点,同时两个背部P柱可以替代背P+层发射区,衬底的背部P柱可以用键合工艺的方法加工,无需采用背面光刻和P+注入的方法来形成IGBT,降低了超结IGBT结构整体制造工艺难度。
  • 一种新型超结逆导igbt结构
  • [发明专利]IGBT功率集成模块-CN202010837962.8在审
  • 尚敬;肖强;朱利恒;罗海辉;覃荣震;刘鹏飞 - 株洲中车时代半导体有限公司
  • 2020-08-19 - 2020-11-24 - H01L25/18
  • 本公开提供一种IGBT功率集成模块,包括衬板和设置于所述衬板上的IGBT芯片;所述衬板包括发射极导电层和集电极导电层;所述IGBT芯片包括终端区、若干IGBT器件和若干FRD器件;其中,所述IGBT器件的总面积为所述IGBT芯片的面积的50%至90%,所述IGBT器件的发射极PAD区与所述FRD器件的阳极PAD区通过绑定线与所述发射极导电层连接,所述IGBT器件的集电极PAD区和所述通过将若干IGBT器件和FRD器件集成在一个芯片上,形成IGBT芯片,使得IGBT器件和FRD器件共用芯片的终端区,提高了衬板通流能力。
  • 逆导型igbt功率集成模块
  • [发明专利]一种IGBT结构及其制备方法-CN201210424866.6在审
  • 尹建维 - 扬州虹扬科技发展有限公司
  • 2012-10-30 - 2013-02-27 - H01L29/06
  • 本发明涉及一种IGBT结构及其制备方法,包括半导体衬底、衬底正面结构和衬底背面结构,衬底正面结构与现有IGBT结构相同;衬底背面结构包括第三p区、第四p区、铝金属层、钒金层、镍金属层和银金属层,所述第三p区和第四p区位于半导体衬底的底部,且被半导体衬底部分隔离开,半导体衬底底部依次淀积有铝金属层,钒金属层、镍金属层和银金属层;该IGBT结构的衬底正面结构加工方法与制备常规IGBT该IGBT结构通特性好,“snapback”效应小,总面积小、封装可靠性高,封装成本低;其制备方法简单,加工成本低。
  • 一种igbt结构及其制备方法
  • [发明专利]一种多电极集成LED的双向导通光增强碳化硅IGBT器件-CN202310728817.X在审
  • 陈雨箭;张峰;张国良 - 厦门大学
  • 2023-06-19 - 2023-10-24 - H01L27/15
  • 一种多电极集成LED的双向导通光增强碳化硅IGBT器件,由多个元胞并联形成,各元胞包括P掺杂集电区、N掺杂集电区、N掺杂漂移区、N掺杂缓冲层、N掺杂漂移区、P掺杂的阱区、N掺杂的源区、P掺杂的基区、P掺杂的沟道区、氧化层、栅极电极、发射极电极、集电极电极、LED元胞;通过在IGBT器件的发射极和栅极内部集成LED元胞,使栅极集成的LED元胞在正向导通时发光,发射极集成的LED元胞在器件反向导通时发光,使IGBT器件内部在通时产生大量光生载流子,大幅提高IGBT器件的正反向导通电流密度并消除IGBT器件正向导通时的折回现象,增强IGBT器件的续流能力。
  • 一种电极集成led双向导通光增强逆导型碳化硅igbt器件

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