专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种玻璃生产用设备-CN202021157289.5有效
  • 周秋群 - 博群志达玻璃科技(天津)有限责任公司
  • 2020-06-19 - 2021-01-22 - B24B7/24
  • 本实用新型公开了一种玻璃生产用设备,包括玻璃处理台,所述玻璃处理台的底部安装有稳固底座,所述玻璃处理台的顶部设置有废渣收集槽,所述顶架的底部两侧安装有电推杆,所述第一防护罩的顶端中部通过电机座安装有电机,所述玻璃处理台的一侧安装有排料斗。本实用新型的玻璃处理台的顶端中部设置有废渣收集槽,在废渣收集槽的内部两侧安装有玻璃放置台,在玻璃放置台的外侧安装有第二防护罩,且玻璃放置台与打磨盘正对,且打磨盘的外侧安装有第一防护罩,通过第一防护罩和第二防护罩可以对玻璃打磨产生的废渣进行防溅射保护
  • 一种玻璃生产用减薄设备
  • [发明专利]晶圆的研磨方法及晶圆的处理方法-CN202210769328.4在审
  • 段亦锋 - 上海积塔半导体有限公司
  • 2022-07-01 - 2022-09-20 - H01L21/02
  • 本申请提供一种晶圆的研磨方法及晶圆的处理方法。晶圆的研磨方法包括:提供晶圆,晶圆包括器件区域及边缘区域;自晶圆的背面对晶圆进行预处理;对预处理后的晶圆的背面进行太鼓研磨,太鼓研磨后,晶圆的边缘区域形成凸环。本发明的晶圆的研磨方法中,在对晶圆的背面进行太鼓研磨之前增设对自晶圆的背面进行预处理的步骤,可以通过调节预处理中的量来灵活调整最终得到的晶圆的最终厚度,可以得到数值范围更为广泛的最终厚度的晶圆
  • 研磨方法处理
  • [发明专利]一种半导体芯片的方法-CN200810123541.8有效
  • 章文;丁荣峥;吴刚 - 无锡中微高科电子有限公司
  • 2008-06-06 - 2008-11-19 - H01L21/00
  • 本发明涉及一种半导体芯片的方法,具体地说是半导体芯片等器件厚度的工艺,属于集成电路制造技术领域。特征是将半导体器件有图形的面朝下行列拼排;需正面粘附在保护膜上,形成一个正方形或长方形;在正方形或长方形外围放置面积、厚度与半导体器件面积、厚度相当的片状物,再围成一个正方形或长方形,使时中间半导体器件受力均匀;再设置薄厚度,采用磨削法开始结束后,已芯片后处理;最后交出满足工艺要求芯片。本发明不需改变现有的设备、工装夹具等;后芯片厚度一致与圆片薄厚度一致性相当,成品率高;芯片级尺寸后芯片边缘无缺损、无裂纹。
  • 一种半导体芯片方法
  • [发明专利]一种基于螺杆机构的极片工艺及设备-CN202210651888.X在审
  • 刘嘉兵;周研;张冬 - 广东嘉拓自动化技术有限公司
  • 2022-06-09 - 2022-08-30 - H01M4/139
  • 本发明公开了一种基于螺杆机构的极片工艺及设备,其中,极片工艺包括:螺杆机构送料、极片成型、对辊、三辊;极片设备包括螺杆机构、模头、对辊机构、张力检测机构、摆辊调节机构及三辊机构,螺杆机构用于将极片原料输送给模头,模头用于将极片原料成型并向外输出极片,对辊机构用于对极片进行第一次处理,张力检测机构用于检测极片的张力大小,摆辊调节机构包括摆辊并可通过摆辊调节极片的张力大小,三辊机构可通过第一移动钢辊、第二移动钢辊及中间钢辊对极片进行二次。该种基于螺杆机构的极片工艺及设备具有工艺及设备简单、操作方便等优点,在实际应用时可提升生产效率,提高产品质量。
  • 一种基于螺杆机构极片减薄工艺设备
  • [发明专利]半导体基底方法-CN202010040621.8在审
  • 朱宏斌 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2020-01-15 - 2020-05-19 - H01L21/322
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种半导体基底方法。本发明提供了一种半导体基底方法,包括如下步骤:提供一半导体基底;对所述半导体基底内部的一区域进行改性处理,形成夹设于所述半导体基底内部的改性层;以所述改性层为截止层刻蚀掉部分所述半导体基底,实现所述半导体基底的本发明简化了半导体基底的工艺,降低了成本;而且能够确保薄面的平坦度,改善了半导体器件的性能。
  • 半导体基底方法
  • [发明专利]一种玻璃基板单面方法-CN201610748780.7在审
  • 彭寿;茆令文;鲍兆臣;张少波;陶明山 - 凯盛科技股份有限公司;蚌埠玻璃工业设计研究院
  • 2016-08-30 - 2017-01-25 - C03C15/00
  • 本发明公开一种玻璃基板单面方法,包括以下步骤a)将待玻璃基板的保护面贴覆于抗酸膜片上,抗酸膜片的面积大于玻璃基板的面积;b)露出玻璃基板的薄面,将步骤a处理后的抗酸膜片用抗酸膜条贴于PVC板上,PVC板的面积大于抗酸膜片的面积;c)将步骤b处理后的PVC板插入蚀刻篮具里,送入蚀刻机中进行;d)按工艺蚀刻完成后,除去抗酸膜条与抗酸膜片得到单面后的玻璃基板;使用本方法进行单面时,PVC板插入蚀刻篮具里,玻璃基板边缘和底部没有直接与夹条及底齿接触,蚀刻后的玻璃无边缘夹条印和底齿印现象,提高质量;另外,根据玻璃基板尺寸,可以在一块PVC板上同时粘附若干片玻璃基板,提高效率。
  • 一种玻璃单面方法
  • [发明专利]一种管材制备方法-CN202311165125.5在审
  • 王剑平;郭照生;王纯凯;杨晟 - 江苏常宝钢管股份有限公司
  • 2023-09-11 - 2023-10-17 - B21B19/06
  • 本发明公开了一种管材制备方法,方法的步骤中含有:对脱棒后的荒管的管端部的管端台阶进行加热;管端台阶在适于将毛管端部紧抱在芯棒头部的缩口工序形成在荒管的管端部的内壁上的;对荒管的管端部进行处理管端台阶,达到张机入口尺寸要求;对管端部处理后的荒管再加热至张机要求温度;经张力径机组实现处理,使张力径机组出口的管材参数满足轧制预设定的要求。
  • 一种管材制备方法
  • [发明专利]一种半导体封装结构的开封方法-CN202110226516.8在审
  • 徐静 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-03-01 - 2021-06-22 - H01L21/02
  • 本申请公开了一种半导体封装结构的开封方法,半导体封装结构包括基板、晶粒堆叠结构和封装材料层;晶粒堆叠结构包括依次堆叠设置在基板上的多个晶粒;多个晶粒包括目标晶粒;开封方法包括以下步骤:对半导体封装结构远离基板的一侧沿纵向进行处理,直至距离目标晶粒的上表面预设距离的停止面,使半导体封装结构保留位于目标晶粒的上表面与停止面之间的剩余材料,以及位于停止面下方且位于目标晶粒四周的后封装材料层;以及移除剩余材料以及位于停止面下方且位于目标晶粒四周的部分后封装材料层
  • 一种半导体封装结构开封方法
  • [发明专利]一种晶圆背面的方法及晶圆结构-CN202111255085.4在审
  • 张志伟 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2021-10-27 - 2022-01-28 - H01L21/02
  • 本申请实施例涉及半导体领域,提供一种晶圆背面的方法及晶圆结构,其中,一种晶圆背面的方法包括:提供晶圆,晶圆具有相对的第一面和第二面,且晶圆具有中心区和边缘区,边缘区包围中心区;在第一面的边缘区形成保护胶,保护胶还覆盖于与第一面相邻接的部分侧面,且保护胶顶面高于第一面;沿着第二面指向第一面的方向上,对晶圆的第二面进行处理,且处理过程中还对部分厚度的保护胶进行,可以提高晶圆过程中工艺的控制的稳定性
  • 一种背面方法结构
  • [发明专利]一种晶圆厚度异常的处理方法-CN202310226117.0在审
  • 李斌;王三虎 - 华天科技(南京)有限公司
  • 2023-03-10 - 2023-06-06 - B24B37/005
  • 本发明公开了一种晶圆厚度异常的处理方法,包括以下步骤:对研磨后的400μm以下厚度的晶圆贴正面胶膜,随后进行处理和研磨处理。本发明提供的晶圆厚度异常的处理方法,先选择粘性强、厚度合适的正面胶膜,确保正面胶膜与晶圆结合牢固的同时提高产品强度,避免了晶圆破裂风险,再根据不同研磨量选择不同的研磨模式,最后进行手动研磨处理,确保产品质量,能够解决晶圆厚度异常或临时变更厚度的问题,工艺简单,适合工业化推广使用。
  • 一种厚度异常处理方法
  • [发明专利]一种液晶玻璃的方法及装置-CN201710524145.5在审
  • 程素芹;王小艳 - 安徽新创智能科技有限公司
  • 2017-06-30 - 2017-10-13 - C03C15/00
  • 本发明公开了一种液晶玻璃方法及装置,所述方法包括步骤对待玻璃进行封边和固化处理;对所述玻璃进行清洗,并将抗酸膜贴附在与所述玻璃的待薄面相反的一面;采用酸性腐蚀液对待玻璃的待薄面腐蚀,在对所述玻璃进行腐蚀的同时,利用与所述玻璃相对运动的摩擦机构对所述玻璃的待薄面进行刮平。本发明提供的玻璃方法可以去除玻璃表面的杂质以及污点,减少玻璃表面的凹陷,保证玻璃厚度的均一性,玻璃表面平整。
  • 一种液晶玻璃方法装置

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