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- [发明专利]一种带掩膜的二值图光流法-CN202310293704.1在审
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罗银;杨征军;薛军帅
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深圳市华昇精密科技有限公司
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2023-03-17
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2023-06-23
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G06T7/11
- 本发明公开了一种带掩膜的二值图光流法,包括以下步骤:S01、将设计图进行二值化处理,获得二值图TemplateBin;S02、将拍摄图进行二值化处理,获得二值图SourceBin;S03、生成与TemplateBin和SourceBin同样大小的掩膜图MaskBin;S04、计算在掩膜图MaskBin非0位置处SourceBin到TemplateBin的光流场。该发明提供的带掩膜的二值图光流法,通过对设计图像和拍摄图像分别执行二值化处理,并对处理后的图片生成与之相同的掩膜图,通过对掩膜图在二值化处理后的设计图像和拍摄图像之间光流场参数计算后判断,确定当前成品与设计图保持在可允许范围内
- 一种带掩膜二值图光流法
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