专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种设备、系统和方法-CN201910464896.1在审
  • 霍志军;赵滨 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2019-05-30 - 2020-12-01 - B81C3/00
  • 本发明公开了一种设备、系统和方法,该设备包括腔体、真空系统、加压机构、第一加热/冷却机构、第一静电吸附机构、第二静电吸附机构和第二加热/冷却机构。冷却机构完全接触,增加了第一基底与第一加热/冷却机构的温度传导面积,使得第二加热/冷却机构在对第二基底进行加热时,第一加热/冷却机构可以快速的冷却第一基底的温度,从而可以避免第一基底的温度太高,使得第一基底在前融化的问题,因此可以提高的良率。
  • 一种设备系统方法
  • [发明专利]集成电路芯片视觉对准方法-CN200410060835.2无效
  • 李小平;聂宏飞;李朝晖;杨文建 - 华中科技大学
  • 2004-09-10 - 2005-04-06 - H01L21/60
  • 集成电路芯片视觉对准方法,属于集成电路芯片封装方法,针对现有方法局限,实现芯片上点快速准确对准。本发明在引线框架和芯片上分别选取设计样本点,图像处理求出样本点测量坐标值,根据图像不变矩检测出有缺陷的芯片;得芯片位置变换参数再由其得出计算坐标;用计算坐标减去测量坐标得到样本点的非线性误差;当误差超过允许值时,选其旁边的样本点作为替代,直到误差值小于允许值,最后将点排列坐标换算成头工作台位移坐标。本发明可修正贴片工艺中的误差,剔除坏芯片与计算并行处理,提高了效率,实现了准确高效的对准,适用于芯片、检测装置,在半导体、液晶显示、薄膜磁头等现代制造业中有广泛用途。
  • 集成电路芯片视觉对准方法
  • [发明专利]晶圆级封装方法及封装结构-CN201811028264.2有效
  • 罗海龙;克里夫·德劳利 - 中芯集成电路(宁波)有限公司
  • 2018-09-04 - 2021-05-07 - H01L21/603
  • 一种晶圆级封装方法及封装结构,封装方法包括:提供器件晶圆,包括多个第一芯片,第一芯片包括第一电极,且第一电极由器件晶圆露出,器件晶圆露出第一电极的面为晶圆正面;提供承载基板,在承载基板上临时多个第二芯片,包括第二电极,且第二电极由第二芯片露出,第二芯片露出第二电极的面为芯片正面,与芯片正面相背的面为芯片背面;使芯片背面和晶圆正面相对设置,采用熔融工艺使芯片背面合于晶圆正面;对第二芯片和承载基板进行处理本发明实现电性连接的工艺较为简单,且器件晶圆和第二芯片的强度较高,保证了电性连接效果。
  • 晶圆级封装方法结构
  • [发明专利]一种IGBT硅片背面退火方法-CN201610379104.7有效
  • 周炯 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2016-05-31 - 2019-12-24 - H01L21/324
  • 本发明提出一种IGBT硅片背面退火方法,包括下列步骤:完成IGBT硅片的正面工艺;对所述硅片背面进行减薄工艺,将其研磨至所需厚度;将减薄后硅片的器件面与基底进行有机胶临时;对所述硅片进行离子注入;对所述硅片背面进行退火处理;进行临时工艺,将硅片与基底分离;所述基底的的材料为玻璃基底,厚度为100~500μm。本发明提出的IGBT硅片背面退火方法,采用808nm+双527nm激光波长组合,利用基底对底部硅片的热量起到阻热作用,间接提供了底部预热功能,同样可以实现大结深IGBT退火工艺需求。
  • 一种igbt硅片背面退火方法

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