本发明公开了一种p‑GaN氮化镓基晶体管结构,包括:衬底、缓冲层、GaN层及A l GaN层,在所述A l GaN层上还设有源极、漏极和p‑GaN帽层;所述p‑GaN帽层上设有栅极,所述p‑GaN帽层和所述栅极之间至少设有一层绝缘层通过在p‑GaN帽层与栅极之间增加了一层绝缘层,使得本发明提供的氮化镓基晶体管具有更高的导通电压与击穿电压,让该晶体管在工作时栅极和源极之间的工作电压即使发生波动也无法达到上述的导通电压与击穿电压,可以避免栅极和源极之间的击穿问题,提高晶体管工作时的稳定性,特别是氮化镓基晶体管中,可以避免由于击穿导致的不可逆的永久损坏。