专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]晶体制备方法及晶体-CN202210097219.2在审
  • 蒋其梦;王宇豪;黄森;王鑫华;刘新宇 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-01-26 - 2023-08-04 - H01L21/335
  • 本发明提供一种晶体制备方法,包括:提供一个叠层结构,所述叠层结构包括从下向上依次设置的基板、氮化沟道层、第一氮化铝膜层、氮化铝势垒层、第二氮化铝膜层、P型氮化膜层以及重掺杂P型氮化膜层;对所述叠层结构的第一区域刻蚀至氮化沟道层,并在所述氮化沟道层形成背栅电极;在所述叠层结构的第二区域形成间隔设置的源漏电极;对所述源漏电极之间的第三区域刻蚀至P型氮化膜层之内,并在所述刻蚀区域形成栅电极。本发明提供的晶体制备方法及晶体,能够通过背栅调制来实现栅下空穴的耗尽,从而完成对阈值电压的调制,避免对栅槽的深度刻蚀,提高栅下空穴的迁移率。
  • 晶体管制备方法
  • [发明专利]一种p-GaN氮化晶体结构-CN202210994568.4在审
  • 刘丹 - 晶通半导体(深圳)有限公司
  • 2022-08-18 - 2022-10-11 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种p‑GaN氮化晶体结构,包括:衬底、缓冲层、GaN层及A l GaN层,在所述A l GaN层上还设有源极、漏极和p‑GaN帽层;所述p‑GaN帽层上设有栅极,所述p‑GaN帽层和所述栅极之间至少设有一层绝缘层通过在p‑GaN帽层与栅极之间增加了一层绝缘层,使得本发明提供的氮化晶体具有更高的导通电压与击穿电压,让该晶体在工作时栅极和源极之间的工作电压即使发生波动也无法达到上述的导通电压与击穿电压,可以避免栅极和源极之间的击穿问题,提高晶体工作时的稳定性,特别是氮化晶体中,可以避免由于击穿导致的不可逆的永久损坏。
  • 一种gan氮化晶体管结构
  • [实用新型]一种p-GaN氮化晶体结构-CN202222196141.8有效
  • 刘丹 - 晶通半导体(深圳)有限公司
  • 2022-08-18 - 2022-12-09 - H01L29/06
  • 本实用新型公开了一种p‑GaN氮化晶体结构,包括:衬底、缓冲层、GaN层及AlGaN层,在所述AlGaN层上还设有源极、漏极和p‑GaN帽层;所述p‑GaN帽层上设有栅极,所述p‑GaN帽层和所述栅极之间至少设有一层绝缘层通过在p‑GaN帽层与栅极之间增加了一层绝缘层,使得本实用新型提供的氮化晶体具有更高的导通电压与击穿电压,让该晶体在工作时栅极和源极之间的工作电压即使发生波动也无法达到上述的导通电压与击穿电压,可以避免栅极和源极之间的击穿问题,提高晶体工作时的稳定性,特别是氮化晶体中,可以避免由于击穿导致的不可逆的永久损坏。
  • 一种gan氮化晶体管结构
  • [发明专利]一种用于AC/DC的氮化晶体及其制造方法-CN202011569284.8在审
  • 鲍通 - 令储(上海)科技发展有限公司
  • 2020-12-26 - 2021-04-16 - H01L29/778
  • 本发明公开了一种用于AC/DC的氮化晶体,包括成核层和衬底层,成核层的底部设有衬底层,衬底层上设有流体散热结构,衬底层的底部固定安装有散热座,成核层的顶部设有导电缓冲层,导电缓冲层远离成核层的一侧设有漂移层,电子阻挡层远离导电缓冲层的一侧设有沟道层,沟道层远离电子阻挡层的一侧设有势垒层,势垒层顶部相对的两侧设有源极电极,有益效果:衬底层上设有流体散热结构,衬底层散热性能好,在下衬底层上安装有散热座,使得氮化晶体整体具有散热结构,增加的流体散热结构和散热座,有效的改善氮化晶体的散热性能,优化氮化晶体的使用性能和使用寿命,降低成本。
  • 一种用于acdc氮化晶体管及其制造方法
  • [发明专利]模型参数的提取方法及装置、服务器和存储介质-CN202011527132.1在审
  • 张万鑫;李翡 - 成都华大九天科技有限公司
  • 2020-12-22 - 2021-03-26 - G06F30/3308
  • 本公开提供了模型参数的提取方法及装置、服务器和存储介质,用于对氮化高电子迁移率晶体的仿真模型进行模型参数的提取,所述方法包括:获取测试数据,测试数据为氮化高电子迁移率晶体在一工作电压下经测试得到的漏极电流;通过fmincon函数从模型参数的多个候选取值中提取使对应仿真数据与测试数据一致的候选取值,并将提取到的候选取值确定为模型参数的目标取值;其中,仿真数据与候选取值一一对应,仿真数据为氮化高电子迁移率晶体模型基于对应候选取值在工作电压下仿真得到的漏极电流本公开能够对氮化高电子迁移率晶体的仿真模型进行模型参数的自动化快速提取。
  • 模型参数提取方法装置服务器存储介质
  • [发明专利]一种氮化晶体动态导通电阻测试电路及测试方法-CN202310834223.7在审
  • 张魁伟;郭澄;于洋;石晓曼 - 北京海创微芯科技有限公司
  • 2023-07-07 - 2023-10-13 - G01R31/26
  • 本申请实施例提供的一种氮化晶体动态导通电阻测试电路及测试方法,涉及半导体技术领域,以解决目前的测试方法,存在测试环境一致性较低,测试结果的客观性和准确性较差的问题。该电路包括:第一电路,第一电路包括氮化晶体;第二电路,第二电路包括氮化晶体;电路切换单元,电路切换单元与第一电路和第二电路电连接,用于根据电路切换单元的切换状态形成对应的测试电路,在第一切换状态下,电路切换单元用于与第一电路电连接形成第一测试电路,在第二切换状态下,电路切换单元用于与第一电路和第二电路电连接形成第二测试电路,第一测试电路与第二测试电路用于测试氮化晶体的动态导通电阻。
  • 一种氮化晶体管动态通电测试电路方法
  • [发明专利]一种源端场板高电子迁移率晶体-CN201310611822.9在审
  • 唐武;王云波 - 电子科技大学
  • 2013-11-26 - 2014-02-19 - H01L29/778
  • 本发明解决了现有AlGaN/GaN高电子迁移率晶体沟道电场分布不均匀的问题,提供了一种源端场板高电子迁移率晶体,其技术方案可概括为:一种源端场板高电子迁移率晶体,与现有技术区别在于,其势垒层为:AlGaN第一势垒层及AlGaN第二势垒层,AlGaN第二势垒层上还具有氮化盖帽层及氮化硅钝化层,氮化盖帽层上设置源极金属、漏极金属及栅极金属,氮化硅钝化层设置在氮化盖帽层上,源极金属及漏极金属之间,所述氮化硅钝化层上靠近源极金属位置设置有源端场板本发明的有益效果是,击穿电压更大,提高了输出功率,适用于高电子迁移率晶体
  • 一种源端场板高电子迁移率晶体管

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