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[发明专利]一种图形自动补齐方法、装置及存储介质-CN202210842222.2在审
发明人：郑凯;何祎;刘玉峰 -专利权人：广州中望龙腾软件股份有限公司
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G06T11/00 文献下载
摘要：本发明公开一种图形自动补齐方法，包括：根据各个软件平台所提供的标准零部件的图形构建包括每种图形的图形信息和特征图片的图形数据库；获取待补齐图形的特征图片，并将其与所述图形数据库中的每种图形的特征图片进行匹配，以得出若干个命中图形；获取用户选择的命中图形并从所述图形数据库中调取所述用户选择的命中图形的图形信息，并根据所述用户选择的命中图形的图形信息将待补齐图形绘制完成。本发明能够根据当前用户已经绘制的图形可快速对绘制的图形进行补齐，减少用户的工作量，提高绘图效率。本发明还提供一种图形自动补齐装置及存储介质。
一种图形自动方法装置存储介质

[发明专利]图形排样方法、装置、电子设备及存储介质-CN202211503564.8在审
发明人：张春雨;孙涛;潘高超 -专利权人：苏州汇川控制技术有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G06F30/17 文献下载
摘要：本发明公开了一种图形排样方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取各待排入图形；对各待排入图形进行组合，得到各个目标排入图形，其中，目标排入图形包括组合拼接图形；将各目标排入图形排入板材；其中，对各待排入图形进行组合，得到各个目标排入图形的步骤包括：获取各待排入图形中的至少两个图形组成备选拼接组合，将备选拼接组合中的待排入图形拼接为备选拼接图形；确定备选拼接图形中各待排入图形之间的拼接间隙值，若所述拼接间隙值满足预设的拼接条件，则将备选拼接图形确定为组合拼接图形。本发明通过图形拼接减小待排入图形之间的排样间隙，实现了提高排样利用率的技术效果。
图形方法装置电子设备存储介质

[发明专利]一种云端绘图系统、方法和设备-CN202211539601.0在审
发明人：宋方圆 -专利权人：上海中通吉网络技术有限公司
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G06F9/451 文献下载
摘要：本发明涉及计算机绘图技术领域，具体涉及一种云端绘图系统、方法和设备，其中所述系统应用在云端服务器上，具有图形导入模块，用于导入图形数据，图形模块，用于为图形数据注册生成对应的图形节点，画板模块，用于提供画板展示图形，图形库模块，用于存储图形节点，并在画板上展示图形，连接线模块，用于在画板上连接图形，并附带起始点节点信息，图形导出模块，用于导出画板上的图形数据，用户可以通过本系统在云端服务器上，通过图形导入模块导入图形，通过图形模块、图形库模块和连接线模块，在画板模块提供的画板上绘制自身需要的图形，通过图形导出模块，导出绘制完毕的图形数据，从而解决了缺少云端绘制流程的绘图工具的问题。
一种云端绘图系统方法设备

[发明专利]曝光方法-CN201310222163.X有效
发明人：倪百兵;曹轶宾 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-06-05 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光方法，所述曝光方法包括：提供待曝光图案，所述待曝光图案具有若干图形，且所述待曝光图案具有两种不同间距的所述图形；提供伪辅助图案，所述伪辅助图案包括若干数量的辅助图形，相邻辅助图形的间距相同；获取所述辅助图形的宽度和相邻辅助图形的间距；当所述相邻图形的间距大于或等于临界尺寸时，确定所述相邻图形之间的区域为填充区，所述填充区边缘的图形为孤立图形；在所述待曝光图案的填充区内填充所述辅助图案，形成伪待曝光图形；根据所述伪待曝光图形形成第一图形和第二图形，所述第一图形和第二图形分别作为双重图形化曝光的两套掩膜图形。所述曝光方法可以提高刻蚀图形的准确性。
曝光方法

[发明专利]次分辨率辅助图形校正方法-CN200910045706.9有效
发明人：李承赫 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-01-23 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种次分辨率辅助图形校正方法，包括：设置辅助图形，确定辅助图形参数的初始值；移动主图形的边缘，并计算主图形的边缘放置误差，获得对应于所述辅助图形参数的所述主图形边缘放置误差的最小值；根据主图形边缘放置误差的所述最小值，计算主图形边缘的图案参数，获得与所述主图形边缘图案参数最大值所对应的辅助图形参数；重复主图形边缘放置误差和主图形图案参数的计算步骤，对辅助图形参数进行更新，直至确定辅助图形，使对应的主图形的边缘放置误差为零以及具有最大的图案参数本发明有机地结合了辅助图形的产生、优化以及主图形的光学近邻校正，简化了掩模图形的校正过程，节省了大量的人力和物力。
分辨率辅助图形校正方法

[发明专利]一种图形密码保护方法-CN201410040065.9有效
发明人：曾立;张弦;曾凡嘉 -专利权人：曾立
申请日： 2014-01-28 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： G06F21/36 文献下载
摘要：一种图形密码保护方法，包括图形密码的设置方法、图形密码的验证方法，图形密码的设置方法为先选定处理器的显示界面上显示的多幅预设几何图形的其中一幅作为图形密码的基本图形，并将该基本图形设定为第一图形密码，然后着改变基本图形的结构以形成修改后的图形，再将该修改后的图形设定为第二图形密码，图形密码的验证方法为用户先对显示界面上显示的一幅几何图形与第一图形密码进行比对，比对通过后改变该几何图形的结构以形成输入图形，并确认将该输入图形作为验证密码进行输入
一种图形密码保护方法

[发明专利]一种阵列基板及制作方法-CN201610003750.3有效
发明人：杨小飞;莫再隆;辛燕霞;代科;朱亚文;苏磊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-01-04 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： H01L23/60 文献下载
摘要：其中，阵列基板包括依次形成在衬底基板上的金属图形以及导电图形，所述导电图形与所述金属图形绝缘，与所述导电图形同层同材料形成的静电释放图形，所述静电释放图形与所述导电图形绝缘，并连接所述金属图形。本发明的方案在形成导电图形的制作工艺中还额外形成一个用于与金属图形连接的静电释放图形，该静电释放图形用于释放金属图形上一部分静电，防止金属图形的静电击穿到导电图形上，从而与导电图形短接。由于该静电释放图形可以采用导电图形的构图工艺形成，因此本实施例的阵列基板并不会额外增加制作成本，具有很高应用价值。
导电图形金属图形静电释放阵列基板绝缘制作衬底基板构图工艺静电击穿制作工艺静电同材料短接同层释放应用

[发明专利]一种利用图形数据进行查询的方法及其装置-CN200410073203.X无效
发明人：陈淮琰;何王合 -专利权人：无敌科技(西安)有限公司
申请日： 2004-10-27 - 公布日： 2005-04-06 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用图形数据进行查询的方法及其装置。该方法包括以下步骤：1)建立图形数据库；2)输入所需查询的图形数据；3)根据图形数据库的图形基本特征分析所需查询的图形数据所代表的图形基本特征；4)根据该图形基本特征自该图形数据库中取出该图形基本特征的图形分类；5)根据取出的图形分类找出与其相关的图形，并根据该图形自该图形数据库中取出与该图形对应的图形解释。本发明为解决背景技术中存在的技术问题，而提供一种只需输入图形数据，即可查询与该图形数据对应的字汇及其释义的字汇查询方法及其装置。
一种利用图形数据进行查询方法及其装置

[实用新型]一种阵列基板及显示装置-CN201620006288.8有效
发明人：杨小飞;莫再隆;辛燕霞;代科;朱亚文;苏磊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-01-04 - 公布日： 2016-07-13 - 主分类号： H01L23/60 文献下载
摘要：其中，阵列基板包括依次形成在衬底基板上的金属图形以及导电图形，所述导电图形与所述金属图形绝缘，与所述导电图形同层同材料形成的静电释放图形，所述静电释放图形与所述导电图形绝缘，并连接所述金属图形。本实用新型的方案在形成导电图形的制作工艺中还额外形成一个用于与金属图形连接的静电释放图形，该静电释放图形用于释放金属图形上一部分静电，防止金属图形的静电击穿到导电图形上，从而与导电图形短接。由于该静电释放图形可以采用导电图形的构图工艺形成，因此本实施例的阵列基板并不会额外增加制作成本，具有很高应用价值。
一种阵列显示装置

[发明专利]采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法-CN202111409229.7在审
发明人：汪牡丹;于世瑞 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G06F30/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种采用可视化编辑图形数据库处理辅助图形的方法，包括：步骤S1，建立目标图形数据库；所述目标图形数据库包括多个目标图形，每个目标图形包括主图形和辅助图形；步骤S2，定义图形搜索范围的尺寸；步骤S3，定义图形匹配的限定条件；所述限定条件包括主图形的锚点和辅助图形的线宽尺寸范围；步骤S4，对整个测试版图进行图形扫描，找到符合所述限定条件的匹配图形，标记所述匹配图形并输出匹配图形和标记的版图数据；步骤S5，依据匹配图形的版图数据，确定至少一个辅助图形。
采用可视化编辑图形数据库处理辅助方法

[发明专利]滤除图形匹配度误报错的方法-CN201810840252.3有效
发明人：顾婷婷;陈翰;张辰明 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G06F30/39 文献下载
摘要：本发明公开了一种滤除图形匹配度误报错的方法，包括：步骤1，进行图形匹配度检查，输出匹配区域；步骤2，在匹配区域中设置检查区域；步骤3，检查区域去除矩形的匹配区域形成temp1图形；步骤4，检查区域去除所有匹配区域形成temp2图形；步骤5，检查区域去除所有匹配区域的延伸图形形成temp3图形；步骤6，temp1图形去除temp2图形形成temp4图形；步骤7，temp2图形与temp4图形有共同边的图形形成temp5图形；步骤8，temp5图形去除temp3图形形成第一类图形；步骤9，temp2图形中选取宽度大于设定值的第二类图形；步骤10，步骤8和步骤9的图形合集为最终需检查的图形。本发明通过异或处理和图形挑选可以有效地滤除图形匹配度检查中的误报错，大幅提升效率，并且不受SRAM图形特征影响。
图形匹配度误报错方法

[发明专利]图形码的显示方法及装置-CN202111166155.9在审
发明人：许胜华 -专利权人：维沃移动通信有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G06F9/451 文献下载
摘要：本申请公开了一种图形码的显示方法及装置，属于信息处理技术领域。该方法包括：显示第一图形码；所述第一图形码为图形码集合中的图形码；根据所述第一图形码在所述图形码集合中的位置，获取第二图形码；所述第二图形码为所述图形码集合中的图形码；显示所述第二图形码。
图形显示方法装置

[发明专利]光学临近修正、光掩模版制作及图形化方法-CN201910655742.0在审
发明人：杜杳隽;李亮 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学临近修正、光掩模版制作及图形化方法，其中光学临近修正方法包括：提供目标图形；增大目标图形的边长，形成初始图形；对初始图形进行修正，获得对应的第一修正图形；形成辅助图形，辅助图形包围第一修正图形；将第一修正图形和辅助图形进行差异因子比较；如果差异因子的值大于预定阈值，增大所第一修正图形对应的目标图形的面积，形成修正目标图形；对第一修正图形进行过程修正，获取对应的过程修正图形；重复上述进行差异因子比较的步骤，直至修正满足的预定次数；对形成的第一修正图形和过程修正图形进行最终修正，获取修正图形。本发明保证光刻图形转移到晶圆上的准确性，保证形成的半导体器件能够达到设计的尺寸要求。
光学临近修正模版制作图形方法

[发明专利]光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法-CN201911380295.9在审
发明人：陈权 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法，光学邻近修正模型的建立方法包括：提供晶圆版图图形和初始测试图形；获取晶圆版图图形和初始测试图形的光强参数信息；比较晶圆版图图形和初始测试图形的光强参数信息，并判断初始测试图形的光强参数信息是否涵盖晶圆版图图形的光强参数信息，当涵盖时，将初始测试图形作为测试图形，当未涵盖时，将初始测试图形所缺失的光强参数信息对应的图形作为新增图形，并将新增图形添加至初始测试图形中以获得测试图形；根据测试图形，建立与晶圆版图图形相对应的光学邻近修正模型。本发明所述光学邻近修正模型中的测试图形能够更好地表征晶圆版图图形，从而提高了光学邻近修正的精准度。
光学邻近修正模型建立方法以及

[发明专利]改版冗余图形填充方法、系统及电子设备-CN202310626845.0在审
发明人：曹云;李佳佳;魏芳 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明提供了一种改版冗余图形填充方法、系统及电子设备，包括：提供改版版图，改版版图具有改版版图层次；获得改版冗余图形可填充区域；获得位于改版冗余图形可填充区域内的冗余图形作为第一冗余图形区；获得相邻改版版图层次中的区域外组合冗余图形；在变形固定组合冗余图形库中，获得区域外组合冗余图形对应的位于改版冗余图形可填充区域外的变形冗余图形作为第二冗余图形区；将改版版图层次中的独立冗余图形作为第三冗余图形区；将第一冗余图形区、第二冗余图形区及第三冗余图形区合并为改版版图层次的改版冗余图形，将改版冗余图形填充至改版冗余图形可填充区域内，实现对改版版图进行改版冗余图形的填充。
改版冗余图形填充方法系统电子设备