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[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202310876178.1在审
发明人：韦鑫;王磊磊 -专利权人：长鑫科技集团股份有限公司
申请日： 2023-07-17 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：一种半导体结构的形成方法包括：提供衬底，衬底包括阵列区及对准标记区，在阵列区，第一图形组设置在衬底上，第一图形组包括多个间隔设置的第一图形，在对准标记区，第二图形组设置在衬底上，第二图形组包括多个间隔设置的第二图形，第一图形组与第二图形组在同一工艺步骤中形成，填充层填充在相邻的第一图形之间的间隙及相邻的第二图形之间的间隙中，并覆盖第一图形与第二图形的顶面；去除覆盖第二图形顶面以及填充在相邻的第二图形之间的间隙中的填充层；形成遮挡层，遮挡层填充在相邻的第二图形之间的间隙中，并覆盖第二图形的侧壁及顶面，且遮挡层为金属层，以形成由遮挡层与第二图形组共同构成的套刻对准标记图形。
半导体结构及其形成方法

[发明专利]移动终端及其快速显示图形的方法-CN200810303634.9有效
发明人：廖建凉 -专利权人：深圳富泰宏精密工业有限公司;奇美通讯股份有限公司
申请日： 2008-08-08 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H04M1/725 文献下载
摘要：一种移动终端快速显示图形的方法，该方法包括步骤：接收图形的索引信息；根据接收的图形的索引信息判断该接收的图形是否存在于移动终端的快取队列中，若接收的图形存在于快取队列中，则从快取队列中取出该接收的图形的解码信息；若接收的图形不存在于快取队列中，则根据接收的图形的索引信息得到该接收的图形的原始信息，根据该接收的图形的原始信息解码得到该接收的图形的解码信息，并将该接收的图形的索引信息及该接收的图形的解码信息存储于快取队列；及根据该接收的图形的解码信息将该接收的图形显示在显示装置上。本发明还提供一种快速显示图形的移动终端。本发明能够有效地减少图形重复解码，从而加快图形的显示速度。
移动终端及其快速显示图形方法

[发明专利]一种全反射阵列基板及其制作方法和显示装置-CN201610806423.1有效
发明人：张正东;杨小飞;莫再隆;代科 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-09-06 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：一种全反射阵列基板及其制作方法和显示装置，该制作方法包括：形成第一金属层和第一绝缘层的图形，第一绝缘层的图形包括位于外围区域的转接过孔的图形，第一金属层的图形包括位于转接过孔底部的金属图形；形成透明金属氧化物导电层和第二绝缘层的图形，透明金属氧化物导电层的图形包括位于转接过孔区域的透明转接走线图形，第二绝缘层的图形包括位于透明转接走线图形上方的绝缘保护图形；形成第二金属层的图形，第二金属层的图形包括位于显示区域的金属反射图形，在形成第二金属层的图形时包括对转接过孔区域的第二金属层进行湿刻，由于绝缘保护图形对位于过孔底部的金属图形具有保护作用，因而可避免湿刻时采用的刻蚀液对金属图形造成腐蚀。
一种全反射阵列及其制作方法显示装置

[发明专利]包含有监测图形的掩膜版以及监测方法-CN201610083868.1有效
发明人：邢滨 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2016-02-05 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：一种包含有监测图形的掩膜版以及监测方法，其中掩膜版包括：掩膜版内具有设计图形和监测图形；其中，所述监测图形包括第一图形、以及位于第一图形两侧的若干分立的第二图形，第一图形的延伸方向与位于第一图形同一侧的第二图形的排列方向平行，第一图形与位于第一图形一侧的第二图形之间具有第一关键特征尺寸，第一图形与位于第一图形另一侧的第二图形之间具有第二关键特征尺寸，在俯视视图上第一关键特征尺寸与第二关键特征尺寸相同。本发明能够及时有效的发现有问题的掩膜版，能够判断掩膜版设计图形的剖面形貌质量，提高掩膜版图形质量判定的可靠性，提高半导体产品良率。
含有监测图形掩膜版以及方法

[发明专利]图形智能替换系统及方法-CN200610201043.1无效
发明人：向家兵 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2006-10-30 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种图形智能替换系统及方法，该方法包括如下步骤：选择基准图形和待替换图形；获取选择图形的属性参数；根据获取的图形属性参数寻找待替换图形和基准图形中长度相等的基准边；如果存在长度相等的基准边，则在所述基准边中寻找用于图形替换的重合端点，使重合后的待替换图形和基准图形的重心在基准边的同一侧；复制基准图形，使复制的基准图形和待替换图形的重合端点重合在一起，并计算使所述复制的基准图形的基准边和待替换图形的基准边重合的旋转角度和旋转方向，按照该旋转角度和旋转方向使复制的基准图形的基准边和待替换图形的基准边完全重合，然后删除待替换图形。
图形智能替换系统方法

[实用新型]一种触控基板和触控显示装置-CN202022990107.9有效
发明人：赵雪;谢晓冬;何敏;钟腾飞;张新秀;庞斌;张天宇;桑华煜 -专利权人：合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：触控基板包括衬底，以及位于衬底上且层叠设置的第一电极层和第二电极层，第一电极层包括第一通道图形和第一虚拟电极图形，第二电极层包括第二通道图形和第二虚拟电极图形，第一通道图形和第二通道图形绝缘且交叉设置，第二通道图形与第二虚拟电极图形绝缘设置；第一虚拟电极图形包括第一虚拟电极子图形，第二虚拟电极图形包括第二虚拟电极子图形，第一虚拟电极子图形分别与第一通道图形和第二虚拟电极子图形电连接，第一虚拟电极子图形和第二虚拟电极子图形用于向第一通道图形传输触控检测信号
一种触控基板显示装置

[实用新型]图形显示结构及可携式电子装置-CN202221273353.5有效
发明人：古士永;何信政;许文明 -专利权人：重庆达方电子有限公司;达方电子股份有限公司
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： G09F13/04 文献下载
摘要：本实用新型关于一种图形显示结构及可携式电子装置，图形显示结构设置于可携式电子装置中以对外显示图形。该图形显示结构包含导光板及图形层。该图形层形成该图形，该导光板导引光线以显示出该图形。于一实施例中，该光线被该图形层反射以显示出该图形。一种可携式电子装置包含显示部、输入部及前述图形显示结构。该输入部与该显示部通讯连接。该图形显示结构设置于该显示部或该输入部以对外显示该图形层的该图形。本实用新型利用导光板导引光线以对外显示由图形层形成的图形，可使得应用该图形显示结构的可携式电子装置(例如笔记本电脑)的壳体在可以显示图形的同时还能在关闭光源时呈现素面效果。
图形显示结构可携式电子装置

[发明专利]集成电路的可制造性设计方法-CN200610029907.6有效
发明人：许丹;傅俊 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-08-10 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：一种集成电路的可制造性设计方法，包括：对初始设计图形进行密度计算，所述密度包括局部密度及整体密度；提取图形密度；调整图形密度至目标图形密度，所述目标图形密度包括局部目标图形密度及整体目标图形密度；根据所述目标图形密度确定可制造性图形密度准则；根据所述可制造性图形密度准则改进初始设计。
集成电路制造设计方法

[发明专利]图形分类方法及其装置、以及能用计算机读出的存储媒体-CN01802891.8无效
发明人：吉原隆史 -专利权人：奥林巴斯光学工业株式会社
申请日： 2001-09-21 - 公布日： 2003-01-22 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：一种图形分类方法，从图形分类对象中提取图形特征量，把与上述图形特征量相对应的分类范畴信息登记/设定在图形词典中，根据上述图形特征量和上述图形词典中所登记的马哈朗诺比斯词典，进行图形分类，同时，根据上述分类范畴名称和上述图形特征量，进行上述图形词典的优化处理，编制上述马哈朗诺比斯词典。
图形分类方法及其装置以及能用计算机读出存储媒体

[发明专利]一种建立辅助图形曝光模型的方法-CN201811591848.0在审
发明人：卢意飞 -专利权人：上海微阱电子科技有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种建立辅助图形曝光模型的方法，包括以下步骤：步骤S01：设计测试图形，所述测试图形包含标准图形和辅助图形；步骤S02：收集在线线宽量测数据及辅助图形曝光数据；步骤S03：建立测试图形版图与线宽量测数据及辅助图形曝光数据之间的对应文件；步骤S04：基于机器学习进行辅助图形曝光模型拟合运算，建立辅助图形曝光模型；步骤S05：输出辅助图形曝光模型，进行OPC图形修正与验证。本发明可以获得准确性更高的辅助图形曝光模型。
辅助图形曝光模型测试图形量测数据曝光数据线宽标准图形对应文件基于机器设计测试图形修正拟合运算验证输出学习

[发明专利]外延生长监控图形及监控方法-CN201610242891.0有效
发明人：王辉 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2016-04-19 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种外延生长监控图形，所述外延生长监控图形分为X和Y方向的两组，每组都包含有一封闭的口字型图形，其中X组图形的口字型图形水平方向两外侧均有垂直的外框图形；Y组图形的口字型图形上下两外侧均有水平的外框图形，所述的垂直或水平的外框图形均与口字型图形之间存在间隔。本监控图形可以监控外延生长工艺后导致的图像偏移量。本发明还公开了所述的外延生长监控图形的监控方法。
外延生长监控图形方法

[发明专利]掩膜结构、半导体结构及制备方法-CN202110336053.0在审
发明人：宛强;夏军;徐朋辉;刘涛;李森;占康澍 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： H01L21/8242 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜结构、半导体结构及制备方法，掩膜结构的制备方法包括：图形化牺牲层及第二介质层，以形成包括由下至上依次层叠的第一图形及第二图形的图形结构，图形结构下部的宽度小于图形结构上部的宽度；于图形结构的侧壁形成初始掩膜图形；于位于不同图形结构侧壁的相邻初始掩膜图形之间填充第一填充层；去除第二图形及位于第二图形侧壁的初始掩膜图形；去除第一填充层、第一图形，以于第一介质层的上表面形成第一掩膜图形，第一掩膜图形沿第一方向延伸；于第一掩膜图形上形成第二掩膜图形，第二掩膜图形沿第二方向延伸，第二方向与第一方向相交，以得到孔径大小均一和方向一致性较好的电容孔，增大电容存储电量，提高晶圆生产良率。
膜结构半导体结构制备方法

[发明专利]一种集成电路研发用掩膜板-CN201810383618.9在审
发明人：薛培堃 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种集成电路研发用掩膜板，其中，包括图形区域和非图形区域，所述图形区域包括第一图形区域和位于所述第一图形区域之外的第二图形区域，所述第一图形区域和所述第二图形区域之间设置一遮光带，于所述遮光带上增加一第一切割道，所述非图形区域设有第二切割道，所述第一切割道和所述第二切割道上设置套刻标记；有益效果：可根据研发需求分别对OPC图形区及其他图形区进行曝光，有效避免了硅片上OPC图形区域光阻残留对其他图形区域的干扰，保证了各图形区域功能的正常实现。
图形区域切割道研发非图形区域图形区遮光带集成电路套刻标记掩膜板硅片光阻掩膜切割残留曝光保证

[发明专利]一种图形商标检索方法、系统、设备及可读存储介质-CN201910663424.9在审
发明人：卿春梅;唐义波;唐林波 -专利权人：上海著腾信息科技有限公司
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： G06F16/532 文献下载
摘要：本发明公开了一种图形商标检索方法，包括以下步骤：获取待检索图形商标的图片及第一图形特征；对待检索图形商标的图片进行识别并确认其是否包含第一图形特征；若包含所述第一图形特征则根据第一图形特征和预置的图形编码库获得对应的图形编码；通过图形编码进行图形商标检索获得商标检索结果；还公开了一种图形商标检索系统、设备及可读存储介质。相对于现有通过纯粹人工提取的图形商标检索方法来说，解决了传统商标图形要素编码仅靠人工划分，划分工作效率的低下和工作精力消耗巨大的弊端，获得比较精准的检索结果。
一种图形商标检索方法系统设备可读存储介质

[发明专利]图形修正方法、装置、电子设备及存储介质-CN202110564734.2在审
发明人：张洋;朱重黎;段航 -专利权人：北京三快在线科技有限公司
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种图形修正方法、装置、电子设备及存储介质。其中，图形修正方法包括：获取待处理图形的最小外接矩形；基于所述待处理图形和所述最小外接矩形，识别所述待处理图形中包含的内凹部分对应的内凹矩形；从所述最小外接矩形中剔除所述内凹矩形，将得到的图形作为所述待处理图形对应的修正后图形本发明实施例中，通过基于待处理图形的最小外接矩形和内凹部分对应的内凹图形对待处理图形进行修正，可以将待处理图形修正为更加规则的图形，从而弥补识别模型识别出的图形不准确的缺陷。
图形修正方法装置电子设备存储介质