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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种图形无极旋转方法-CN201510930062.7在审
发明人：田泽;杨峰;张少锋;赵彬;王绮卉;姜丽云 -专利权人：中国航空工业集团公司西安航空计算技术研究所
申请日： 2015-12-11 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： G06T3/40 文献下载
摘要：本发明涉及一种图形无极旋转方法。该方法包括以下步骤：基于图形矩阵A和旋转角度angle，1)对图形矩阵A，沿x方向逐行平移-y*tan(angle/2)，获得图形矩阵B；2)对图形矩阵B进行三次样条插值拟合，获得图形矩阵C；3)对图形矩阵C，沿y方向逐列平移x*sina(angle)，获得图形矩阵D；4)对图形矩阵D进行三次样条插值拟合，获得图形矩阵E；5)对图形矩阵E，沿x方向逐行平移-y*tan(angle/2)，获得图形矩阵F；6)对图形矩阵F进行三次样条插值拟合，获得图形矩阵G；7)获得图形G。本发明提高了图形的清晰度，减轻马赛克效果。
一种图形无极旋转方法

[发明专利]光学邻近修正方法、掩模版及掩模版制作方法-CN202110254793.X在审
发明人：李其衡;贺晓彬;杨涛;刘强;丁明正 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本公开提供一种光学邻近修正方法、掩模版及掩模版制作方法，修正方法包括：提供当层图形和与所述当层图形相邻的前层图形，所述当层图形包括多个图形单元；根据每个所述图形单元的设计参数，以及所述前层图形对每个所述图形单元的光学影响系数，将所述多个图形单元进行分组，得到多个图形组；对不同的所述图形组采用不同的光学邻近修正模型进行修正，获得修正后的掩模版图形。本公开在对当层图形进行光学邻近修正时考虑了前层图形的光学影响，可以减少因前层图形的光学影响而产生的图形错误，从而提高了光学邻近修正的精度。
光学邻近修正方法模版制作方法

[发明专利]框架单元标记伪栅版图及其设计方法-CN202211331521.6在审
发明人：刘思哲 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：本发明提供一种框架单元标记伪栅版图，包括框架图形，框架图形为单个shot中除芯片以外的剩余区域的图形；框架图形上设有标记图形，标记图形用于定义出衬底切割道上用于对准和测量的图形；标记图形间具有间隙，标记图形间插入有第一伪栅图形；设于标记图形内的第二伪栅图形，第二伪栅图形根据不同层次的标记图形设置不同的尺寸；设于标记图形上的假块标记层，假块标记层用于定义伪栅不形成的区域。本发明对原有框架单元标记伪栅版图进行伪栅图形添加处理，以达到测量或者对准的目的，解决了在先进技术节点工艺存在套准标记脱落的问题。
框架单元标记版图及其设计方法

[发明专利]一种基于DWG的图形再生技术-CN201811527799.4有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：江西金格科技有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G06F30/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于DWG的图形再生技术，再生处理模块中的图形遍历模块、图形分类模块、图形绘制模块、图形裁剪模块和图形再生模块依次连接，通过图形分类模块把所有需要处理的图形实体过滤出来，传递给图形绘制模块；图形绘制模块构建图形样式接口，并调用实体的公共绘图接口；实体在图形绘制过程中调用图形裁剪模块和图形再生模块，从而得到再生后的简单图形实体。本发明能将DWG中图纸分解成简单的图形实体，实现了在各个版本的DWG查看器中都能浏览的需要，解放了设计人员后期维护DWG文件的精力，为DWG电子化交付上节省了大量成本。
一种基于 dwg 图形再生技术

[发明专利]一种相似图形检索方法和装置-CN202210363883.7在审
发明人：孔德耀 -专利权人：中国工商银行股份有限公司
申请日： 2022-04-07 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G06V10/74 文献下载
摘要：本公开提供了一种相似图形检索方法，可以应用于金融领域或其他领域。该相似图形检索方法包括：获取待检索图片，从待检索图片中获取待检索图形；获取目标图形；计算各个待检索图形的特征值和目标图形的特征值；根据各个待检索图形的特征值和目标图形的特征值，计算各个待检索图形与目标图形的相似度；将相似度满足预设条件的待检索图形输出为目标图形的相似图形。本公开还提供了一种相似图形检索装置、设备、存储介质和程序产品。
一种相似图形检索方法装置

[发明专利]一种光掩模曝光方法-CN202210403500.4在审
发明人：施维;郑怀志 -专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供了一种光掩模曝光方法，属于电子束曝光技术领域，该方法包括：对预处理图形进行图形识别；根据图形尺寸将所述预处理图形分为第一图形区和第二图形区，所述第一图形区为大尺寸图形，所述第二图形区为精密图形；将所述第一图形区和所述第二图形区进行切割；对所述第一图形区通过不铺满以及无重叠的方式进行曝光；对所述第二图形区进行精密曝光。
一种光掩模曝光方法

[发明专利]图形化版图、半导体结构及其形成方法-CN202111679243.9在审
发明人：孙卫;王兴荣;方周 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L27/02 文献下载
摘要：一种图形化版图、半导体结构及其形成方法，其中，图形化版图包括：隔离区以及器件区；位于所述隔离区内和器件区内的若干第一图形以及若干第二图形，各所述第一图形与各所述第二图形不同，且各所述第二图形包括至少部分位于所述器件区内的第二器件图形、以及位于所述隔离区内的第二隔离图形，所述第二隔离图形与所述第二器件图形之间有间隙。所述图形化版图能够降低图形的缺陷定位难度，并提升图形的缺陷定位效率和及时性。
图形版图半导体结构及其形成方法

[发明专利]电路图形尺寸调整方法及系统-CN200910054584.X无效
发明人：田明静 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-07-09 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： H01L21/70 文献下载
摘要：本发明提供了电路图形尺寸调整方法及系统，以避免调整前的图形尺寸影响图形制作准确性的问题，提高图形制作的准确性。该方法包括步骤：根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；根据获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸；该系统包括：偏差量获得单元，用于根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；调整单元，用于根据偏差量获得单元获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸。
电路图形尺寸调整方法系统

[发明专利]将VG图形转换为SVG图形的方法-CN201310453426.8无效
发明人：林祺蓉;王浩;王思源;齐臣祥;林山;林琳;马洪文;王俏俏;刘红霞;吴翠娟;张立华 -专利权人：国家电网公司;国网山东省电力公司济南供电公司
申请日： 2013-09-29 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： G06F9/44 文献下载
摘要：本发明提供一种将VG图形转换为SVG图形的方法，该将VG图形转换为SVG图形的方法包括：步骤1，获取VG图形文件；步骤2，将获取的VG图形文件进行处理；步骤3，通过VG对象库和SVG规则库进行转换加载VG图形；步骤4，选择要转换成的SVG图形参数；以及步骤5，分析VG图形中的元件、坐标，绘制SVG图形。该将VG图形转换为SVG图形的方法解决手动绘制SVG图形带来的麻烦并能够提高正确性，最大程度的满足设计人员对于转换SVG图形的需求。
vg 图形转换 svg 方法

[发明专利]荫罩印相用原版及原版的制造方法-CN93100568.X无效
发明人：大竹康久;佐合诚司;曲木安志 -专利权人：东芝株式会社
申请日： 1991-11-22 - 公布日： 1999-12-08 - 主分类号： H01J9/14 文献下载
摘要：一种荫罩印相用原版，包含具有许多大孔图形的大孔原版及具有许多小孔图形的小孔原版。各小孔图形具有矩形状的主图形和从主图形四角部向外突出的矩形状的突出图形。其特征在于，各大孔图形也具有矩形状的主图形和从主图形四角部向外突出的矩形状的突出图形；在上述大、小图形中，从主图形朝主图形的长度轴方向的突出图形的突出长度Ly，在荫罩基板的板厚为T时设定在0≤Ly≤0.5T
荫罩印相用原版制造方法

[发明专利]BIM图形的优化方法、装置以及计算机存储介质-CN202011022161.2有效
发明人：郑腾洲;赖奋万;艾必聪;崔莉;杨洪伟;刘亚鑫;曾伟鑫 -专利权人：深圳市华阳国际工程设计股份有限公司
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G06F30/13 文献下载
摘要：本发明公开一种BIM图形的优化方法、装置以及计算机存储介质，该方法包括：比较BIM图形的形状信息；将形状信息相同的BIM图形作为一个图形集群；提取图形集群中任一BIM图形的图形信息和所述BIM图形的坐标信息以及和其他BIM图形的坐标信息作为所述图形集群的集群信息。通过上述方式，可以优化BIM图形的数据量。
bim 图形优化方法装置以及计算机存储介质

[发明专利]一种手写输入法的笔迹平滑处理方法及手写输入法-CN201210546905.X在审
发明人：谢殿侠;张军标;赵旭 -专利权人：上海海知信息技术有限公司
申请日： 2012-12-17 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明公开了一种手写输入法的笔迹平滑处理方法，其中，通过于触控轨迹上以第一预定规则填充初级触点图形，并于每两个初级触点图形之间的触控轨迹上以第二预定规则填充次级触点图形，通过初级触点图形和次级触点图形将触控轨迹拼接成触控轨迹图形；将两个初级触点图形中的前一个初级触点图形及后一个初级触点图形之间的次级触点图形中，距离较接近前一个初级触点图形的次级触点图形的尺寸调整为与前一个初级触点图形的尺寸接近，距离较接近后一个初级触点图形的次级触点图形的尺寸调整为与后一个初级触点图形的尺寸接近，且前一个初级触点图形及后一个初级触点图形之间的所有次级触点图形的尺寸按先后顺序保持递增、递减或者不变。
一种手写输入法笔迹平滑处理方法

[发明专利]掩膜组件及套准量测方法-CN201811379700.0在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-11-20 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜组件及套准量测方法，掩膜组件包括：第一掩膜、第二掩膜及第三掩膜，第一掩膜内形成有第一标记图形，第一标记图形包括第一主标记图形及第二主标记图形；第二掩膜内形成有第二标记图形，第二标记图形对应于第一标记图形的一侧，且与第一标记图形具有间距；第二标记图形包括第三主标记图形及第四主标记图形；第三掩膜内形成有第三标记图形，第三标记图形包括第五主标记图形、第六主标记图形、第七主标记图形及第八主标记图形。本发明的掩膜组件中的标记图形可以减小标记图形在晶圆上所占的面积；同时在光刻后进行套准量测时还可以显著降低所需量测的次数，提高套准量测的效率。
组件套准量测方法

[发明专利]图形码验证方法和装置、图形码注册方法和装置-CN202210988600.8在审
发明人：罗涛;钱烽;张晓博 -专利权人：蚂蚁区块链科技（上海）有限公司
申请日： 2022-08-17 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G06K17/00 文献下载
摘要：本公开披露了一种图形码验证方法和装置、图形码注册方法和装置，以解决图形码验证效率低的问题。具体地，应用于设备端的图形码验证方法包括：获取云端存储的第一图形码的图像编码数据，获取待验证的第二图形码；对第二图形码进行解析，确定第二图形码的图形码内容数据；依照第一图形码的图像编码数据的计算方式，基于第二图形码的图形码内容数据，计算第二图形码的图像编码数据，并基于第一图形码的图像编码数据和第二图形码的图像编码数据，验证第二图形码与第一图形码是否一致。本公开可以预先在设备端直接验证第二图形码与第一图形码是否一致，缩短了用户等待验证的时间，提高了用户体验好感度。
图形验证方法装置注册

[发明专利]一种套刻精度的测量方法和测量图形-CN202310629817.4在审
发明人：张博 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：本发明提供一种套刻精度的测量方法和测量图形，方法包括形成套刻精度测量图形，测量图形包括对角分布的两组沿X方向延伸的多个条状图形和对角分布的两组沿Y方向延伸的多个条状图形；多个条状图形包括前层图形和嵌入前层图形对应的中心位置的后层图形；相邻的两个条状图形之间为有源区，前层图形为沟槽图形，后层图形为光刻胶图形；利用量测设备对套刻精度测量图形进行测量，获得X方向和Y方向的套刻测量值；利用量测设备计算沟槽外延过程中的图形偏移量，并根据图形偏移量对套刻精度进行修正本发明利用套刻精度测量图形进行多组X/Y方向的套刻精度测量，并且利用沟槽外延过程中的图形偏移量对套刻精度进行修正，使得套刻位移偏差能够准确测量。
一种精度测量方法测量图形

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