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[发明专利]对准方法、对准系统及计算机可读存储介质-CN201911181092.7有效
发明人： 李其衡 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：一种对准方法，包括：获取包括多组不同对准参数间对应关系的对应关系表，对准参数包括对准标记类型、激光类型及对准标记位置组；随机调用对应关系表中的一组对应关系形成一对准方案；及根据对准方案执行对准操作，其中如果对准操作的执行时间超过预设时间，则放弃当前执行的对准方案，再调用对应关系表中另一组对应关系形成新的对准方案并根据新的对准方案执行对准操作。本发明提高了对准操作的自动化程度，降低了重工的概率，减小了人力成本。本发明还提供一种对准系统及计算机可读存储介质。
对准方法系统计算机可读存储介质

[发明专利]光刻胶分配器以及半导体制造设备-CN202011140748.3有效
发明人： 李其衡;贺晓彬;丁明正;刘强;杨涛 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供的一种光刻胶分配器以及半导体制造设备，涉及半导体技术领域，包括：喷嘴壳体上开设有多个内腔，每个内腔对应设置有一个喷嘴，喷嘴装配在喷嘴壳体的外壁并与对应的内腔连通；多个单元喷涂组件与多个内腔一一对应；其中，单元喷涂组件包括单元瓶和驱动装置，单元瓶装配在内腔并与喷嘴连通，驱动装置与单元瓶驱动装配，以驱动单元瓶内的光刻胶沿喷嘴流出。在上述技术方案中，如果需要更换光刻胶时，只需要将该光刻胶分配器内不同单元喷涂组件移动到半导体的对应位置，将装载的不同光刻胶继续进行涂敷工作即可。所以，整个光刻胶的更换过程中并不需要机械结构的改变，只需要选择光刻胶分配器内不同的单元喷涂组件对应进行涂敷工作即可。
光刻分配器以及半导体制造设备

[发明专利]建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法-CN202111034437.3在审
发明人： 李其衡;粟雅娟;董立松;张利斌;陈睿;苏晓菁 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2021-09-03 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法。该建立光学邻近校正模型的方法，包括：针对设计好的各图案，根据各图案之间的密切系数来划分图案组；分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型；其中，密切系数包括图案形状异同、图案密度、图案与自身周围图案的距离以及图案功能异同中的至少一个参数。本公开的建立光学邻近校正模型的方法，根据各图案之间的密切系数来划分图案组，分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型，大大提高了各图案组所对应的光学邻近校正模型的匹配度，从而能够实现在利用各光学邻近校正模型对相匹配的图案组进行图案模型化时降低图案模型化时产生的误差和不良率。
建立光学邻近校正模型方法

[发明专利]一种定日镜焦距检测及优化系统-CN201910899691.6有效
发明人：胡中;白帆;李其衡;施卉平;曾明;张国兴;钟国庆 -专利权人：浙江可胜技术股份有限公司
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： G05D3/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种定日镜焦距检测及优化系统，采用无人机在待测定日镜的反射光线的光路上由远及近，采集镜面反射的光斑图像，将光斑图像发送给图像处理模块处理，经处理后得到的数据发送给数据处理模块计算待测定日镜在有效焦距范围内的最优焦距，定日镜控制模块根据该最优焦距调控姿态，将定日镜反射聚焦点(指向点)均匀分布在吸热器上，使定日镜发挥最优的聚光效果，从而使吸热器上的能量分布均匀，提高发电效率。
一种定日焦距检测优化系统

[发明专利]光学邻近修正方法、掩模版及掩模版制作方法-CN202110254793.X在审
发明人： 李其衡;贺晓彬;杨涛;刘强;丁明正 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本公开提供一种光学邻近修正方法、掩模版及掩模版制作方法，修正方法包括：提供当层图形和与所述当层图形相邻的前层图形，所述当层图形包括多个图形单元；根据每个所述图形单元的设计参数，以及所述前层图形对每个所述图形单元的光学影响系数，将所述多个图形单元进行分组，得到多个图形组；对不同的所述图形组采用不同的光学邻近修正模型进行修正，获得修正后的掩模版图形。本公开在对当层图形进行光学邻近修正时考虑了前层图形的光学影响，可以减少因前层图形的光学影响而产生的图形错误，从而提高了光学邻近修正的精度。
光学邻近修正方法模版制作方法

[发明专利]晶圆检测方法-CN201910984596.6有效
发明人： 李其衡;刘智龙 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2019-10-16 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：一种晶圆检测方法，包括：提供N0个待测晶圆，每一待测晶圆包括N1个可测试位置；按照预定的划分方式将每一待测晶圆划分为多个采样区域，所述多个采样区域在不同待测晶圆中分别对应设置，不同待测晶圆中对应设置的采样区域构成一组采样区域；确定一待测晶圆中每一采样区域的采样位置的数量，其中，所有待测晶圆的采样位置与所述N1个可测试位置一一对应，每一待测晶圆的采样位置的数量为N2，N1＝N0×N2；以及根据每一采样区域的采样位置的数量依次在所述待测晶圆的每一采样区域中选定采样位置进行测试，其中，同一组采样区域在不同待测晶圆中选定的采样位置互不相同。
检测方法

[实用新型]一种用于内照射放疗的套管针-CN202121561341.8有效
发明人：盖炜;刘朝生;李其衡;黄启长 -专利权人：东莞深圳清华大学研究院创新中心;深圳铭杰医疗科技有限公司
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及内照射放疗技术领域，公开了一种用于内照射放疗的套管针，包括针管，所述针管沿其长度方向贯通地开设有用于安装束流针的安装通孔，所述针管的一端设有针头，所述针头包括绝缘段和针尖段，所述绝缘段位于所述针管和所述针尖段之间，所述绝缘段外卷绕有电感线圈，所述电感线圈电连接有电压测量设备。通过在电子束传输路径上设置电感线圈，通过测量电感线圈的感应电压即可精确获悉当前射入人体内的电子束能量，从而达到更优的放疗效果。
一种用于照射放疗套管

[发明专利]在晶圆上形成多个图样层的方法以及其曝光装置-CN202010042053.5有效
发明人：田笵焕;金帅炯;梁时元;李其衡;权炳仁 -专利权人：夏泰鑫半导体（青岛）有限公司
申请日： 2020-01-15 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，用于将一光罩上的图样转移到一晶圆。前述曝光装置包含一照明模块、一光罩载台、一投影模块、一晶圆载台以及一控制单元。前述控制单元用于计算前述晶圆之一对位设定值。前述晶圆包含一第一晶圆层以及一第二晶圆层设置于前述第一晶圆层上。前述第一晶圆层包含一第一对位参数；前述第二晶圆层包含一第二对位参数。前述控制单元取得一第一加权因子以及一第二加权因子。前述第一加权因子为依据前述第一晶圆层之属性所预设决定；前述第二加权因子为依据前述第二晶圆层之属性所预设决定。前述光罩之对位设定值由前述第一对位参数、前述第二对位参数、前述第一加权因子以及前述第二加权因子所计算得出。
晶圆上形成图样方法及其曝光装置

[发明专利]用于监测处理单元性能的检测晶圆选择方法和涂胶显影机-CN202110023981.1在审
发明人： 李其衡;丁明正;贺晓彬;刘强;刘金彪;周娜 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2021-01-08 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于监测处理单元性能的检测晶圆选择方法和涂胶显影机。用于检测处理单元性能的晶圆选择包括：获取与待处理晶圆对应的处理单元类型以及每类处理单元的数量，确定处理组合；根据处理组合的数量，确定每批待处理晶圆对应的待检测晶圆数量；将待处理晶圆按批次依次输送进涂胶显影机进行处理；获取每一批次晶圆对应的记录表；根据记录表和每批待处理晶圆对应的待检测晶圆数量，从每一批次晶圆中确定对应数量的经过不同处理组合的晶圆作为待检测晶圆。能够在对最少的晶圆进行检测的情况下，清楚的获取每个处理单元的处理效果，避免重复测量和漏测量，从而提高对处理单元进行监测的效率，降低漏测量的处理单元对产品的不良影响。
用于监测处理单元性能检测选择方法涂胶显影

[发明专利]一种检测与校正晶圆边缘曝光的方法和涂胶显影机-CN202011434990.1在审
发明人： 李其衡;丁明正;刘强;贺哓彬;王桂磊 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种检测与校正晶圆边缘曝光的方法和涂胶显影机。校正晶圆边缘曝光的方法包括如下步骤：在晶圆上旋涂光刻胶；使用LED光源对所述晶圆进行边缘曝光；在显影后，对所述晶圆进行检测，获取曝光后的光刻胶信息；根据获取的所述光刻胶信息校正所述边缘曝光的参数。在显影后对晶圆进行检测，获取曝光后的光刻胶信息，并根据光刻胶信息校正所述边缘曝光的参数，能够随时调整边缘曝光的工艺参数，灵活性强，能够提高对边缘残留的光刻胶的处理效果。
一种检测校正边缘曝光方法涂胶显影

[发明专利]波长可选择激光系统-CN202011224920.3在审
发明人： 李其衡;贺晓彬;杨涛;刘强;丁明正 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种波长可选择激光系统，包括：主振荡器压缩头用于产生脉冲；主振荡器室用于基于主振荡器压缩头所产生的脉冲产生光束；激光波长控制模块用于对光束进行调控，产生波长可变的光束；功率放大器室用于对来自主振荡器室的光束施加增益；输出耦合器用于接收来自激光波长控制模块的光束；主振荡器波前工程箱用于将来自输出耦合器的光束射向功率放大器波前工程箱；光束反转器用于将来自功率放大器室的光束射向功率放大器波前工程箱；功率放大器波前工程箱用于将光束射向功率放大器室和光束反转器。本申请的系统通过激光波长控制模块调控激光的波长，得到所需要的激光波长，操作方便，能够维持激光波长在一定的散布范围内。
波长可选择激光系统

[发明专利]晶圆的CDSEM测量方法、装置及半导体器件-CN202011065494.3在审
发明人： 李其衡;贺晓彬;李亭亭;刘金彪 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本申请公开了一种晶圆的CDSEM测量方法、装置及半导体器件，方法包括：步骤S1在当前晶圆上从所有位置点中进行位置点采样，利用CDSEM测量采样位置点的CD值，将采样位置点添加到抽样序列中；步骤S2在下一张晶圆上从除抽样序列中记录的位置点之外的其他位置点中进行位置点采样，并利用CDSEM测量采样位置点的CD值，将采样位置点添加到抽样序列中；继续执行步骤S2，直至抽样序列中记录的位置点能够覆盖整张晶圆上的所有位置点时，重置抽样序列并返回执行步骤S1。本案与现有技术中每张晶圆上只测量固定位置点相比，本发明在没有测量的地方也能进行测量，因此本发明在与现有技术花费相同时间条件下，可以使得晶圆的监控效果极大化。
cdsem 测量方法装置半导体器件

[发明专利]涂胶厚度抽样测量方法及装置-CN202011019892.1在审
发明人：梁时元;李其衡;贺晓彬;刘强;丁明正 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-09-24 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种涂胶厚度抽样测量方法，所述方法包括：在晶片上定位第一抽样点集，所述第一抽样点集由至少一个抽样点组成，并测量所述第一抽样点集中每个抽样点的涂胶厚度；根据所述第一抽样点集中每个抽样点的涂胶厚度判断是否需要执行进一步的抽样策略；如果是，则采用预设抽样策略对所述晶片再进行涂胶厚度测量。通过对晶片进行第一次抽样测量，并根据第一次抽样测量结果判断是否有必要进行第二次抽样测量，在判断需要时，采用预设抽样策略对晶片再进行抽样测量，减少了人工干预，省时又省力，可以提升晶片生产效率。
涂胶厚度抽样测量方法装置

[发明专利]标签的识别及处理方法以及标签的识别及处理系统-CN202010576040.6在审
发明人： 李其衡;贺晓彬;李亭亭;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请属于半导体技术领域，具体涉及一种标签的识别及处理方法以及标签的识别及处理系统，该控制方法包括搜寻晶圆上的标签区域，获取晶圆边缘曝光的第一曝光区域，确定所述标签区域是否在所述第一曝光区域内，如果标签区域不在曝光区域内改变曝光区域的大小，如果标签区域在曝光区域内，对曝光区域进行曝光，曝光完成后，去除标签区域的光刻胶。根据发明实施例的标签的识别及处理方法，在进行加工的过程中，晶圆的表面逐渐形成层叠的不透明膜质，会导致在进行晶圆识别时标签的识别率下降，对曝光区域的大小进行改变，使标签区域在曝光区域内，对标签区域进行曝光，使标签区域表面的光刻胶感光，去除标签区域内的光刻胶。
标签识别处理方法以及系统

[实用新型]一种用于内照射放疗的套管针-CN202023162081.5有效
发明人：盖炜;刘朝生;李其衡;黄启长 -专利权人：东莞深圳清华大学研究院创新中心;深圳铭杰医疗科技有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： A61B17/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及内照射放疗技术领域，公开了一种用于内照射放疗的套管针，包括针管，所述针管沿其长度方向贯通地开设有束流针安装通孔，所述针管的一端于预设的电子束传输路径上设有透明或半透明的晶体，所述晶体的外侧壁上安装有光子收集器，所述针管远离所述晶体的一端外壁上安装有光子计数器，所述光子收集器和所述光子计数器之间通过光纤连接。通过在电子束传输路径上设置一透明或半透明晶体，通过采集射出的光子数即可精确获悉当前射入人体内的电子束能量，从而达到更优的放疗效果。
一种用于照射放疗套管

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