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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种掩模版的污渍去除方法-CN202310925138.1在审
  • 黄偲;施维;郑怀志;罗嘉盈;肖炎微;刘科兴 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2023-07-26 - 2023-10-24 - G03F1/82
  • 本发明提供一种掩模版的污渍去除方法。掩模版是一种图像处理技术，用于从图像中提取对象或感兴趣区域；其工作原理为利用事先准备好的掩模版，通过将掩模版应用到图像处理中，将与掩模版相匹配的区域提取出来，而忽略其他区域；掩模版在实际使用中很容易沾染来自空气中的灰尘等污渍，影响其工作效率；传统清洗方法对掩模版的清洗存在不彻底的问题，掩模版在使用过程中产生的污渍沾染难以清洗干净；本发明提供的污渍去除方法能有效去除掩模版的污渍，增加了掩模版的使用效率，延长了掩模版的使用寿命。
  • 一种模版污渍去除方法
  • [实用新型]可调节拆膜撬棍-CN202320190851.1有效
  • 李亚鹏;田正洲;葛海鸣;包忍 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2023-02-09 - 2023-07-18 - B25B33/00
  • 本申请提供一种可调节拆膜撬棍，涉及光掩模的技术领域，其包括：横梁本体、手柄及顶针；横梁本体的一侧设有抵接面；手柄连接于横梁本体远离抵接面的一侧；抵接面上设有调节沟槽，顶针滑移连接于调节沟槽，且顶针的滑动方向平行于调节沟槽的延伸方向；顶针还连接有锁紧件，锁紧件用于锁紧顶针以限制顶针滑动。通过设置调节沟槽、顶针及锁紧件，使得在应对不同型号Pellicle的拆膜需求时，可以通过滑动顶针，使得顶针快速移动至不同型号Pellicle的定位孔处，实现顶针的快速调节，以适配不同型号的Pellicle。
  • 调节撬棍
  • [发明专利]光掩模钝化层制造方法-CN202310195889.2在审
  • 孙长杰;包忍;葛海鸣 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2023-03-02 - 2023-05-02 - G03F1/80
  • 本申请提供一种光掩模钝化层制造方法，涉及光掩模的技术领域，其包括以下步骤：S1，获取晶圆结构；S2，将晶圆结构置于真空腔体中，向真空腔体中通入氧气和氯气，通过加载射频电源，产生氯离子基团对阻挡层、钝化层及金属层进行蚀刻，蚀刻出光刻图形的蚀刻窗口；S3，通过加载射频电源，产生氧离子基团与金属层被蚀刻出的侧边进行氧化反应，使得金属层被蚀刻出的侧边表面生成钝化层；S4，去除钝化层表面的阻挡层。通过氧离子基团和氯离子基团直接在干法蚀刻机台上，一次性完成晶圆结构的蚀刻及金属层表面钝化层的生成，进而省去了转移至Asher机台进行钝化层制作的工艺流程，摆脱了工艺流程的局限性，优化了制程，降低了工艺成本。
  • 光掩模钝化制造方法
  • [发明专利]光掩模图形处理方法、装置、设备、介质-CN202211252683.0在审
  • 张家玮;刘婉华 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-10-13 - 2023-01-31 - G06F21/10
  • 本申请提供一种光掩模图形处理方法、装置、设备、介质，涉及数据加密技术领域，其中光掩模图形处理方法包括以下步骤，步骤S1，通过控制图形变量，对光掩模上的标准图形进行加密处理，得到加密图形；步骤S2，根据图形变量对加密图形进行解密处理，得到标准图形，标准图形用于对光掩模进行标记。通过标准图形的加密处理，在无法得知实际解密方法的情况下，无法直接从加密图形中获取出标准图形，进而也就降低了标准图形被盗用的风险，经过加密处理的标准图形可以对光掩模实现标记，与竞品之间形成区别，防止产品被盗用。
  • 光掩模图形处理方法装置设备介质
  • [发明专利]一种修正光掩模图形位置偏差的设备及方法-CN202211047725.7在审
  • 郑怀志;施维 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-12-20 - G03F1/42
  • 本申请提供了一种修正光掩模图形位置偏差的设备及方法，属于光掩模技术领域，具体包括上盖板和下盖板，上盖板和下盖板之间通过上盖板支柱连接，上盖板下侧设有光掩模，光掩模通过光掩模支柱固定于下盖板上，光掩模下侧设有保护膜边框，保护膜边框内设有保护膜，保护膜边框通过保护膜支柱固定于下盖板上，上盖板支柱、光掩模支柱和保护膜支柱均设置为可伸缩结构；保护膜边框的外周设有控制棒，控制棒远离保护膜边框的一端连接有微距控制组件，微距控制组件用于控制控制棒带动保护膜边框进行移动；设备还包括控制系统，与设备内的各个部件连接进行控制。本申请提高了光掩模图形位置准确性和芯片良率。
  • 一种修正光掩模图形位置偏差设备方法
  • [实用新型]一种用于光掩模的防静电破坏结构-CN202222297447.2有效
  • 郭贵琦;张家玮;韦丽萍 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-12-20 - H05F3/00
  • 本申请提供了一种用于光掩模的防静电破坏结构，属于光掩模技术领域，具体包括用于光掩模防静电破坏结构，包括设置在光掩模客户图形区周围的抗静电环，抗静电环设置为沿客户图形区外周的绝缘的闭环结构，抗静电环用于防止静电放电破坏客户图形区；与抗静电环的外周相隔一定距离处设有电荷释放区，电荷释放区设置为条形结构，条形结构的一端始于光掩模的第一边，条形结构的另一端始于光掩模的第二边，第一边与第二边为相对边，电荷释放区用于将静电产生的电荷引到客户图形区外进行释放。通过本申请的处理方案，有效保护光掩模客户图形区，提高了芯片的良率。
  • 一种用于光掩模静电破坏结构
  • [发明专利]一种光圈可调式曝光机及其使用方法-CN202210162219.6在审
  • 郑怀志;施维 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-02-22 - 2022-11-01 - G03F7/20
  • 本申请提供了一种光圈可调式曝光机及其使用方法，属于曝光机技术领域，具体应用于衰减相移光掩模的铬残留去除中，包括：光源；光调节组件，用于使光源发出的光均匀化，设置于光源下侧；光圈组件，位于光调节组件的下侧，光圈组件上设有通光孔，通光孔的大小和位置根据光掩模的铬残留大小和位置进行调节；载台，载台上设置有光掩模，通过通光孔的光对光掩模进行曝光；以及控制系统，控制系统分别与光圈组件和载台通信连接，用于对光圈组件和载台进行控制。通过本申请的处理方案，节省光刻机的时间，降低成本，提高产能。
  • 一种光圈调式曝光及其使用方法
  • [实用新型]一种光圈可调式曝光机-CN202220363939.4有效
  • 郑怀志;施维 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-02-22 - 2022-11-01 - G03F7/20
  • 本申请提供了一种光圈可调式曝光机，属于曝光机技术领域，具体应用于衰减相移光掩模的铬残留去除中，包括：光源；光调节组件，用于使光源发出的光均匀化，设置于光源下侧；光圈组件，位于光调节组件的下侧，光圈组件上设有通光孔，通光孔的大小和位置根据光掩模的铬残留大小和位置进行调节；载台，载台上设置有光掩模，通过通光孔的光对光掩模进行曝光；以及控制系统，控制系统分别与光圈组件和载台通信连接，用于对光圈组件和载台进行控制。通过本申请的处理方案，节省光刻机的时间，降低成本，提高产能。
  • 一种光圈调式曝光
  • [发明专利]一种EUV光刻机和DUV光刻机间图形位置对准方法-CN202210709200.9在审
  • 郑怀志;施维 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-06-21 - 2022-09-02 - G03F9/00
  • 本申请提供了一种EUV光刻机和DUV光刻机间图形位置对准方法，属于光刻机技术领域，具体包括：制作具有第一量测图形的EUV光掩模和具有第二量测图形的DUV光掩模；量测第一量测图形和第二量测图形的位置，计算两者的位置偏差值A；利用EUV光刻机通过制作的EUV光掩模对晶圆进行第一层曝光；利用DUV光刻机通过制作的DUV光掩模对晶圆进行第二层曝光；量测第一层的图形与第二层的图形的位置偏差值B；根据位置偏差值A和位置偏差值B计算光掩模的位置修正值C；将位置修正值C利用光掩模光刻机的GMC功能补偿到EUV光掩模或DUV光掩模。通过本申请的处理方案，提高了芯片的良率。
  • 一种euv光刻duv图形位置对准方法
  • [发明专利]一种去除微小颗粒的冷冻清洗方法及装置-CN202210270342.X在审
  • 郑怀志;施维 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-03-18 - 2022-07-29 - H01L21/02
  • 本申请提供了一种去除微小颗粒的冷冻清洗方法及装置，方法包括：将待清洗基板冷却至一定温度；对待清洗基板喷淋超纯去离子水形成水膜；存在颗粒处先开始结冰形成冰颗粒，冰颗粒上浮脱离滞留层；喷淋超纯去离子水将冰颗粒融化并旋干待清洗基板。装置包括：可旋转平台，用于承载待清洗基板；冷却构件，设置于可旋转平台内，且位于待清洗基板的下方，冷却构件用于对待清洗基板进行冷却；可移动手臂，位于可旋转平台的上方，可移动手臂上设有喷嘴，喷嘴的喷射方向朝向待清洗基板，可移动手臂带动喷嘴对待清洗基板喷淋超纯去离子水。通过本申请的处理方案，提高了微小颗粒的清除效能。
  • 一种去除微小颗粒冷冻清洗方法装置
  • [发明专利]一种光掩模曝光方法-CN202210403500.4在审
  • 施维;郑怀志 - 广州新锐光掩模科技有限公司
  • 2022-04-18 - 2022-07-29 - G03F7/20
  • 本申请提供了一种光掩模曝光方法，属于电子束曝光技术领域，该方法包括：对预处理图形进行图形识别；根据图形尺寸将所述预处理图形分为第一图形区和第二图形区，所述第一图形区为大尺寸图形，所述第二图形区为精密图形；将所述第一图形区和所述第二图形区进行切割；对所述第一图形区通过不铺满以及无重叠的方式进行曝光；对所述第二图形区进行精密曝光。通过本申请的处理方案，有效降低了曝光时间，并降低了生产成本。
  • 一种光掩模曝光方法
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