专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果761个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]太阳能电池及其制造方法-CN200980143333.7有效
  • H-J·克罗科斯津斯基 - 罗伯特·博世有限公司
  • 2009-10-13 - 2011-09-28 - H01L31/068
  • 一种在n掺杂的硅衬底上的太阳能电池,具有:设置在第一主表面中的n+基极区域和在第二主表面中设置的p+掺杂的发射极区域,施加在第一主表面上的指状的基极接触结构,分别带有能够焊接的接触面的、施加在第二主表面上的发射极接触部和同样施加在那里的基极接触轨;以及将第一主表面的指状的接触结构与第二主表面上的基极接触轨连接的穿通接触部、通孔,由此发射极区域以及基极区域通过第二主表面上的焊接接触面连接,其中第二主表面局部地、至少在基极接触轨的区域中没有p+发射极掺杂,并且第一主表面和第二主表面的预先确定的区域至少在通孔周围具有n+n结并且由此具有前表面场。
  • 太阳能电池及其制造方法
  • [发明专利]硫化镉薄膜太阳电池及其制备方法-CN201110084460.3无效
  • 李卫;冯良桓;张静全;武莉莉;蔡亚平;谢晗科;朱喆;高静静 - 四川大学
  • 2011-04-06 - 2011-09-14 - H01L31/068
  • 本发明属于新能源材料与器件领域,特别涉及一种半导体薄膜太阳电池的制备方法。提出一种以Cd2SnO4为透明导电层,n型CdS为窗口层,Zn2SnO4作为透明导电层和窗口层之间的缓冲层材料,p型CdS作吸收层的CdS同质结太阳电池结构,在此基础上,采用干法工艺制备出同质结的CdS太阳电池。即在硼硅或铝硅玻璃上射频溅射透明导电层Cd2SnO4,随后射频溅射缓冲层Zn2SnO4,接下来,采用射频溅射法制备n型CdS作为窗口层,然后采用物理气相法室温沉积掺铜CdS并后处理,获得p型CdS作吸收层,或者物理气相法直接在一定温度下生长p型掺铜CdS作吸收层,最后沉积金属电极,并接上引线。采用上述结构和工艺,可更好收集和利用太阳光,有效地对CdS进行p型掺杂处理,并消除晶格失配和界面态带来的影响,从而获得更高的光电转换效率。
  • 硫化薄膜太阳电池及其制备方法
  • [发明专利]基于刻蚀技术的SIS结太阳能电池-CN201110067715.5无效
  • 马绍栋;付非亚;王宇飞;王海玲;彭红玲;郑婉华 - 中国科学院半导体研究所
  • 2011-03-21 - 2011-08-24 - H01L31/06
  • 本发明公开了一种基于刻蚀技术的SIS结太阳能电池,包括:一下电极(10);一光吸收材料层(20),该光吸收材料层(20)制作在下电极(10)上;通过刻蚀技术,在光吸收材料层(20)上制作微米尺寸不同周期和深度的一维条型结构或二维柱形结构;一氧化物绝缘层(30),该氧化物绝缘层(30)通过化学方法氧化光吸收材料层(20)形成;一TCO薄膜层(40),该TCO薄膜层(40)沉积在氧化物绝缘层(30)上;一上图形电极(50),该上图形电极(50)制作在TCO薄膜层(40)上;以及一纳米颗粒(60),该纳米颗粒(60)放置在TCO薄膜层(40)上。利用本发明,解决了目前SIS结太阳能电池转化效率低的问题,达到了提高电池光学吸收和载流子抽取能力的目的。
  • 基于刻蚀技术sis太阳能电池
  • [发明专利]太阳能电池-CN201110045950.2有效
  • 胡雁程;陈芃;梁硕玮;吴振诚 - 友达光电股份有限公司
  • 2011-02-25 - 2011-08-03 - H01L31/06
  • 本发明公开一种太阳能电池,其包括半导体基底、掺杂层、量子阱层、第一钝化层、第二钝化层、第一电极以及第二电极。半导体基底具有前表面以及后表面,且半导体基底的前表面为纳米柱。掺杂层覆盖在纳米柱的表面。电极层覆盖掺杂层。量子阱层位于半导体基底上,量子阱层具有至少一第一掺杂区以及至少一第二掺杂区,其中量子阱层包括多晶硅化锗(Si1-xGex)。第一钝化层覆盖量子阱层的第一掺杂区。第二钝化层覆盖量子阱层的第二掺杂区。第一电极以及第二电极分别与量子阱层的第一掺杂区以及第二掺杂区电性连接。
  • 太阳能电池
  • [发明专利]一种纳米硅/晶体硅异质结光伏电池-CN201110020790.6无效
  • 杨宏;帅争峰;王鹤 - 西安交通大学
  • 2011-01-18 - 2011-06-29 - H01L31/06
  • 本发明公开了一种纳米硅/晶体硅异质结光伏电池。该电池依次由正面银电极,正面TCO导电薄膜,p型重掺杂纳米硅层,p型轻掺杂纳米硅层,p型轻扩散晶体硅层,n型晶体硅层,本征纳米硅层,n型纳米硅层,背面TCO导电薄膜,背面银电极构成。通过在电池正面的p型重掺杂纳米硅层与n型晶体硅衬底间制备出p型轻掺杂纳米硅层和p型轻扩散晶体硅层,在p型重掺杂纳米硅层和n型晶体硅衬底间形成了薄的缓冲层和浓度梯度结。利用本结构,能够克服常规异质结光伏电池p型层与i型层之间晶格失配的问题,增强了界面电场,减少了界面复合,提高了光伏电池的开路电压和填充因子,提高了光电转换效率。
  • 一种纳米晶体硅异质结光伏电池
  • [发明专利]一种双结太阳电池及其制备方法-CN201010531394.5无效
  • 韩培德 - 中国科学院半导体研究所
  • 2010-10-29 - 2011-05-11 - H01L31/06
  • 本发明公开了一种双结太阳电池及其制备方法。该双结太阳电池包括:第一导电类型衬底;在该第一导电类型衬底的迎光面上依序形成的迎光面第二导电类型层和介质钝化层,且介质钝化层表面为绒面;在该第一导电类型衬底的背光面上交替形成的背光面第二导电类型区和背光面第一导电类型区;在该迎光面第二导电类型层上形成的第一电极;在该背光面第二导电类型区上形成的第二电极;在该背光面第一导电类型区上形成的第三电极;以及在该第二电极和该第三电极之间形成的背光面绝缘介质层。利用本发明,避免了充分光吸收与少子扩散距离有限的矛盾,避免了背结电池中光吸收区与载流子收集区不一致的矛盾,从而提高电池效率。
  • 一种太阳电池及其制备方法
  • [发明专利]光电动势装置及其制造方法-CN200880128931.2有效
  • 米泽雅人;筈见公一;高见明宏;森川浩昭;西村邦彦 - 三菱电机株式会社
  • 2008-04-30 - 2011-04-13 - H01L31/068
  • 本发明提供一种光电动势装置的制造方法,无需大量追加制造工序,而可通过简单的工序形成在光电动势装置的与光入射侧电极接合的部分形成的高浓度扩散层。包括:在P型硅基板(101)和光的入射面侧的整个面形成按照第1浓度扩散了N型的杂质的高浓度N型扩散层(102H)的工序;在高浓度N型扩散层(102H)上形成耐蚀刻膜(103),在耐蚀刻膜(103)上的凹部形成区域(105a)内的规定的位置处,形成微细孔(104)的工序;以微细孔(104)的形成位置为中心,以在凹部形成区域(105a)内不使高浓度N型扩散层残留的方式,对硅基板(101)进行蚀刻而形成凹部的工序;在形成凹部的面上形成按照比第1浓度低的第2浓度扩散了N型的杂质的低浓度N型扩散层(102L)的工序;以及在硅基板(101)的光的入射面侧的电极形成区域(105b)中形成栅电极(111)的工序。
  • 电动势装置及其制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top