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[发明专利]直流等离子体化学气相沉积设备-CN200710031822.6无效
发明人：邵庆益 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2007-11-30 - 公布日： 2008-06-11 - 主分类号： C23C16/503 文献下载
摘要：本发明是一种直流等离子体化学气相沉积设备。包括沉积反应室、两端分别与沉积反应室相通及与抽气系统连接的管道、衬底支架、源气体激活装置，源气体激活装置包含上电极、下电极、电极冷却管道及分别与上电极及下电极连接的直流电源，上电极及下电极分别置于沉积反应室的上部及下部，其中上电极和衬底之间设有平行放置的热蒸发装置，热蒸发装置包括热蒸发丝及对热蒸发丝供电的热蒸发丝电源，热蒸发丝固定于沉积反应室底座上的热蒸发支架上，热蒸发丝通过沉积反应室上的接线柱与置于沉积反应室外的热蒸发丝电源相接本发明既可进行直流等离子体化学气相沉积处理，又可同时进行热蒸发处理，具有直流等离子体和热蒸发处理组合功能的优点。
直流等离子体化学沉积设备

[发明专利]热丝与热蒸发气相沉积薄膜设备-CN200710030643.0无效
发明人：邵庆益 -专利权人：漳州师范学院
申请日： 2007-09-30 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种材料制备的热丝与热蒸发气相沉积薄膜设备。该设备由激活源气体来沉积材料的热丝化学气相沉积激活部分组成，并与热蒸发部分形成组合；衬底支架相对热丝、或热蒸发丝，或热丝和热蒸发丝组合运动。
蒸发沉积薄膜设备

[发明专利]薄膜沉积设备及其镀膜方法、真空镀膜机-CN202111081911.8在审
发明人：刘伟基;冀鸣;易洪波;赵刚 -专利权人：佛山市博顿光电科技有限公司;中山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本申请涉及一种薄膜沉积设备及其镀膜方法、真空镀膜机，所述薄膜沉积设备包括：设于真空室内的电子束热蒸发系统和磁控溅射系统；其中，电子束热蒸发系统设于工件盘的下部，磁控溅射系统设于工件盘的上部；工件盘用于放置被镀膜的基片；电子束热蒸发系统用于通过热蒸发方式对基片的下表面进行薄膜沉积；磁控溅射系统用于通过溅射方式对基片的上表面进行薄膜沉积；在镀膜过程中，工件盘转动基片，电子束热蒸发系统在第一真空状态下对基片的下表面进行薄膜沉积，磁控溅射系统在第二真空状态下对基片的上表面进行薄膜沉积；该技术方案，在一个工序中分别完成薄膜沉积主要工序和增透薄膜工艺组合流程，从而简化了薄膜沉积工序，提高了薄膜沉积效率。
薄膜沉积设备及其镀膜方法真空镀膜

[发明专利]薄膜沉积装置-CN201310697963.7有效
发明人：梁皓植;卞柱舜 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2013-12-18 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜沉积装置，更详细的说根据沉积物质的蒸发，在基板形成薄膜的薄膜沉积装置。本发明公开了薄膜沉积装置的特征在于，根据薄膜沉积装置，包括：工序腔室；一个以上的蒸发源，使沉积物质蒸发，使搬运至所述工序腔室的基板上沉积薄膜；与一个以上的开关板，屏蔽在所述蒸发源蒸发的沉积物质，所述开关板，包括：基座部，沉积蒸发的沉积物质；至少一个热屏蔽部件，层叠在所述基座部上部，屏蔽在所述蒸发源蒸发沉积物质时发生的热辐射。
薄膜沉积装置沉积蒸发蒸发源工序腔室基座部开关板屏蔽基板热屏蔽部件沉积薄膜蒸发沉积热辐射薄膜搬运

[发明专利]一种柔刚两用型钙钛矿太阳能电池一体化沉积系统-CN201711314201.9在审
发明人：刘生忠;杜敏永;王辉;曹越先;张豆豆;秦炜;王开 -专利权人：中国科学院大连化学物理研究所
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： H01L51/48 文献下载
摘要：本发明涉及太阳能电池生产技术领域，具体地说是一种柔刚两用型钙钛矿太阳能电池一体化沉积系统，包括前溅射装置、蒸发装置和后溅射装置，所述前溅射装置、蒸发装置和后溅射装置内均设有柔性沉积轨道系统、刚性沉积轨道系统和多个腔室，柔性衬底通过所述柔性沉积轨道系统带动在各个腔室间移动，刚性衬底通过所述刚性沉积轨道系统带动在各个腔室间移动；所述前溅射装置用于ITO溅射沉积和TiO₂溅射沉积，所述蒸发装置用于CH₃NH₃PbI热蒸发沉积和PbCl₃热蒸发沉积，所述后溅射装置用于NiO电极溅射沉积和Au电极溅射沉积。本发明根据钙钛矿的基本结构，将系统设计为溅射沉积‑蒸发沉积‑溅射沉积的真空法沉积模式，极大改善了钙钛矿太阳能电池的稳定性。
溅射沉积溅射装置沉积轨道系统钙钛矿太阳能电池蒸发装置腔室热蒸发沉积沉积系统两用型衬底太阳能电池生产系统设计蒸发沉积一体化电极真空法移动

[发明专利]真空沉积方法和真空沉积用密封型蒸发源设备-CN200580009356.0无效
发明人：高木俊宣;中村宏毅;渡辺宽;福田辰男 -专利权人：电离组传送技术株式会社;双叶电子工业株式会社
申请日： 2005-01-21 - 公布日： 2007-04-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供一种真空沉积方法。在使升华蒸发材料(22)蒸发的真空沉积中，气密型加热容器(11)具有喷射开口(14)和具有用来自其内表面的辐射热使所述蒸发材料蒸发的区域。支架(15)将蒸发材料保持在由于从加热容器(11)传递的热量没有使蒸发材料蒸发的区域中。从而，所产生的蒸气从喷射开口(14)喷射至该容器外的沉积对象表面上。
真空沉积方法密封蒸发设备

[实用新型]通过电子束蒸发在部件上沉积保护涂层的设备-CN202120339462.1有效
发明人： K·Y·雅科夫乔克;V·O·巴尔斯科夫;Y·E·鲁道义;A·V·麦克特奇克 -专利权人：乌克兰国家科学院巴顿焊接研究所电子束技术国际中心
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本实用新型涉及通过电子束蒸发在部件上沉积保护涂层的设备，所述设备包括具有半圆柱形热罩的真空室、至少一个带有蒸发材料的水冷坩埚、用于辐射加热所述部件的加热器和电子枪。热罩、带有蒸发材料的水冷坩埚和加热器构成所述真空室内的涂层沉积区。所述设备还具有可移动挡板，该挡板能够移动至所述涂层沉积区中，以屏蔽所述部件表面和所述热罩的内表面使其不受所述加热器和蒸发材料的表面的影响。所提出的设计在蒸发过程开始时保护所述部件表面，不使不良杂质和微滴进入，并且还保护加热器和蒸发材料的表面，不使冷凝碎片进入。
通过电子束蒸发部件沉积保护涂层设备

[发明专利]线沉积源-CN200910262492.0无效
发明人： C·康罗伊;S·W·普里迪;J·A·达尔斯特伦;R·布雷斯纳汉;D·W·戈特霍德;J·帕特林 -专利权人：维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司
申请日： 2009-12-18 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：一种线沉积源，包括多个坩锅，每个坩锅容纳沉积材料。热屏蔽件提供用于所述多个坩锅中的至少一个的至少局部热隔离。本体包括多个传导槽道。所述多个传导槽道中的每一个的输入与所述多个坩锅中的相应一个的输出连接。加热器升高该多个坩锅的温度，这样，每个坩锅将沉积材料蒸发至该多个传导槽道中。多个喷嘴中的每一个的输入与所述多个传导槽道中的一个的输出连接。蒸发的沉积材料从坩锅通过传导槽道被输送给喷嘴，在喷嘴处，蒸发的沉积材料从该多个喷嘴排出，以形成沉积流。
沉积

[实用新型]真空镀膜/沉积用偏压热蒸发装置-CN99211377.6无效
发明人：郭汉生 -专利权人：郭汉生
申请日： 1999-05-31 - 公布日： 2000-03-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种真空镀膜/沉积用偏压热蒸发装置,属于真空镀膜或直空沉积技术领域,它包括有承载源材料的舟蒸发器,位于舟蒸发器下方(或上方,或侧面)的灯丝,与灯丝相连的灯丝加热电源,及一端与灯丝相连、另一端与舟蒸发器相连的偏压直流电源它兼具电阻式热蒸发装置成本低和电子束蒸发装置沉积过程便于控制的优点,又摒弃了它们的缺点。
真空镀膜沉积偏压蒸发装置

[发明专利]用于真空沉积装置的蒸发设备及包括该蒸发设备的真空沉积装置-CN201310374327.0在审
发明人： J·维莱特;J-L·居约克斯;D·埃斯特韦 -专利权人：瑞必尔
申请日： 2013-07-04 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及用于真空沉积装置的蒸发设备，其允许控制待蒸发材料的加热持续时间和强度从而限制蒸发过程中待蒸发材料的退化。本发明提出用于真空沉积装置的蒸发设备，包括用于容纳待蒸发材料的坩埚，坩埚包括底部、主体和开口，和围绕坩埚的主体的至少一部分的加热装置，蒸发设备置于真空沉积装置的具有低于10-3mbar的压强的真空腔中。蒸发设备还包括至少一个介于坩埚主体和加热装置之间的热屏障，热屏障包括至少一个相对于坩埚可移动的第一元件，并且设计成使得在主体上的被考虑的点处坩埚主体所接收的热量在给定的时间符合被考虑点与坩埚底之间的距离的非常值函数，该函数可根据热屏障的第一元件相对坩埚的至少一个移动度来调整。
用于真空沉积装置蒸发设备包括

[发明专利]一种表面沉积纳米银薄膜的泡沫镍、制备方法及其应用-CN202110197810.0有效
发明人：赵旭;王湘越;赵纯 -专利权人：吉林大学
申请日： 2021-02-22 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C25B11/031 文献下载
摘要：一种表面沉积纳米银薄膜的泡沫镍、制备方法及其在硫碘(S‑I)循环本生反应(Bunsen)产物电解制氢中的应用，属于纳米合成技术领域。本发明是将表面处理后的泡沫镍用高温胶带固定到金属热蒸发镀膜设备的蒸发架上，剪取适量银丝缠绕至钨丝上，固定至加热电路中；将金属热蒸发镀膜设备反应室抽真空，打开加热电路开关，在泡沫镍的一侧表面进行纳米银薄膜的沉积；沉积完成并降到室温后，将泡沫镍翻转，对其另一侧表面按前面操作步骤进行纳米银薄膜的沉积，纳米银薄膜的厚度为30～200nm。本发明利用热蒸发的方法使用微量银，在泡沫镍上沉积均匀纳米银薄膜，既起到保护泡沫镍不被腐蚀可反复利用，又提高了导电性和催化性能。
一种表面沉积纳米薄膜泡沫制备方法及其应用

[发明专利]薄膜太阳能电池的Kesterite层制造-CN201180051092.0无效
发明人：王克嘉;G·苏普拉提克 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2011-10-19 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：在衬底上真空沉积Kesterite膜并对其进行退火。沉积在低温下进行以提供良好的组分控制和有效的金属使用。在高温下进行短时长的退火。可采用在高真空环境中热蒸发、电子束蒸发或溅射作为沉积方法的一部分。
薄膜太阳能电池 kesterite 制造

[发明专利]一种连续垂直热蒸发的金属镀膜方法-CN201010193192.4无效
发明人：崔铮 -专利权人：崔铮
申请日： 2010-06-07 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明揭示了一种新型的连续垂直热蒸发的金属镀膜方法，通过底部热蒸发源将金属膜料蒸镀到热蒸发源上方的样品之上，其特征在于：在热蒸发源与样品输送机构之间设一狭缝型准直装置，将从热蒸发源射出的发散性金属分子过滤本发明的应用实施，只允许接近垂直方向飞行的金属分子沉积到基底材料表面，有利于减低或消除基底材料表面浮雕结构的侧壁沉积，避免浮雕结构顶部与底部的金属薄膜互连，增强形成金属线栅偏振技术所需要的双层金属线栅结构
一种连续垂直蒸发金属镀膜方法

[发明专利]一种液态金属薄膜的制备方法-CN201910976345.3在审
发明人：刘宜伟;韩欣彤;李法利;李润伟 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：该方法采用热蒸发技术，将液态金属作为蒸发源蒸发沉积在衬底表面形成液态金属薄膜，在此过程中将蒸发沉积过程分多次进行，相邻两次之间通入气体，使沉积的液态金属粒子表面被氧化，有利于降低液态金属粒子在沉积过程中的团聚，提高液态金属粒子在衬底表面的分散均匀性，经多次沉积形成的薄膜整体具有导电性。另外，本发明可通过蒸发参数的设置和/或沉积次数的调控而控制液态金属薄膜的厚度，得到电阻从欧姆到兆欧级别的液态金属薄膜。
一种液态金属薄膜制备方法

[发明专利]导流型热蒸发沉积装置-CN200910216474.9无效
发明人：张占文;黄勇;漆小波;李波;刘一扬;陈素芬;魏胜 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2009-11-27 - 公布日： 2010-06-30 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种导流型热蒸发沉积装置，本发明的装置含有加热炉、导流管、导流管加热罩。加热炉由加热丝架、内保温筒和外保温筒组成，蒸发舟置于加热丝架内。导流管与蒸发舟的蒸发口密封连接，导流管置于导流管加热罩内。当蒸发舟内的材料受热蒸发的时候，由于内外压差的作用，蒸气会沿导流管向外流动，由于导流管的导向作用，可实现蒸气由上至下喷出。本发明的装置也可以通过两个或两个以上的组合配置实现两种或两种以上材料的化学气相沉积。解决了需要在下方固定样品的热蒸发气相沉积问题。本发明的装置中蒸汽流更集中，可以获得更高的沉积速率。
导流蒸发沉积装置

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