专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]沉积系统-CN202011014219.9在审
  • 李镐准;金京汉;朴在穆;赵源锡;金盛珍;文柱日;朴宰完;崔烔赫 - 三星显示有限公司
  • 2020-09-24 - 2021-11-09 - C23C14/50
  • 本发明的沉积系统包括:具有维持真空状态的操作空间的腔室;在腔室内沿第一路径循环并移送载体的第一移送装置;在腔室内沿第二路径往返并移送掩模的第二移送装置;在腔室内沿第一路径设置在沉积区域中的沉积装置;设置在腔室内的装载部;以及与第一路径和所述装载部连接的第三移送装置,载体在第一路径的基板结合站中与基板结合,并且在第一路径与第二路径交汇的掩模结合站中与掩模结合,载体在与基板及掩模结合之后经过沉积区域,并且在第一路径与第二路径交汇的掩模分离站中与掩模分离
  • 沉积系统
  • [发明专利]薄膜沉积系统及其方法-CN202210157927.0在审
  • 郑有翔;吴哲玮 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-02-21 - 2022-07-29 - C23C16/505
  • 一种薄膜沉积系统及其方法,薄膜沉积系统包含定位于晶圆之上且用以在薄膜沉积制程期间产生电浆的顶板。薄膜沉积系统包含感测器,感测器用以产生指示薄膜沉积系统的组件的寿命、由薄膜沉积系统沉积的薄膜的特性或流入薄膜沉积系统中的制程材料的特性的感测器信号。薄膜沉积系统包含控制系统,控制系统用以回应于感测器信号在薄膜沉积制程期间调整薄膜沉积系统顶板相对于薄膜沉积系统中晶圆位置的相对位置。
  • 薄膜沉积系统及其方法
  • [发明专利]一种TiN与二氧化硅双层涂层的沉积方法及装置-CN202111414586.2在审
  • 朱权;李象远 - 四川大学
  • 2021-11-25 - 2022-03-08 - C23C16/34
  • 一种TiN与二氧化硅双层涂层的沉积方法,包括以下步骤:S1:对样件进行预处理操作;S2:对经预处理操作后的样件通过CVD方式利用TiN原料气沉积TiN涂层;S3:对沉积TiN涂层后的样件进行正硅酸乙酯自分解反应通过MOCVD沉积方式沉积SiO2涂层;S4:对样件进行降温。一种TiN与二氧化硅双层涂层的沉积装置,包括CVD气体供应系统、MOCVD气体供应系统以及沉积系统;所述CVD气体供应系统与MOCVD气体供应系统均连接至沉积系统;所述沉积系统内进行TiN涂层的沉积与SiO2涂层的沉积,所述CVD气体供应系统沉积系统内进行TiN涂层的沉积时为沉积系统提供TiN原料气,所述MOCVD气体供应系统沉积系统内进行SiO2涂层的沉积时为沉积系统提供SiO2原料气。
  • 一种tin二氧化硅双层涂层沉积方法装置
  • [发明专利]能够在线检测气体分离膜性能的气相沉积设备及制膜方法-CN201910973262.9有效
  • 王来军;徐庐飞;张平;陈崧哲 - 清华大学
  • 2019-10-14 - 2020-09-22 - C23C16/455
  • 能够在线检测气体分离膜性能的气相沉积设备及制膜方法,属于气相沉积和气体分离膜领域。气相沉积设备包括:包括进气系统、真空系统、气相沉积系统和在线检测系统,所述进气系统为双载气进气系统;进气系统与气相沉积系统连接,气相沉积系统与进气系统、真空系统和在线检测系统连接,真空系统与气相沉积系统和在线检测系统连接,在线检测系统与真空系统和气相沉积系统连接;制备气体分离膜时,两种载气携带沉积源进入气相沉积系统,通过气相沉积得到气体分离膜;在线检测气体分离膜性能时,通过气路切换,将双载气转换为气体分离膜的分离对象,在线检测系统检测气体分离膜的分离性能。
  • 能够在线检测气体分离性能沉积设备方法
  • [发明专利]一种化学气相沉积方法-CN201310308530.8无效
  • 戴煜;胡祥龙;胡高健 - 湖南顶立科技有限公司
  • 2013-07-22 - 2013-10-09 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种化学气相沉积方法,以化学气相沉积系统进行化学气相沉积,化学气相沉积系统包括:化学气相沉积室,化学气相沉积室内设有发热体、隔热屏和与化学气相沉积室连通,且分散安装的多个喷嘴系统;真空系统,真空系统具有与多个喷嘴系统连通的真空管路,真空管路上设有真空开关阀;化学沉积气路系统,化学沉积气路系统具有与多个喷嘴系统连通的充气管路,充气管路上设有充气开关阀。本发明使用的化学气相沉积系统,设置有多个分散安装的喷嘴系统,即各个喷嘴系统并非安装在同一位置。同时设置了多个分别与多个喷嘴系统连接的真空管路和充气管路,能够有效的实现化学气相沉积产品均匀沉积,从而得到均匀材质的化学气相沉积成品。
  • 一种化学沉积方法
  • [发明专利]一种钙钛矿薄膜的蒸发设备及其使用方法和应用-CN201610721602.5在审
  • 姚冀众;颜步一 - 杭州纤纳光电科技有限公司
  • 2016-08-25 - 2018-03-09 - C23C16/30
  • 本发明涉及一种钙钛矿薄膜的蒸发设备及其使用方法和应用,包括分开设置的蒸发系统沉积系统,蒸发系统沉积系统通过蒸汽通道相互连通,蒸发系统包括沉积腔体,在沉积腔体内设置有放置待沉积基板的沉积支架,在沉积腔体的蒸汽通道进入口与待沉积基板之间设置有网筛,在网筛上设置有多个便于蒸汽通过的通孔,蒸发系统蒸发的蒸汽通过蒸汽通道进入沉积腔体,并经过网筛的通孔后均匀地分布在待沉积基板的表面上。本发明将蒸发系统沉积系统分置于不同的腔室,且可以单独控制蒸发系统和基板所在沉积系统的腔室温度。另一方面,在沉积腔体里设置了网筛,使进入沉积腔体的蒸汽均匀分布,使每个基板接触到的气流相同,改善了成膜质量。
  • 一种钙钛矿薄膜蒸发设备及其使用方法应用

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