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[发明专利]电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体-CN01116803.X无效
发明人：安芸佑一;近藤高男;武田实;山本真伸;增原慎;柏木俊行 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2001-03-02 - 公布日： 2001-11-14 - 主分类号： G11B9/10 文献下载
摘要：提供一种电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体,其能够有效地避免电子束的散射并避免提供大规模的真空室。电子束照射装置包括支持受电子束照射体(3)的支持部分(4);经微小间隔与电子束照射体相对的电子束照射头(6),电子束照射头具有电子束发射孔(5)。在电子束照射头中提供与电子束发射孔(5)相通的电子束路径(20),此外,围绕电子束发射孔形成一个或多个从面对电子束照射体的电子束照射头的表面开口的环形吸气槽(61)和(62)。真空泵连接于电子束路径和环形吸气槽,把电子束路径维持在高真空状态。
电子束照射装置方法原版记录媒体

[发明专利]多电子束聚焦装置和控制方法-CN202010812526.5在审
发明人：尹华碧 -专利权人：深圳市奥谱太赫兹技术研究院
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种多电子束聚焦装置和控制方法，所述多电子束聚焦装置包括用以产生电子束的热或冷场发射阴极电子源和栅极、电子束分束的分束器、提高电子束能量的加速透镜、提高电子束质量的消相差透镜、对各电子束束斑的高分辨物镜阵列、对电子束位置进行微调的电子束偏转器以及控制电子束通过的束闸，以便于对电子束的精准控制，因此在相同面积的圆晶上可以容纳数量更多的电子束实现同时曝光，提高了集成电路加工应用中的精度和速度。
电子束聚焦装置控制方法

[发明专利]电子束流能量密度分布测量系统及方法-CN201910300519.4有效
发明人：林峰;赵德陈;张磊;郭超;马旭龙 -专利权人：清华大学;天津清研智束科技有限公司
申请日： 2019-04-15 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明公开了一种电子束流能量密度分布测量系统及方法，其中，该系统包括：电子束发生偏转聚焦装置用于控制电子束的产生、聚焦和偏转；电子束能量密度测量装置用于测量漏过电子束能量密度测量装置顶部直角缺口的电子束流强度，并记录电子束的偏转信号；控制器用于控制电子束发生偏转聚焦装置产生、聚焦和偏转电子束，同时控制电子束能量密度测量装置采集电子束强度信号和记录电子束偏转信号；数据处理装置用于将电子束流强度信号根据电子束偏转信号构建成二维数据矩阵，以采用二阶微分方法计算获得电子束能量密度分布。该系统简化测量装置的加工，无需假定电子束能量密度圆周对称，也可以准确测量不规则的电子束流能量密度分布。
电子束能量密度分布测量系统方法

[发明专利]一种聚焦电子束蒸发源及蒸发镀膜装置-CN201410698963.3在审
发明人：张赛;孙雪平;易文杰;彭立波 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2015-05-13 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚焦电子束蒸发源及蒸发镀膜装置，蒸发源包括：电子束产生装置：用于产生大束流平行电子束；电子束传输装置：用于使所述大束流平行电子束加速后聚集为汇聚束，并传输到电子束最小束斑位置；蒸发材料输送装置：用于在接收到电子束检测装置的检测信号后将丝状蒸发材料输送到所述电子束最小束斑位置；至少一个电子束检测装置：用于检测经过电子束最小束斑位置之后的发散束。本发明的蒸发源可以根据蒸发速率的不同调整电子束产生装置的功率，进而改变电子束的功率密度；蒸发镀膜装置能保证薄膜生长速率高、均匀性好。
一种聚焦电子束蒸发镀膜装置

[发明专利]一种多电子束中心送丝的电子束加工系统及加工方法-CN201611039005.0有效
发明人：于宝海;谢广亮 -专利权人：沈阳金锋特种设备有限公司
申请日： 2016-11-21 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种多电子束中心送丝的电子束加工系统及加工方法，包括：多个电子束枪和送丝系统，所述电子束枪包括电子束发生系统、电子束加速系统、电子束聚集系统和电子束偏转系统，所述送丝系统包括送丝管和送丝嘴，所述送丝嘴连接于送丝管下部，所述送丝管和送丝嘴设于结构中心轴线上，所述多个电子束枪沿中心轴线圆周平均点阵分布。本发明可以保证电子束在工件表面的各向同性，提高加工工件质量的均匀性，加工过程连续不间断，电子束枪结构与中心送丝结构互不干涉，适用于电子束焊接，电子束熔覆及电子束金属3D打印等电子束加工领域。
一种电子束中心加工系统方法

[实用新型]一种多电子束中心送丝的电子束加工系统-CN201621269220.5有效
发明人：于宝海;谢广亮 -专利权人：沈阳金锋特种设备有限公司
申请日： 2016-11-21 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： B23K15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多电子束中心送丝的电子束加工系统，包括多个电子束枪和送丝系统，所述电子束枪包括电子束发生系统、电子束加速系统、电子束聚集系统和电子束偏转系统，所述送丝系统包括送丝管和送丝嘴，所述送丝嘴连接于送丝管下部，所述送丝管和送丝嘴设于结构中心轴线上，所述多个电子束枪沿中心轴线圆周平均点阵分布。本实用新型可以保证电子束在工件表面的各向同性，提高加工工件质量的均匀性，加工过程连续不间断，电子束枪结构与中心送丝结构互不干涉，适用于电子束焊接，电子束熔覆及电子束金属3D打印等电子束加工领域。
一种电子束中心加工系统

[实用新型]多电子束聚焦装置-CN202021684033.X有效
发明人：尹华碧 -专利权人：深圳市奥谱太赫兹技术研究院
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多电子束聚焦装置，该系统包括用以产生电子束的热或冷场发射阴极电子源和栅极、电子束分束的分束器、提高电子束能量的加速透镜、提高电子束质量的消相差透镜、对各电子束束斑的高分辨物镜阵列、对电子束位置进行微调的电子束偏转器以及控制电子束通过的束闸，以便于对电子束的精准控制，因此在相同面积的圆晶上可以容纳数量更多的电子束实现同时曝光，提高了集成电路加工应用中的精度和速度。
电子束聚焦装置

[发明专利]电子束流强测量设备及测量方法-CN201810876585.1有效
发明人：盖炜 -专利权人：北京铭杰医疗科技有限公司
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明实施例涉及医疗设备，公开了一种电子束流强测量设备及测量方法。本发明中，电子束流强测量设备，用于测量电子束医疗设备的电子束流强，且电子束医疗设备包括：用于发射电子束的电子束发射装置、与电子束发射装置连接的束流针；电子束流强测试设备包括：感应装置，用于感应通过束流针的电子束所产生的磁场，并在感应到磁场后输出电信号；信号处理装置，与感应装置电性连接，用于接收感应输出的电信号，并用于根据电信号的强度得出流过束流针的电子束流强。与现有技术相比，使得电子束医疗设备产生的电子束的流强可以获取。
电子束测量设备测量方法

[发明专利]电子束照射设备和方法-CN00809466.7无效
发明人：内藤仪彦 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2000-06-30 - 公布日： 2002-07-10 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：一种电子束照射设备采用电子束照射燃烧废气以从废气中去除有毒成分。电子束照射设备包括用于发射电子的电子束源(12)、用于将从电子束源发射的电子加速的加速管(13)、通过将磁场施加到加速管(13)中形成高能量的电子束以控制电子束直径的聚焦电磁铁(16)、通过将磁场施加到电子束以偏转和扫描电子束的电磁铁(17、18)、以及允许电子束从那里经过的照射窗口(20)。电子束由聚焦电磁铁(16)聚焦在聚焦点,使得电子束收敛一次并且随后发散,然后经过照射窗口(20)向外发射。
电子束照射设备方法

[发明专利]一种基于涡旋圆艾里的激增自聚焦电子束生成方法及系统-CN202211330455.0有效
发明人：邓冬梅;蔡学震;唐惠琳 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H01J37/21 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于涡旋圆艾里的激增自聚焦电子束生成方法及系统，电子枪发射电子束；电子束透射过一个纳米全息衍射图，纳米全息衍射图的图样经过计算进行立方相位调制，使透射过的电子束被调制成圆艾里电子束；圆艾里电子束再经过一个叉形衍射全息图，在圆艾里电子束中心轴处生成涡旋，得到带有中心涡旋的圆艾里电子束，即为涡旋圆艾里电子束；涡旋圆艾里电子束再通过磁透镜聚焦，涡旋圆艾里波包在焦平面上形成并且焦平面开始记录涡旋圆艾里电子束的传播；通过透射电子显微镜观察到涡旋圆艾里电子束的横截面本发明能够很好地控制圆艾里电子束的初始场，便于调控参数；生成的电子束相比于其他电子束具有更强的聚焦能力，并且带有轨道角动量。
一种基于涡旋圆艾里激增自聚焦电子束生成方法系统

[发明专利]X射线产生器和X射线拍摄设备-CN201210411517.0无效
发明人：金基如;赵敏局;崔炳善 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2012-10-25 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： H05G1/08 文献下载
摘要：X射线产生器包括：电子束发射单元，发射电子束；电子束引导单元，电子束发射单元设置在电子束引导单元中，电子束引导单元用于会聚电子束并使电子束沿预定方向行进；靶单元，被设置为面向电子束引导单元，并且当电子束与靶单元碰撞时释放
射线产生器拍摄设备

[发明专利]电子束辐射固化膜玻璃及其制造方法-CN200910169719.7在审
发明人：王广武 -专利权人：王广武
申请日： 2009-08-28 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：一种电子束辐射固化膜玻璃包括玻璃，电子束辐射源，电子束辐射液体光油，玻璃表面喷涂或印刷电子束辐射固化液体光油，电子束辐射源照射后，电子束辐射液体光油发生快速聚合反应，在玻璃表面形成电子束辐射固态薄膜。
电子束辐射固化玻璃及其制造方法

[发明专利]一种采用电子束的光刻方法-CN201610405199.5有效
发明人：柳鹏;赵伟;林晓阳;周段亮;张春海;姜开利;范守善 -专利权人：清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司
申请日： 2016-06-08 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种采用电子束的光刻方法，该方法包括：提供一电子束；使该电子束透过一二维纳米材料后形成一透射电子束和多个衍射电子束；将该透射电子束挡住；以及使该多个衍射电子束照射在待加工件的表面形成多个衍射斑点本发明提供的采用电子束的光刻方法，通过二维纳米材料将一个电子束衍射成多个电子束，既成本低廉又提高了工作效率。
一种采用电子束光刻方法

[发明专利]涂层装置和方法-CN201910618356.4有效
发明人：卡斯滕·迪乌斯 -专利权人：冯·阿登纳资产股份有限公司
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：根据不同的实施方式，涂层装置(100至700)可以具有：用于提供电子束(23)的电子束枪(112)；用于捕集电子束(23)的电子束捕集器(202)；用于驱控电子束枪(112)和/或电子束捕集器(202)的控制装置(204)，其中，控制装置(204)设置用于，转换在多种配置之间的驱控，多种配置中：在第一种配置中，电子束(23)对准电子束捕集器(202)；以及在第二种配置中，电子束(23)从电子束捕集器(
涂层装置方法

[发明专利]一种多束电子束束斑的测量装置及方法-CN202210842745.7在审
发明人：张利新;王岩;赵伟霞;刘俊标;殷伯华;王鹏飞;韩立 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：本发明涉及多束电子束束斑测量技术领域，提供了一种多束电子束束斑的测量装置及方法，该装置包括真空腔室以及形成于真空腔室内的多束电子束，至少包括：刀口件，可移动的设置在真空腔室内，且位于多束电子束的照射路径上，刀口件上具有适于电子束通过的刀口，刀口件能够在移动过程中对多束电子束中的至少部分电子束进行遮挡；电子束收集结构，位于真空腔室内，且位于刀口件的下游，适于收集从刀口射出的电子束，并将其转化为电信号；数据处理模块，与电子束收集结构信号连接，适于接收电信号，并根据电信号获取各个电子束的束斑分布与束斑大小。该测量装置，可以获取各个电子束的束斑分布与束斑大小，满足观察和测量的需求。
一种电子束测量装置方法

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