专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]晶体除尘装置-CN201320879959.8有效
  • 吴延剑 - 珠海东精大电子科技有限公司
  • 2013-12-30 - 2014-06-18 - B08B5/04
  • 本实用新型公开了一种晶片表面除尘装置,旨在提供一种结构简单、使用方便、能提高晶片载入率、能除去晶片表面粉尘而提高产品良品率的晶片表面除尘装置。该晶片表面除尘装置包括吸附治具、连接管、真空发生器、电磁阀、控制开关,所述吸附治具通过连接管与所述真空发生器的吸气口相联通,所述真空发生器的进气口与外部的空压机相联通,所述电磁阀设置在所述进气口处,所述电磁阀
  • 晶体表面除尘装置
  • [发明专利]一种稀土钕或镱掺杂YAG激光晶体的键合方法-CN202210200175.1在审
  • 林东晖;彭方;马孙明 - 林东晖
  • 2022-03-02 - 2022-06-07 - C30B33/06
  • 本发明公开了一种稀土钕或镱掺杂YAG激光晶体的键合方法,包括:S1:提供稀土掺杂的YAG激光晶体;S2:提供另一键合晶体;S3:对稀土掺杂的YAG激光晶体和另一键合晶体进行清洁;S4:对稀土掺杂的YAG激光晶体进行湿法刻蚀,以使得稀土掺杂的YAG激光晶体形成多个凹陷;S5:对另一键合晶体进行湿法刻蚀,以使得另一键合晶体形成多个凸起;S6:将具有多个凹陷的稀土掺杂的YAG激光晶体与具有多个凸起的另一键合晶体贴合以形成层叠体
  • 一种稀土掺杂yag激光晶体方法
  • [发明专利]大尺寸KDP晶体磁-射流清洗装置及清洗工艺-CN201510020153.7有效
  • 刘增文;黄传真;王军;朱洪涛;刘含莲;徐国强 - 山东大学
  • 2015-01-15 - 2015-05-06 - B08B3/02
  • 本发明涉及一种大尺寸KDP晶体磁-射流清洗装置及清洗工艺。将与抛光液相溶的低分子化学溶剂加压后,注入磁性清洗装置,导流槽将清洗剂沿垂直KDP晶体的运动转化为平行KDP晶体的运动,避免了垂直于KDP晶体的冲击力引起KDP晶体产生裂纹、损伤。清洗过程中,清洗剂射流的冲蚀作用一方面加速清洗剂对抛光液的溶解,另一方面利用清洗剂射流的冲蚀动能去除KDP晶体被清洗剂溶解的抛光液和游离的铁粉等残留物;磁性清洗装置的磁力吸引附着在KDP晶体的铁粉,并且与清洗剂射流的冲蚀力共同作用将附着或嵌入KDP晶体的铁粉拔出、去除。
  • 尺寸kdp晶体表面射流清洗装置工艺
  • [发明专利]小尺寸KDP晶体磁-射流清洗装置及清洗工艺-CN201510020968.5有效
  • 刘增文;黄传真;王军;朱洪涛;刘含莲;徐国强 - 山东大学
  • 2015-01-15 - 2015-05-13 - B08B7/04
  • 本发明涉及一种小尺寸KDP晶体磁-射流清洗装置及清洗工艺。将与抛光液相溶的低分子化学溶剂加压后,注入磁性清洗装置,导流槽将清洗剂沿垂直KDP晶体的运动转化为平行KDP晶体的运动,避免了垂直于KDP晶体的冲击力引起KDP晶体产生裂纹、损伤。清洗过程中,清洗剂射流的冲蚀作用一方面加速清洗剂对抛光液的溶解,另一方面利用清洗剂射流的冲蚀动能去除KDP晶体被清洗剂溶解的抛光液和游离的铁粉等残留物;磁性清洗装置的磁力吸引附着在KDP晶体的铁粉,并且与清洗剂射流的冲蚀力共同作用将附着或嵌入KDP晶体的铁粉拔出、去除。
  • 尺寸kdp晶体表面射流清洗装置工艺
  • [发明专利]一种在硼酸盐晶体制备有机硅防潮保护膜的方法-CN200810104670.2无效
  • 吴以成;鲁路;傅佩珍 - 中国科学院理化技术研究所
  • 2008-04-23 - 2009-10-28 - C30B33/00
  • 一种在硼酸盐晶体制备有机硅防潮保护膜的方法,步骤如下:将硅烷偶联剂、乙酸、去离子水和低沸点有机溶剂混合,硅烷偶联剂发生水解反应得到镀膜溶胶液;硅烷偶联剂R-Si(OCH3)3,R为n-十二烷基、辛基或γ-环氧丙氧丙基;低沸点有机溶剂为乙醇、甲醇或丙酮;将镀膜溶胶液均匀涂抹在硼酸盐晶体,经阴干,硼酸盐晶体制得预聚合有机硅疏水膜;再于80~140℃下进行热处理,晶体上形成致密的有机硅防潮保护膜;其优点:带-Si(OCH3)3官能团的硅烷偶联剂在晶体形成有机硅聚合物,与晶体共价键相连接,硅烷偶联剂的有机官能团具疏水性,可阻隔空气中水分子与晶体接触,提高晶体抗潮解能力。
  • 一种硼酸盐晶体表面制备有机硅防潮保护膜方法

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