专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种基板的加热平台结构-CN202122465830.X有效
  • 黄忠;陈南南;葛京城;沈国芳;朱齐备 - 星科金朋半导体(江阴)有限公司
  • 2021-10-13 - 2022-03-08 - H05K3/30
  • 本实用新型提供了一种基板的加热平台结构,属于基板的加热平台结构技术领域。其加热平台本体(1)呈长方形,所述基板体单元(3)凸出所述加热平台本体(1),且呈矩阵分布,其基板体单元(3)包括复合图形凸、真空槽(38)、真空开口(39),其真空接口(19)设置在所述加热平台本体(1)的侧面,与每一个所述真空开口(39)在所述加热平台本体(1)的内部连通,其隔热顶针Ⅰ(12)设置于所述基板体单元(3)的第一行和最后一行,其隔热顶针Ⅱ(14)设置在所述加热平台本体(1)的长边的边侧本实用新型均衡了基板体单元与加热平台长边两侧接触的温度,缓减了基板定位针的热膨胀,解决了散热片偏移的问题。
  • 一种加热平台结构
  • [发明专利]基板处理装置、基板置机构和基板处理方法-CN201810613271.2有效
  • 津田荣之辅;村上诚志;釜石贵之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-06-14 - 2022-03-11 - H01L21/67
  • 本公开涉及基板处理装置、基板置机构和基板处理方法。能够在一个处理容器内对被处理基板以高生产率连续地进行温度不同的多个工序。基板处理装置具有:处理容器;处理气体供给机构,其向处理容器内供给处理气体;基板,其载置被处理基板;制冷剂流路,其设置于基板的主体;制冷剂抽取机构,其从制冷剂流路抽取制冷剂;加热器,其被印刷在静电卡盘的背面;温度控制部,其使制冷剂流通于制冷剂流路中,将被处理基板温度调整为第一温度,利用加热器进行加热并且利用制冷剂抽取机构抽取制冷剂流路的制冷剂,将被处理基板温度调整为比第一温度高的第二温度,连续地进行基于第一温度的处理和基于第二温度的处理
  • 处理装置基板载置机构方法
  • [发明专利]具有保护覆盖物的基板体系统-CN201580024181.4有效
  • 王作乾;J·M·怀特 - 应用材料公司
  • 2015-04-02 - 2019-01-15 - H01L51/56
  • 本文中公开的实施例一般涉及一种适于夹紧基板及可选地掩模的基板体系统,该基板体系统具有可移除的保护层的堆叠。在一个实施例中,提供基板体系统,该基板体系统包括基板体主体,该基板体主体具有设置于该基板体主体的外部安装表面上的保护层堆叠。该基板体主体被配置成被传输进出处理腔室。该保护层堆叠具有多个可移除的保护层,该多个可移除的保护层可视需要被移除,以暴露“新的”表面,以用于在其上夹持基板
  • 具有保护覆盖载体系统
  • [发明专利]基板处理装置、半导体装置的制造方法及存储介质-CN202011006528.1在审
  • 大桥直史 - 株式会社国际电气
  • 2020-09-23 - 2022-01-25 - H01L21/67
  • 本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法及存储介质,在一边使基板进行公转一边进行处理的装置中能够对基板置面周围的结构进行清洁。基板处理装置构成为具有:处理室,其对基板进行处理;基板置板,其具备非基板置面和多个基板置面;旋转部,其使所述基板置板旋转;等离子体生成部,其构成为所述非基板置面上的等离子体密度比所述基板置面上的等离子体密度高;处理气体供给部,其向所述处理室供给处理气体;清洁气体供给部,其向所述处理室供给清洁气体;以及加热器,其配置于所述基板置板的下方。
  • 处理装置半导体制造方法存储介质
  • [发明专利]成膜装置-CN202210083022.3在审
  • 谷和宪;福井雄贵 - 佳能特机株式会社
  • 2022-01-25 - 2022-07-26 - C23C14/04
  • 本发明提供一种在一边输送基板和掩模一边进行成膜的串联型的成膜装置中尽可能地抑制被对准了的基板与掩模的位置偏离的技术。本发明使用如下的成膜装置,所述成膜装置配备有:保持并输送基板基板置器、具有基板置器的夹紧部的载置器保持机构、掩模保持机构、进行基板置器与掩模的相对位置调整的对准机构、在与基板相交的交叉方向上使基板置器移动的移动机构、成膜机构,在夹紧部夹紧基板置器且基板置器的整体与掩模分离开的状态下,对准机构进行相对位置调整,在相对位置调整之后,在基板置器被夹紧的状态下,移动机构使基板置器与掩模接触,在基板置器与掩模接触之后,夹紧部解除对基板置器的夹紧。
  • 装置
  • [发明专利]数字光刻系统的多基板处理-CN201980035940.5在审
  • 赖建华;高嘉宏;王修仁;郭士豪;刘以胜;李世贤;陈庆昌;杨子慧 - 应用材料公司
  • 2019-03-18 - 2021-01-08 - H01L21/027
  • 本文的实施例能够有利地在数字直写式光刻系统中同时处理多个基板。在一个实施例中,一种处理多个基板的方法包括:将多个基板定位在处理系统的基板体上,将基板体定位在多个光学模块下面,独立地对多个基板中的每一者进行水平校准,判定多个基板中的每一者的偏移信息,根据多个基板中每一者的偏移信息产生图案化指令,并使用多个光学模块对多个基板中的每一者进行图案化。处理系统包括:基座、设置在基座上的运动、设置在运动台上的基板体、设置在基座表面上方并与基座表面分离的桥接器、以及设置在桥接器上的多个光学模块。
  • 数字光刻系统多基板处理
  • [实用新型]涂胶显影机吸盘治具-CN201921841294.5有效
  • 陈银培;葛文志;丁宇能;杨巨椽;朱毅;翁钦盛 - 杭州美迪凯光电科技股份有限公司
  • 2019-10-30 - 2020-04-24 - G03F7/16
  • 本实用新型公开了一种涂胶显影机吸盘治具,包括真空吸盘装置,还包括基板具、目标载片,所述的基板具上侧面为承载面、下侧面为吸附面,所述的目标载片设于基板具承载面上,所述基板具上设有多个贯穿承载面、下侧面的通孔,所述的真空吸盘装置与基板具吸附面贴合;所述的基板具面积大于目标载片面积,所述的通孔分布在目标载片与基板具的接触面内;所述的基板具为圆形片,所述的目标载片为方形片;所述的基板具为直径199.7mm、厚度0.7mm的圆形玻璃片,所述目标载片与基板具材质相同。
  • 涂胶显影吸盘
  • [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN200680009019.6无效
  • 高槻浩一 - 东京毅力科创株式会社
  • 2006-07-28 - 2008-03-19 - H01L21/31
  • 本发明提供一种基板处理方法,在基板处理装置的处理室内,将被处理基板置在载置台上,一边利用加热单元通过载置将被处理基板加热至700℃以上的处理温度,一边对被处理基板进行处理,在该基板处理方法中,将被处理基板搬入到处理室中,在将其载置在载置台上的状态下进行第一预加热,直至被处理基板到达规定温度,接着,使载置基板支撑销上升,在将被处理基板保持在该基板支撑销上的状态下进行第二预加热,此后,使基板支撑销下降,将被处理基板置在载置台上
  • 处理方法装置
  • [发明专利]基板输送装置及基板输送方法-CN201110025022.X有效
  • 大塚庆崇;宫崎文宏;中满孝志 - 东京毅力科创株式会社
  • 2011-01-21 - 2011-08-17 - H01L21/683
  • 本发明提供基板输送装置及基板输送方法,在以张的形式1张1张地水平输送被处理基板基板处理装置中缩短了从基板搬入到输送开始的生产节拍时间并提高了生产率。该基板输送装置具有:悬浮用载物,其使被处理基板悬浮;一对导轨,其平行配置在悬浮用载物的左右侧方;多个基板持件,其能分别沿着一对导轨移动,能从下方吸附保持基板的边缘部;对准部件,其相对于被搬入到悬浮用载物基板搬入位置的基板从待机位置到规定位置自由进退,与基板接触而将该基板配置在规定位置;基板支承部件,其在悬浮用载物基板搬入位置处从该基板的下方支承被对准部件配置在规定位置的基板;控制部,其控制基板持件、对准部件及基板支承部件的动作。
  • 输送装置方法

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