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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板处理装置-CN201410679982.1在审
发明人：手岛理惠;矶明典;滨田崇广;坂下健司;西部幸伸;高原龙平 -专利权人：芝浦机械电子株式会社
申请日： 2014-11-24 - 公布日： 2015-06-03 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201410811437.3在审
发明人：宋炳奎;金劲勋;金龙基;申良湜;金苍乭;申昌勋;金恩德 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2014-12-19 - 公布日： 2015-06-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，包括：腔室，该腔室提供内部空间，在该内部空间中，基板通过通道传递，并在基板上执行工艺，并且该腔室具有将气体供应至基板的供应口；以及基座，该基座安装在内部空间中，并且该基座包括对基板进行加热的加热区域和对从供应口供应的气体进行预加热的预加热区域
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201510186031.5在审
发明人：丸山浩二 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够高精度地检测出作为残渣残留在研磨后的基板的被研磨面上的金属膜的基板处理装置。基板处理装置包括：研磨部(3)，对基板的被研磨面进行研磨并去除形成于被研磨面上的金属膜；清洗部(4)，对通过研磨部(3)研磨后的所述基板进行清洗干燥；临时放置台(180)，临时放置在基板通过所述研磨部(3)研磨后临时放置基板。在临时放置台(180)上，设有对基板的被研磨面上残留的金属膜进行检测的传感器(8、9)。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201510170132.3在审
发明人：杉山光德;松下邦政 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-04-10 - 公布日： 2015-10-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置，可提高在对研磨部或清洗部执行测试时的基板的处理效率。CMP装置具有：研磨单元(3)，包含对基板进行研磨的至少一个研磨部；清洗单元(4)，包含对基板进行清洗的至少一个清洗部；装载/卸载单元(2)；输送单元，在研磨单元、清洗单元及装载/卸载单元之间对基板进行输送；以及控制部(5)，对输送单元中的基板的输送进行控制。在研磨单元包含多个研磨部或清洗单元包含多个清洗部时，控制部可对多个研磨部的一部分或多个清洗部的一部分设定测试模式，该测试模式使研磨部或清洗部测试用地动作，使基板输送到未设定测试模式的研磨部或清洗部，并使不同于基板的测试用基板输送到设定了测试模式的研磨部或清洗部
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201410838219.9在审
发明人：饭塚八城;望月祐希 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-03-16 - 公布日： 2015-05-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能不产生异常放电等而高效率地加热各构成构件的基板处理装置。基板处理装置(10)包括能减压的处理室(11)、设于该处理室(11)内的基座(12)、与该基座(12)相对地设于处理室(11)的顶部的簇射头(27)、配置于基座(12)的上表面外周部的聚流环(24)，具有配置在聚流环
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201410612632.3在审
发明人：井上正文;目黑隆义 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2014-11-04 - 公布日： 2015-05-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置有效地抑制对基板处理装置内的基板产生损伤。该基板处理装置具备：对基板进行研磨的研磨单元、对通过研磨单元进行了研磨处理后的基板进行清洗以及干燥的清洗单元、以及在研磨单元以及清洗单元内进行基板的输送的输送单元。另外，基板处理装置具备：计测部(5A)，其按每一基板来计测在研磨单元、清洗单元以及输送单元中的停留时间；以及判定部(5B)，其将由计测部(5A)计测出的停留时间与针对各单元分别独立地设定的设定时间进行比较
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201510633671.6在审
发明人：难波敏光 -专利权人：株式会社思可林集团
申请日： 2015-09-29 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种基板处理装置，能够从处理单元向补充用罐回收处理液，并从补充用罐向供给用罐补充处理液。从供给用罐向处理单元的处理液喷嘴供给处理液，从处理液喷嘴向基板供给处理液。在处理单元使用的使用完的处理液被回收，并有选择地供给至第一以及第二补充用罐。在使用完的处理液向第一补充用罐供给的期间，第二补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第一补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。在使用完的处理液向第二补充用罐供给的期间，第一补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第二补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201410557940.0在审
发明人：闵祥伟;刘伟;乐卫文;张平;王珂;郭威 -专利权人：浙江金徕镀膜有限公司
申请日： 2014-10-20 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种基板处理装置。其包括一承载台板和以及设置在所述承载台板附近的发光元件，所述承载台板至少具有一第一表面，所述第一表面上至少具有一第一承载区域，所述第一承载区域用于承载通过一结合层结合的一第一基板和一第二基板，所述第一基板位于所述第一表面和第二基板之间，所述第一基板至少具有一第一边缘，所述第一承载区域位于所述第一边缘的附近至少具有一开口，所述发光元件用于发出光束，所述光束用于通过所述开口照射到所述第一边缘。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201510409339.1在审
发明人：崔重奉;金性洙;许瓒宁;权五珍 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2016-01-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理装置，所述装置包括：处理容器，所述处理容器的顶端是开放的；基板支撑单元，所述基板支撑单元放置于处理容器中以支撑基板；处理液供应单元，所述处理液供应单元将处理液供应至放置于基板支撑单元上的基板；以及加热单元，所述加热单元放置于基板支撑单元中以加热基板。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201810926316.1在审
发明人：佐藤好友 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-15 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制装置的大型化并且确认基板的周缘部的状态的基板处理装置。实施方式所涉及的基板处理装置具备盒载置部、处理单元、搬送区域以及摄像单元。盒载置部载置用于收容多个基板的盒。处理单元对从盒取出的基板的周缘部进行清洗或蚀刻。搬送区域设置在盒载置部与处理单元之间，用于搬送基板。摄像单元设置于搬送区域，用于拍摄被处理单元进行了处理的基板的上表面和下表面中的一个面的周缘部以及基板的端面。
基板处理单元基板处理装置盒载置部周缘部摄像单元蚀刻多个基板区域设置抑制装置上表面下表面载置清洗收容取出拍摄

[发明专利]基板处理装置-CN201710959865.4在审
发明人：裴庆政;梁惠晶 -专利权人：株式会社科威-艾乐
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本发明公开一种基板处理装置，本发明的基板处理装置包括：提供基板被处理的处理空间的腔体；位于所述腔体内并使所述基板被安置的卡盘(chuck)；可移动地设置在所述腔体内，并在所述卡盘上面涂上涂布液的涂布部件
基板处理装置基板体内可移动地设置处理空间涂布部件涂布液卡盘腔体安置

[发明专利]基板处理装置-CN201810823768.7在审
发明人：任圣淳;田容百;梁斗豪;曹奎泰;赵栽训;金智洙 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于控制基板上的等离子体环境的基板处理装置。基板处理装置包括：工艺腔室，在内部限定处理空间；气体喷射部，设置在所述工艺腔室，并且向所述处理空间供应工艺气体；静电吸盘，在所述工艺腔室与所述气体喷射部相互面对面设置，并包括静电电极，用于在安装于所述工艺腔室上部的基板施加静电力
气体喷射部工艺腔室等离子体环境基板处理装置静电电极静电吸盘静电力电源供应部处理空间施加等离子体电源电流控制电路供应工艺气体面对面设置并联连接控制基板工艺腔供应部室内部基板

[发明专利]基板处理装置-CN201811119082.6在审
发明人：加茂陵贺;小早川亮 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-09-25 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置。抑制微粒的产生，同时限制由处理空间的内压导致的盖体的移动。实施方式的基板处理装置是在高压环境下对基板进行处理的基板处理装置，其具备压力容器、盖体、以及锁定机构。
盖体基板处理装置抵接构件压力容器抵接滚动构件移动机构锁定抵接面内压开口处理空间高压环境密封面相对基板上移动移动封堵开盖

[发明专利]基板处理装置-CN201810969544.7在审
发明人：新崎庸平 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2018-08-23 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：【课题】一种基板处理装置，其可以抑制灰尘飞散并附着于基板表面。【解决方案】一种基板处理装置，其特征在于，包括：辊(51)，其输送基板(11)；中空的轴(52)，其被安装于辊(51)并构成辊(51)的旋转轴；气刀(41)，其对通过辊(51)输送的基板(11)喷射气体61)，其具有形成于轴(52)的第一通孔(53)重叠的第二通孔(64)的同时被外插到轴(52)；外轮(62)，其被配置在轴(52)的外周侧；多个转动体(63)，其介于内轮(61)及外轮(62)之间；吸引装置
基板处理装置内轮通孔外轮灰尘飞散基板表面喷射气体输送基板吸引装置可旋转旋转轴支撑轴中空的转动体附着基板气刀外插外周轴承配置吸引

[发明专利]基板处理装置-CN201610457683.2在审
发明人：金基哲 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2016-06-22 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：基板处理装置可包括第一腔体，其用于执行第一工序，包括第一板与在所述第一板上向上方及下方移动基板的第一顶杆；以及，第二腔体，其用于执行第二工序，包括第二板与在所述第二板上向上方及下方移动所述基板的第二顶杆与所述基板接触的所述第一顶杆的一部分可包括第一接触凸起，与所述基板接触的所述第二顶杆的一部分可包括第二接触凸起。所述第一接触凸起及所述第二接触凸起可接触所述基板的不同部分。本发明的基板处理装置能够防止在腔体内移动基板且在所述腔体之间移送基板期间顶杆反复接触所述基板的同一部分的现象，因此能够有效防止所述基板受损。
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