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- [实用新型]一种光谱仪检测用治具-CN202320723754.4有效
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余开封;李伟东
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2023-04-04
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2023-09-12
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G01N21/25
- 本实用新型公开了一种光谱仪检测用治具，包括底座，所述底座上并排安装设置有多块固定安装板，固定安装板中心分别设置有转轴定位孔，转轴定位孔内转动连接有可调节镀膜片安置架，可调节镀膜片安置架一侧开设有镀膜片安置台，镀膜片安置台上方的可调节镀膜片安置架的侧壁中心开设有透光孔。本实用新型的固定安装板上围绕可调节镀膜片安置架设置有一圈角度刻度，可调节镀膜片安置架上对应设置有刻度指针，可方便通过转轴转动调节以不同入射角度检测光谱；镀膜片安置台表面上贴有一层软垫，便于镀膜片安置防滑，且避免发生摩擦导致检测品有被划伤的风险；可调节镀膜片安置架方便拆装更换，可方便更换适用不同尺寸的镀膜片。
- 一种光谱仪检测用治具
- [实用新型]一种QFN基板剥离治具-CN202222704210.1有效
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朱双信;聂童;苏洲洋
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2022-10-14
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2023-01-31
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B26D7/32
- 本实用新型公开了一种QFN基板剥离治具，包括底座和畚箕盒，畚箕盒底部一端为铰接端，相对的另一端为升降端，畚箕盒底部的铰接端与底座铰接，畚箕盒底部的升降端上固定连接有安装座，底座上对应固定设置有铰接座，铰接座和安装座间设置有伸缩气缸，伸缩气缸一端与铰接座铰接，另一端铰接安装座，畚箕盒上设置有安置QFN基板小颗粒的内槽，畚箕盒上位于内槽外沿一圈内凹设置有铁环安置槽，铁环安置槽与铁环外形配合，畚箕盒上位于铰接端方向的一角设置有倒料口，倒料口连通内槽。本实用新型通过QFN基板剥离治具的中转可以保证QFN基板小颗粒完整倒入收纳盒，增加了工作效率，节省人工劳动力，减少了产品损坏，提升了产品良率。
- 一种qfn剥离
- [实用新型]一种丝印烘干治具-CN202222601916.5有效
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雷紫昂;朱双信;苏洲洋
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2022-09-30
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2023-01-24
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H05K3/00
- 本实用新型公开了一种丝印烘干治具，包括上模板和下模板，下模板上中心设置有产品安置区域，产品安置区域外沿的上、下、左、右四边分别固定设置有限位柱，产品安置区域内中心设置有凸台，产品安置区域分为油墨区和非油墨区，上模板上对应限位柱设置有限位柱孔，上模板上开设在烘干口，上模板和下模板压紧丝印产品合模时，丝印产品的油墨区通过烘干口露出，上模板的烘干口边沿覆盖压紧在丝印产品的非油墨区上。本实用新型不会出现产品翘曲现象，油墨丝印层可以均匀分布，提升了产品的良率；本实用新型的夹具制作便捷，减少了购买了特制烘干机，节省了成本支出。
- 一种丝印烘干
- [实用新型]一种莱宝机晶圆镀膜夹具-CN202222813050.4有效
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万维岩;龚博渊
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2022-10-25
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2023-01-24
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H01L21/687
- 本实用新型公开了一种莱宝机晶圆镀膜夹具，包括夹具基座，夹具基座为中心开孔的环状结构，夹具基座表面中心内凹设置有夹具安置槽，夹具安置槽内安装有多个磁石，夹具安置槽内通过磁石吸附安装有夹具体，夹具体包括可通过磁石吸附的夹具底板和夹具盖板，夹具底板和夹具盖板为环形结构，夹具底板内沿内凹设置有晶圆安置槽，夹具底板外沿上开设有多条排水槽，夹具盖板配合覆盖夹具底板。本实用新型通过夹具底板、夹具盖板和排水槽的设计，减少清洗过程中水在夹具与产品之间堆积从而导致烘不干出现水印红斑等不良，可以在单面镀膜后直接将夹具和产品一起清洗，从而大大减少了在镀膜后制程下夹具以及清洗时候造成了大量惊碎，大大提升了产品良率。
- 一种莱宝机晶圆镀膜夹具
- [实用新型]一种光谱仪衰减器安置夹具-CN202222839968.6有效
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付林东;朱达
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2022-10-27
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2022-12-30
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G01M11/02
- 本实用新型公开了一种光谱仪衰减器安置夹具，包括底座，底座上两侧固定安装有支架，两侧的支架间固定安装有两平行设置的导向柱，两导向柱上连接有可沿导向柱移动调节位置的移动架，移动架上竖直固定设置有支撑架，支撑架上设置有插槽，插槽内插接有衰减器安置架，衰减器安置架包括插板和支撑夹，支撑夹固定连接与插板上，插板与插槽配合插接，支撑夹为M形，M形支撑夹上端中间位置形成有衰减器安置槽，插板上设置有光源入射口，光源入射口位置正对衰减器安置槽。本实用新型便于衰减器安置，在保护衰减器的同时，可调节位置，使入射光源能够被接收器全部接收，避免了由于光源问题影响到光密度检测数据，减少了检测误差，从而稳定检测光密度。
- 一种光谱仪衰减器安置夹具
- [实用新型]一种方形切割平台-CN202221292632.6有效
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苏炜;李飞
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2022-05-27
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2022-09-16
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B32B43/00
- 本实用新型公开了一种方形切割平台，包括基体和基面，基面设置于基体表面，基体外沿一圈包覆基面，基体和基面的截面四边为方形设置，基体外各边分别对应设置有两个突出台面，两个突出台面间形成镂空区，每个突出台面的背面分别固定镶嵌有强磁体，基体突出台面上通过强磁体对应吸附连接有方形铁环。该方形切割平台的基体和基面的截面四边为方形设置，便于进行方形产品切割，切割方形产品时切割台面利用率高，节省辅料；方形铁环与基体突出台面通过强磁体吸附，安装和拆卸方便；突出台面间镂空区的设置，使方形铁环的拆卸和安装对位更为方便，大大提升加工效率。
- 一种方形切割平台
- [发明专利]一种透镜薄膜点胶旋涂一体的涂布工艺-CN202110682838.3有效
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李涛;尚海;雷紫昂
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2021-06-21
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2022-06-03
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B05D7/00
- 本发明公开了一种透镜薄膜点胶旋涂一体的涂布工艺，包括透镜薄膜凹面涂布工艺步骤和薄膜凸面涂布工艺步骤。本发明对透镜的凹面和凸面设计不同的加工工艺，以此来提高产品良率；透镜的凹面旋涂前将透镜根据透镜本身的大小形状摆放夹具上的距离转轴轴心等距的同心圆位置，以此来保证旋涂过程中油墨所受到的力与运动状态是相同的，保证同一批产品凹面涂布的均一性，使用夹具进行涂布，一次性加工多个透镜，提升透镜加工效率；透镜凸面第一面涂布完成后，UV解胶再PLASMA清洗，使用转帖机将透镜旋转180°重新贴敷UV膜，再进行二次涂布，膜厚散差可控制在5nm以内，并且这种涂布手段具有通用性，可根据客户需求对膜厚散差进行精准控制。
- 一种透镜薄膜点胶旋涂一体工艺
- [发明专利]一种颜色膜膜系设计镀膜工艺-CN202111466959.0在审
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翁钦盛;王刚;叶炜昊
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杭州美迪凯光电科技股份有限公司
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2021-12-03
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2022-03-01
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C23C14/04
- 本发明公开了一种颜色膜膜系设计镀膜工艺，其需镀膜的膜层结构包括前膜堆、中间金属层和后膜堆，前膜堆和后膜堆分别由高折射率材料的膜层和低折射率材料的膜层堆叠而成，前膜堆、中间金属层和后膜堆在材料选取后，通过膜系设计模拟软件进行颜色膜膜系设计确定前膜堆、中间金属层和后膜堆的膜层厚度配比，采用镀膜实现膜层结构。本发明采用了金属与氧化物结合，利用金属中间层的吸收特性，可以做到除了需要透过的波段，其余可见光波段均截止，透过率T%1%；由于金属中间层的加入，膜层牢固度的可靠性好，测过90℃水煮90min后用3M胶带拉膜无脱膜，光谱无影响；稳定性好，不存在挥发的问题，可选任意可见光波长位置，成本较低，且价格稳定。
- 一种颜色膜膜系设计镀膜工艺
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