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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]曝光装置和布线图案的制作方法-CN202211088146.7在审
  • 奥山隆志;渡边徹 - 株式会社ORC制作所
  • 2022-09-07 - 2023-09-29 - G03F7/20
  • 本发明提供曝光装置和布线图案的制作方法。在半导体封装制造工艺等中，进行能够抑制吞吐量降低的布线的图案化。在FO‑WLP的曝光工艺中，测定配置在临时的基板(B)上的半导体芯片(SC)之间相对于基准位置的位置偏移量。根据区域内布线图案(AD)的形成位置校正，进行针对区域外布线图案(BD)的形成位置的校正和缩放校正，并且生成圆弧状的补充布线图案(CD)。然后，将校正后的区域内布线图案(AD)、区域外布线图案(BD)、生成的圆弧状的补充布线图案(CD)合成为光栅数据。
  • 曝光装置布线图案制作方法
  • [发明专利]放电灯-CN202211077237.0在审
  • 细木裕介;小平宏 - 株式会社ORC制作所
  • 2022-09-05 - 2023-09-05 - H01J61/52
  • 本发明提供放电灯。在放电灯的电极中，抑制了配置于封入有导热体的密闭空间内的整流体等产生裂纹等。在放电灯(10)的阳极(30)内，形成有密闭空间(50)，封入有在灯点亮时溶融的导热体(M)。并且，将第1板状部件、第2板状部件(40A、40B)层叠而得到的整流体(40)配置于密闭空间(50)内。第1板状部件、第2板状部件(40A、40B)的厚度(T1、T2)不同，使第1板状部件(40A)比第2板状部件(40B)厚。
  • 电灯
  • [发明专利]放电灯-CN202211077190.8在审
  • 细木裕介;冈崎晟大 - 株式会社ORC制作所
  • 2022-09-05 - 2023-08-29 - H01J61/06
  • 本发明提供放电灯。在放电灯的电极中，抑制配置于封入有导热体的密闭空间内的整流体等产生裂纹等。在短弧型的放电灯(10)中，在电极(阳极，30)内形成有密闭空间，封入有在灯点亮时熔融的导热体(M)。并且，在密闭空间(50)内配置有整流体(40)。整流体(40)的截面具有层状的组织。
  • 电灯
  • [发明专利]曝光装置-CN201910149661.3有效
  • 绿川悟;松永真一 - 株式会社ORC制作所
  • 2019-02-28 - 2023-05-16 - G03F7/22
  • 本发明提供曝光装置。构成能够抑制长基板的曲折前行的基板输送系统。在RtoR输送系统能够与曝光载台(15)一起沿着基板输送方向M移动的曝光装置(10’)中，张力辊(36)设置于曝光载台(15)的下游侧。并且，在RtoR输送系统的移动中，张力辊(36)相对于其他的辊而进行位置变动并施加张力，以抑制长基板W1、W2的挠曲。
  • 曝光装置
  • [发明专利]照明光学系统和激光加工装置-CN202211082536.3在审
  • 山贺胜;鹫山裕之 - 株式会社ORC制作所
  • 2022-09-06 - 2023-05-05 - B23K26/70
  • 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。通过透镜的厚度不恒定的透镜阵列而使激光均匀化并防止产生激光损失。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，将z轴设为光轴方向，将与z轴和y轴垂直的方向设为x轴，将与z轴和x轴垂直的方向设为y轴，沿着z轴排列地具有第1透镜阵列和第2透镜阵列，该第1透镜阵列和第2透镜阵列分别具有沿着x轴和y轴中的至少一个方向排列的多个透镜，第1透镜阵列和第2透镜阵列中的一方的透镜的厚度至少在一个方向上不恒定。
  • 照明光学系统激光加工装置
  • [发明专利]照明光学系统和激光加工装置-CN202211087409.2在审
  • 山贺胜;鹫山裕之 - 株式会社ORC制作所
  • 2022-09-07 - 2023-05-05 - B23K26/70
  • 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。能够独立地调整激光光束的不同方向的尺寸。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，采用了如下的结构：所述照明光学系统具有光量均匀化部，该光量均匀化部使激光均匀化，将z轴设为光轴方向，将与z轴和y轴垂直的方向设为x轴，将与z轴和x轴垂直的方向设为y轴，光量均匀化部由第1对和第2对构成，该第1对由沿着z轴排列的2片第1柱面透镜阵列构成，该第2对由沿着z轴排列的2片第2柱面透镜阵列构成，第1柱面透镜阵列在x轴方向上具有透镜作用，第2柱面透镜阵列在y轴方向上具有透镜作用，第1对的第1柱面透镜阵列的第1间隔和第2对的第2柱面透镜阵列的第2间隔中的至少一方可变。
  • 照明光学系统激光加工装置
  • [发明专利]照明光学系统和激光加工装置-CN202211082532.5在审
  • 山贺胜;鹫山裕之 - 株式会社ORC制作所
  • 2022-09-06 - 2023-05-05 - B23K26/70
  • 本发明提供照明光学系统和激光加工装置。能够防止光学元件成为高温，并且能够防止光路长度变长、装置大型化。一种照明光学系统，其将激光向照射面引导，其中，所述照明光学系统具有光量均匀化部，该光量均匀化部使激光均匀，光量均匀化部具有沿着光轴依次排列的第1透镜阵列、第2透镜阵列以及第3透镜阵列，在比第1透镜阵列的焦点靠后的位置设置有第2透镜阵列，使得在第2透镜阵列之后，在到照射面之间的光路上不存在会聚点，第1透镜阵列和第3透镜阵列具有正光焦度，第2透镜阵列具有负光焦度。
  • 照明光学系统激光加工装置
  • [发明专利]曝光装置和曝光方法-CN202110295488.5在审
  • 奥山隆志 - 株式会社ORC制作所
  • 2021-03-19 - 2022-08-30 - G03F7/20
  • 提供曝光装置和曝光方法，即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40)，该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2)，该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1～PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。
  • 曝光装置方法
  • [发明专利]曝光装置-CN201811105201.2有效
  • 田卷纯一;松崎宏行 - 株式会社ORC制作所
  • 2018-09-21 - 2022-04-12 - G03F7/20
  • 本发明提供一种曝光装置。在具有放电灯的曝光装置中，在不损害分辨率的前提下，通过期望的光谱分布的光，对掩膜、光调制元件阵列等进行照明。在具有设置了放电灯(20D)和椭圆镜(20M)的光源部(20)以及照明光学系统(11)的曝光装置(1)中，照明光学系统(11)由光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)构成，并且光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)是从光源部侧起依次配置的。
  • 曝光装置
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