专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]成膜装置-CN202011292113.5有效
  • 关谷任史;木村龙司;新海达也;冈部俊介 - 佳能特机株式会社
  • 2020-11-18 - 2023-03-31 - C23C14/04
  • 本发明的成膜装置具备:容器;所述容器的外部的基座支承体;所述容器内的基板保持件;所述容器内的掩模保持件;基板保持件驱动机构;掩模保持件驱动机构;基板保持件驱动机构支承体,其与所述基座支承体连接;掩模保持件支承体,其与所述基座支承体连接,支承所述掩模保持件;所述基座支承体与所述基板保持件驱动机构之间的振动传递抑制构件;以及对准相机单元,其设置于所述容器的外部且设置于所述掩模保持件支承体,用于测定基板与掩模的相对位置偏移
  • 装置
  • [发明专利]一种保护掩模板的方法-CN201110183453.9无效
  • 周军 - 上海华力微电子有限公司
  • 2011-07-01 - 2012-04-25 - G03F1/48
  • 本发明提供一种保护掩模板的方法,其特征在于,包括以顺序下步骤:将在掩模板上所设置的铬层强酸进行化学钝化处理,形成一层覆盖在铬层上的致密的氧化层;利用化学气相沉积法,沉积一层薄膜覆盖在所述掩模板所包含的衬底上本发明提供的方法有效得阻止铬层进一步的氧化和掩模板上污渍的产生,减少了因掩模板有污渍而造成的损失,在掩模板实际使用时,只需通过化学方法除去表面的氮化硅薄膜层即可。
  • 一种保护模板方法
  • [发明专利]蒸镀掩模及其制造方法-CN202011303002.X有效
  • 山田哲行 - 株式会社日本显示器
  • 2020-11-19 - 2023-09-15 - C23C14/04
  • 本发明提供一种蒸镀掩模及其制造方法。一方式的蒸镀掩模包括设置有多个开口的薄膜状的掩模主体,多个开口各自在掩模主体的厚度方向上从掩模主体的第一面贯穿到第二面,多个开口各自的第一面与第二面之间的侧壁具有45°以上且85°以下的锥形形状的部分。一方式的蒸镀掩模的制造方法中,准备第一基板,在第一基板的第一面上涂敷光致抗蚀剂,包含第一波长和与第一波长不同的第二波长的光来照射光致抗蚀剂的一部分,通过将除曝光的光致抗蚀剂的一部分以外的其他部分去除来形成抗蚀剂图案根据本发明,能够提供具有锥形形状的蒸镀的蒸镀掩模
  • 蒸镀掩模及其制造方法
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN200910009836.7无效
  • 定别当裕康 - 卡西欧计算机株式会社
  • 2009-01-24 - 2009-08-05 - H01L23/522
  • 形成覆盖半导体构成体(2)的外部连接用电极(10a)的上表面的绝缘膜(3或1),在绝缘膜(3或1)上形成掩模金属层(52、61),该掩模金属层(52、61)上形成有平面尺寸比外部连接用电极(10a)的平面尺寸小的开口部将上述掩模金属层(52、65)作为掩模向绝缘膜(3或1)照射激光束,从而在绝缘膜(3或1)上形成到达外部连接用电极(10a)的连接开口部(13)。在绝缘膜(3或1)上形成经由连接开口部(13)与外部连接用电极(10a)连接的布线(21)。
  • 半导体器件及其制造方法

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