[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201510092967.1 申请日: 2015-03-02
公开(公告)号: CN105280720A 公开(公告)日: 2016-01-27
发明(设计)人: 松下宪一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L29/868 分类号: H01L29/868
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的实施方式提供一种可抑制电流及电压的振荡的半导体装置。实施方式的半导体装置包含:半导体衬底,包含第1面、及与第1面对向的第2面;第一p型半导体区域,选择性地设置在第1面侧;第一n型半导体区域,设置在第2面侧;第二n型半导体区域,设置在第一p型半导体区域与第一n型半导体区域之间,且n型杂质浓度比第一n型半导体区域低;第三n型半导体区域,设置在第一p型半导体区域与第二n型半导体区域之间,且n型杂质浓度比第二n型半导体区域低;第四n型半导体区域,设置在第一n型半导体区域与第二n型半导体区域之间,n型杂质浓度比第二n型半导体区域低,且载流子寿命比第三n型半导体区域长;阳极电极;及阴极电极。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于包括:半导体衬底,包含第1面、及与所述第1面对向的第2面;第一p型半导体区域,选择性地设置在所述半导体衬底的所述第1面侧;第一n型半导体区域,设置在所述半导体衬底的所述第2面侧;第二n型半导体区域,设置在所述第一p型半导体区域与所述第一n型半导体区域之间的所述半导体衬底中,且n型杂质浓度比所述第一n型半导体区域低;第三n型半导体区域,设置在所述第一p型半导体区域与所述第二n型半导体区域之间的所述半导体衬底中,且n型杂质浓度比所述第二n型半导体区域低;第四n型半导体区域,设置在所述第一n型半导体区域与所述第二n型半导体区域之间的所述半导体衬底中,n型杂质浓度比所述第二n型半导体区域低,且载流子寿命比所述第三n型半导体区域长;阳极电极,电连接于所述第一p型半导体区域;及阴极电极,电连接于所述第一n型半导体区域。
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  • 不公告发明人 - 如皋市大昌电子有限公司
  • 2017-07-06 - 2017-10-24 - H01L29/868
  • 本发明公开了一种贴片快恢复二极管,包括安装底座、贴片式快恢复二极管本体、连接耳、固定螺丝、第一引脚、导电板、压头、压块、弹性金属片、小型旋紧螺母、第二引脚,所述安装底座顶部开有凹槽,且安装底座的凹槽内置贴片式快恢复二极管本体,所述贴片式快恢复二极管本体底部设有连接耳,所述连接耳上开有安装孔,与现有技术相比,本发明的有益效果是该发明一种贴片快恢复二极管,设计科学合理,本贴片快恢复二极管与电路板之间的安装十分方便,且更换二极管主体时,只需旋动小型旋紧螺母和固定螺丝,即可取出贴片式快恢复二极管主体,而后将新的贴片式快恢复二极管插入安装底座即可,无需拆出电路板,带来不必要的麻烦。
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