专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种贴片式高稳定性的稳压二极管-CN202222263394.2有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-08-27 - 2023-03-28 - H01L29/861
  • 本实用新型公开了一种贴片式高稳定性的稳压二极管,包括半导体基板,所述半导体基板上设有n型半导体层、p型半导体层、接触孔、阳极电极,所述p型半导体层从n型半导体层的表面突出并在n型半导体层的表面与n型半导体层接触,所述接触孔设置在p型半导体层的表面上并穿透p型半导体层到达n型半导体层;所述阳极电极在接触孔的底面与p型半导体层欧姆接触并且与n型半导体层肖特基接触;所述半导体基板上表面设有从上表面向上突出的凸形半导体层,所述p型半导体层设置在凸形半导体层上。优点:具有较高的反向耐压。
  • 一种贴片式高稳定性稳压二极管
  • [实用新型]一种具有稳定击穿电压的稳压二极管-CN202222293586.8有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-08-31 - 2023-03-28 - H01L23/367
  • 本实用新型涉及稳压二极管技术领域,尤其涉及一种具有稳定击穿电压的稳压二极管。其包括上壳体、下壳体和稳压二极管本体,所述下壳体内设有放置架,所述放置架上开设有放置槽,所述稳压二极管本体放置在放置槽上,所述稳压二极管本体的外侧设有陶瓷外壳,所述陶瓷外壳与稳压二极管本体之间填充有绝缘层,所述下壳体和上壳体通过连接组件连接固定,所述连接组件包括插杆和连接块,所述插杆固定连接在上壳体上,所述连接块固定连接在下壳体上,所述连接块上开设有与插杆相匹配的插槽,所述下壳体上设有规定插杆和连接块的固定结构,所述上壳体上设有限位结构。本实用新型可以有效对稳压二极管进行固定,且方便安装和拆卸,提高稳定性,便于使用。
  • 一种具有稳定击穿电压稳压二极管
  • [实用新型]一种硅片矫正轴的顶升机构-CN202221529784.3有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-06-17 - 2022-10-18 - H01L21/687
  • 本实用新型提供了一种硅片矫正轴的顶升机构,包括转动设置的摆动架、转动设置在所述摆动架的一侧的旋转轴、固设于所述旋转轴上的顶升块以及转动设置在所述摆动架上的矫正轴;所述顶升块位于所述摆动架的下方,所述旋转轴在转动时带动所述顶升块驱使所述矫正轴和摆动架一起升降。本实用新型的优点在于:通过采用本实用新型的顶升机构能够很好地实现对矫正轴的位置进行升降调节,从而使得矫正轴能够带动硅片进行旋转实现位置矫正。
  • 一种硅片矫正机构
  • [实用新型]一种盛放硅片的石英舟-CN202221530269.7有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-06-17 - 2022-10-18 - H01L21/673
  • 本实用新型提供了一种盛放硅片的石英舟,包括石英舟本体;所述石英舟本体的内部形成有硅片放置腔室,所述硅片放置腔室在两侧的腔壁上形成有硅片插槽;所述硅片插槽的整体高度大于等于硅片在竖直放置时的高度。本实用新型的优点在于:通过在硅片放置腔室的腔壁形成多个硅片插槽,并使硅片插槽的整体高度大于等于硅片在竖直放置时的高度,使得在将硅片放置到硅片放置腔室的硅片插槽内后,整个硅片可以处在石英舟本体的内部,因此石英舟本体可以对硅片起到很好的保护作用,确保硅片在周转的过程中不会被碰撞损坏。
  • 一种盛放硅片石英
  • [实用新型]一种硅片的位置矫正装置-CN202221530400.X有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-06-17 - 2022-10-18 - H01L21/68
  • 本实用新型提供了一种硅片的位置矫正装置,包括支撑底座、转动设置在所述支撑底座上的摆动架、转动设置在所述摆动架上的矫正轴以及转动设置在所述支撑底座的顶升块;所述顶升块位于所述摆动架的下方,且通过转动所述顶升块带动所述矫正轴和摆动架一起升降;所述支撑底座的顶部在所述摆动架的两侧设有用于放置石英舟的石英舟放置槽,且通过转动所述矫正轴实现对石英舟内的硅片进行矫正。本实用新型的优点在于:能够方便对石英舟内的硅片进行位置矫正,使得石英舟内硅片的水平部都朝向上方位置,从而能够方便对硅片进行夹取操作,避免在夹取的过程中对硅片造成损坏。
  • 一种硅片位置矫正装置
  • [实用新型]一种硅片的导片块-CN202221228625.X有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-05-18 - 2022-10-18 - H01L21/677
  • 本实用新型提供了一种硅片的导片块,包括导片块本体;导片块本体具有顶面和底面,顶面沿着长度方向均布有一排第一硅片夹持槽;底面的前部沿着长度方向均布有一排第二硅片夹持槽,底面的后部沿着长度方向均布有一排第三硅片夹持槽;第二硅片夹持槽与第三硅片夹持槽相互错开设置;每个第二硅片夹持槽均与一个第一硅片夹持槽上下对齐设置,每个第三硅片夹持槽均与一个第一硅片夹持槽上下对齐设置。本实用新型的优点在于:通过采用本实用新型的导片块,能够很好地对硅片进行分片导片或者合片导片,从而有助于实现硅片的自动周转。
  • 一种硅片导片块
  • [实用新型]一种管式扩散炉的气体导向装置-CN202221231436.8有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-05-18 - 2022-10-18 - F27D7/02
  • 本实用新型提供了一种管式扩散炉的气体导向装置,包括设置在管式扩散炉的进气端内的导向盘本体,所述导向盘本体的外缘与管式扩散炉的内壁相接触;所述导向盘本体上开设有气体导向通孔。本实用新型的优点在于:通过在管式扩散炉的进气端内设置导向盘本体,并在导向盘本体上开设气体导向通孔,使得在具体使用时,可以利用导向盘本体上的气体导向通孔对通入的工艺气体进行导向,使工艺气体能够在管式扩散炉内均匀地扩散,从而保证硅片的扩散效果。
  • 一种扩散气体导向装置
  • [实用新型]一种硅片的分合片导片装置-CN202221232969.8有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-05-18 - 2022-10-18 - H01L21/677
  • 本实用新型提供了一种硅片的分合片导片装置,包括相向设置的两个导片块本体以及两个第一驱动机构;每个第一驱动机构均与一个导片块本体相连接,分合片时通过第一驱动机构驱使导片块本体进行旋转;导片块本体具有顶面和底面,顶面沿着长度方向均布有一排第一硅片夹持槽;底面的前部沿着长度方向均布有一排第二硅片夹持槽,底面的后部沿着长度方向均布有一排第三硅片夹持槽;第二硅片夹持槽与第三硅片夹持槽相互错开设置。本实用新型的优点在于:可以有效降低工作人员的劳动强度和减少人工成本投入,并且能够极大地提升生产效率,可以满足大规模生产需求;能够有效避免在夹持周转的过程中对硅片造成损坏,可以保证生产出的硅片的质量。
  • 一种硅片分合片导片装置
  • [实用新型]一种用于硅片清洗的升降机构-CN202221327586.9有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-05-30 - 2022-10-18 - B08B13/00
  • 本实用新型提供了一种用于硅片清洗的升降机构,包括载物台本体、连接架、吊挂件以及提拉部件;所述连接架与所述载物台本体固定连接,所述吊挂件与所述提拉部件的活动端固定连接;所述提拉部件固设于所述连接架的上方,且所述连接架的上端吊挂在所述吊挂件上;所述载物台本体上形成有至少两个石英舟放置槽。本实用新型的优点在于:通过升降机构替代人工带动载物台本体内的硅片进行清洗,操作起来更加简单、方便,能够有效降低工作人员的疲劳度;同时在载物台本体上设置有至少两个石英舟放置槽,可以利用载物台本体搭载多个盛放有硅片的石英舟进行同时清洗,从而可以提升清洗效率。
  • 一种用于硅片清洗升降机构
  • [实用新型]一种硅片腐蚀清洗的扰动机构-CN202221327697.X有效
  • 黄赛琴;黄福仁;陈轮兴 - 福建安特微电子有限公司
  • 2022-05-30 - 2022-10-18 - B08B3/04
  • 本实用新型提供了一种硅片腐蚀清洗的扰动机构,包括扰动轴本体以及与所述扰动轴本体的一端相连接用于驱使所述扰动轴本体进行旋转的驱动部件;所述扰动轴本体的轴向顶部形成有第一平面,所述扰动轴本体的轴向底部形成有第二平面;所述扰动轴本体的一侧形成有第一弧形凸面。本实用新型的优点在于:通过驱动部件驱使扰动轴本体不断的旋转,可以带动硅片不停地进行上下运动,使硅片不再处于静止状态,从而可以提升对硅片的清洗效果。
  • 一种硅片腐蚀清洗扰动机构

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