专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]用于制造声表面波滤波器的通用掩模版-CN202223489159.3有效
  • 许欣;吴旭 - 广东广纳芯科技有限公司
  • 2022-12-26 - 2023-08-04 - G03F1/50
  • 本实用新型涉及一种用于制造声表面波滤波器的通用掩模版,所述通用掩模版包括至少一个曝光区,所述至少一个曝光区的每个曝光区包括至少一个掩模版单元,所述至少一个掩模版单元的每个掩模版单元中的开窗的面积被设置为,以使得利用所述通用掩模版进行光刻工艺所得到的所述声表面波滤波器的开窗层的开孔的面积满足具有相同尺寸的至少两种所述声表面波滤波器所需要的植球区域的面积的要求,所述至少一个掩模版单元的每个掩模版单元中的开窗的数量和位置被设置为,以使得利用所述通用掩模版进行光刻工艺所得到的所述声表面波滤波器的开窗层的开孔的数量和位置满足具有相同尺寸的至少两种所述声表面波滤波器所需要的植球区域的数量和位置的要求。
  • 用于制造表面波滤波器通用模版
  • [实用新型]一种功率半导体掩模版清洗的批量传输装置-CN202223403501.3有效
  • 黄执祥;王栋 - 深圳市龙图光罩股份有限公司
  • 2022-12-19 - 2023-06-30 - B08B3/02
  • 一种功率半导体掩模版清洗的批量传输装置,包括结构板有两个且两个结构板间隔设置,每一结构板上设置挂钩;底卡尺有至少一个,底卡尺设置在两个所述结构板之间靠近下部的位置,底卡尺具的顶面具有用于由底部定位掩模版的若干个第一卡槽;侧卡尺有两个,两个侧卡尺设置在结构板之间,且两个侧卡尺分别设置在底卡尺左右两侧且位于底卡尺的上方,侧卡尺的内侧具有用于由掩模版侧面边缘定位掩模版的若干第二卡槽,第一卡槽和第二卡槽数量相同且位置逐一匹配本掩模版清洗的批量传输装置通过侧卡尺和底卡尺的配合,可通过第一卡槽和第二卡槽一次性稳定加装多片掩模版,掩模版侧面和底面均被限位,在掩模版清洗的过程中掩模版的位置稳定。
  • 一种功率半导体模版清洗批量传输装置
  • [发明专利]一种纳米压印用模版的制备及其应用-CN201110404116.8无效
  • 宋玉军 - 北京航空航天大学
  • 2011-12-07 - 2012-05-02 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种纳米压印用模版的制备及其应用,属于先进材料及纳米结构加工技术领域。制备纳米压印用模版的方法包括制备纳米柱与表面支撑层;在另外一基板上制备过渡层;将过渡层和表面支撑层粘接牢固;将多孔纳米氧化铝模版腐蚀掉,形成具有规则的突出的纳米柱结构的纳米压印用模版的步骤。本发明的纳米压印用模版的特征尺寸可以小到5纳米,使用该模版可以低成本、大批量制备大面积无缺陷的规则排列的具有不同横截面形状的纳米线或纳米管。
  • 一种纳米压印模版制备及其应用
  • [发明专利]模版-CN202211031768.6在审
  • 臧公正 - 昆山国显光电有限公司
  • 2022-08-26 - 2022-11-11 - C23C14/04
  • 本申请公开了一种掩模版。该掩模版包括框架和至少一个掩模条,掩模条与框架沿掩模版的厚度方向焊接;掩模条包括第一凹部,第一凹部设置于掩模条沿厚度方向背离框架的一端,掩模条和框架焊接形成的焊点收容于第一凹部。根据本申请实施例提供的掩模版,能够使得待加工件和掩模版之间受力均匀,在一定程度上减小或避免蒸镀过程中待加工件出现破损。
  • 模版

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