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[发明专利]一种光波导基于视场角在K域的计算方法及衍射光波导-CN202211364344.1有效
发明人：徐王仙;史瑞;李惠达;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2022-11-02 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光波导基于视场角在K域的计算方法及衍射光波导，获取入射光波在衍射光波导内传播的K域边界，确定K域图；获取入射光波投影在K域图中的初始视场；根据初始视场、K域边界和入射光波在入射光栅中的衍射参量，确定入射光波的耦入视场角；根据耦入视场角、K域边界和入射光波在中继光栅中的衍射参量，确定入射光波的中继视场角；根据中继视场角、K域边界和入射光波在耦出光栅中的衍射参量，确定入射光波经耦出光栅耦出衍射光波导基底后的耦出视场角，对衍射光波导的K域图可视化分析，利用衍射光波导的基底边界，集合算法得出衍射光波导的K域图，利用该方法纠正了K域图误差，提高了视场角在K域图中的计算精度。
一种波导基于视场计算方法衍射

[发明专利]一种衍射光波导和增强现实显示设备-CN202311059225.X在审
发明人：史瑞;李惠达;朱海萍;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-08-21 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种衍射光波导和增强现实显示设备。该衍射光波导中包括波导基底和网状光栅阵列，波导基底中包括耦入光栅区域和耦出光栅区域；网状光栅阵列位于波导基底的耦出光栅区域；网状光栅阵列包括多个主体光栅以及连接相邻的主体光栅的连接结构，多个主体光栅分别沿第一方向和第二方向呈阵列排布，第一方向和第二方向平行波导基底所在平面且相交。本发明实施例解决了现有衍射光波导整体显示均匀性差、厚度较厚且耦出尺寸较小的问题，能够改善衍射光波导的整体显示均匀性，实现薄厚度、大耦出尺寸的衍射光波导，从而便于应用在AR眼镜和AR‑HUD等增强现实显示设备中。
一种衍射波导增强现实显示设备

[发明专利]一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构-CN202311056140.6在审
发明人：杨雨帆;陈振浩;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-08-21 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构。双面图形结构的制备方法包括：提供衬底；衬底包括相对设置的第一表面和第二表面；在衬底的第一表面形成第一图形结构；在第一图形结构背离衬底的一侧制备保护层；在衬底的第二表面形成第二图形结构；去除保护层，形成双面图形结构。采用上述方法，可避免第一表面制备好的第一图形结构受到污染，同时避免第一图形结构出现变形和破损等问题，保证第一图形结构和第二图形结构的制备效果，进而提升双面图形结构的成品效果。
一种双面图形结构制备方法

[发明专利]一种光刻遮罩及其制备方法、光刻装置和光刻方法-CN202310731018.8在审
发明人：肖根音;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-06-20 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F1/54 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻遮罩及其制备方法、光刻装置和光刻方法，其中，光刻遮罩包括：遮罩薄片和透明基体，遮罩薄片包括多个第一定位孔，透明基体包括与第一定位孔数量相适应的多个第二定位孔，第一定位孔和第二定位孔位置相对应，以定位遮罩薄片在透明基体上的位置；还包括：透明粘合剂，透明粘合剂涂覆于透明基体或遮罩薄片上，用于透明基体与遮罩薄片的粘合固定；其中，遮罩薄片设置有镂空的第一图形，透明基体设置有与第一图形形状相同且位置对应的镂空的第二图形，第一图形的轮廓线位于第二图形的轮廓线以内，第一图形的形状为曝光图形的外轮廓线形成的形状。从而，可以保证薄片表面平整和光滑，并且不会轻易刮伤光刻板。
一种光刻及其制备方法装置

[发明专利]一种光栅的制备方法、衍射光波导和增强现实设备-CN202310878405.4在审
发明人：陈振浩;王彦博;赖东祥;朱海萍;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种光栅的制备方法、衍射光波导和增强现实设备，方法包括：提供一衬底；在衬底上形成硬质掩膜层；在硬质掩膜层上形成第二膜层；在第二膜层上涂覆光刻胶层；对光刻胶层进行曝光、显影，形成第一图形掩膜层；并基于其对第二膜层进行刻蚀，将第一图形转移至第二膜层上，形成第二图形掩膜层；并基于其对硬质掩膜层进行刻蚀，将第二图形转移至硬质掩膜层上，形成第三图形掩膜层；并基于其对衬底进行刻蚀，将第三图形转移至衬底上；第二膜层与硬质掩膜层的刻蚀选择比小于1，第二膜层与光刻胶层的刻蚀选择比小于1。通过控制第二膜层与上下膜层的刻蚀选择比，来控制刻蚀的速率，在衬底上形成占空比较大的图形，降低了光刻难度和成本。
一种光栅制备方法衍射波导增强现实设备

[实用新型]一种用于体全息光波导光栅曝光的加工系统及体全息光栅-CN202321011044.5有效
发明人：肖根音;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G02B6/136 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于体全息光波导光栅曝光的加工系统及体全息光栅，包括支撑主件、光源组件、晶圆固定组件和运动组件；支撑主件的支撑杆分别与平衡面板固定连接，用于支撑平衡面板；平衡面板包括通孔；光源组件位于平衡面板的下方，运动组件位于平衡面板的上表面，晶圆固定组件固定在通孔内；晶圆固定组件包括至少三个支撑板；支撑板用于固定曝光母版；运动组件包括至少沿两种方向移动的机械轴和至少两个吸盘，吸盘与机械轴固定连接，吸盘用于吸附液晶盒，机械轴用于移动液晶盒至曝光母版的表面，该加工系统，曝光母版利用率高，光栅制作效率高，大大降低了工艺难度，有利于大量生产，满足多样化光栅组合的研究、验证和应用。
一种用于全息波导光栅曝光加工系统

[发明专利]一种衍射波导模板的制备方法、制备装置及衍射波导模板-CN202310737005.1在审
发明人：陈振浩;王彦博;赖东祥;朱海萍;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-06-20 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种衍射波导模板的制备方法、制备装置及衍射波导模板，该制备方法包括多个制备周期，各制备周期中所采用的掩膜版相同或不同，至少部分制备周期中所采用的遮挡板不同；在任意一个制备周期中，制备方法包括：相对一个掩膜版，分别调整衬底和一个遮挡板的位置和/或旋转角度，以使掩膜版上的光栅掩膜结构在衬底上的投影呈预设旋转角度，以及使遮挡板的透光区在衬底上的投影与衬底上的预设光栅区域重合；利用掩膜版和遮挡板，对衬底进行光刻，在预设光栅区域形成光栅。利用上述方法，有效解决了现有的因掩膜版上的光栅区域排布和轮廓形状固定而导致的针对不同光学设计需重新定制掩膜版的问题。
一种衍射波导模板制备方法装置

[发明专利]一种用于VR显示的光波导器件-CN202310414243.9在审
发明人：史瑞;李惠达;朱海萍;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-04-17 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种提供了一种用于VR显示的光波导器件，该光波导器件包括波导基底和多个光栅区域，设置光栅区域位于波导基底的一侧表面，光栅区域包括耦出区域，光栅区域采用反射式光栅和/或透射式光栅，当光栅区域采用反射式光栅，至少在耦出区域的反射式光栅的表面设置第一反射结构，以避免外界环境光由反射式光栅进入波导基底；当光栅区域采用透射式光栅，至少在耦出区域对应的无光栅结构的表面设置第二反射结构，可以有效避免环境光对图形显示的干扰，防止漏光，提高视场角，从而提高VR显示效果。
一种用于 vr 显示波导器件

[发明专利]一种缺陷检测方法、装置、设备以及存储介质-CN202310592192.9在审
发明人：江梦江;王欣欣;史瑞;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明公开了一种缺陷检测方法、装置、设备以及存储介质。该方法包括：基于预设步长控制相机运动，对待测样品的表面进行拍摄，以获取至少两张目标局部图片；采用先缺陷检测后拼接的方式，对至少两张目标局部图片进行处理，生成对待测样品的第一缺陷检测结果；采用先拼接后缺陷检测的方式，对至少两张目标局部图片进行处理，生成对待测样品的第二缺陷检测结果；根据第一缺陷检测结果和第二缺陷检测结果，生成对待测样品的最终缺陷检测结果。本发明的技术方案，可以结合先缺陷检测后拼接，以及先拼接后缺陷检测的两种缺陷检测的方式进行缺陷检测，可以在不影响缺陷检测准确性的情况下降低对计算机运行内存的依赖，提高缺陷检测的效率。
一种缺陷检测方法装置设备以及存储介质

[发明专利]一种衍射光波导及其设计方法-CN202310633156.2在审
发明人：史瑞;徐王仙;李惠达;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种衍射光波导及其设计方法，该设计方法包括根据用户视图参数，计算第二光栅区域的有效尺寸；在K域图中，获取入射光线经第一光栅区域耦入波导基底后的耦入视野平面坐标；在第一光栅区域所在的平面内，以第一光栅区域的中心为原点，根据耦入视野平面坐标以及第一光栅区域的有效直径，建立入射光线在波导基底内衍射传输的第一有效衍射区域；根据第一有效衍射区域和第二光栅区域的有效尺寸，确定第二光栅区域的有效位置。对衍射光波导的K域图可视化分析，利用K域图中光线传输的计算可较准确计算出波导光栅的布局方式与设计角度，便于波导设计者在设计光栅布局提供准确参考依据，具有操作简单，计算速度快等特点。
一种衍射波导及其设计方法

[发明专利]一种二维光栅制备方法及二维光栅-CN202310501024.4在审
发明人：陈振浩;赖东祥;王彦博;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-05-05 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开一种二维光栅制备方法及二维光栅，本发明采用光刻工艺，对衬底进行刻蚀，在衬底上形成二维光栅图形。其中，二维光栅图形由掩模版至少曝光两次形成，每次曝光时，掩模版具有不同的曝光角度。示例性的，在本发明实施例中，至少两次曝光采用同一掩模版进行曝光，通过调整掩模版或衬底的角度，实现不同的曝光角度，如此，可以降低掩模版的设计难度，且通过调整曝光角度，可以形成不同形状的二维光栅图形，自由度较高，无需频繁地设计和制备掩模版，降低了掩模版的设计和制备成本。
一种二维光栅制备方法

[发明专利]一种体全息光波导光栅的曝光方法及曝光光路、曝光系统-CN202310479001.8在审
发明人：李惠达;史瑞;肖根音;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种体全息光波导光栅的曝光方法及曝光光路、曝光系统，采用体全息光波导光栅的曝光系统进行曝光，曝光方法对液晶盒上的至少两个间隔的待曝光区域进行曝光，曝光方法包括：获取液晶盒上待曝光区域的位置信息以以及光栅方向信息；基于位置信息以及光栅方向信息，调整液晶盒与遮光板的相对位置，以使待曝光区域位于遮光板的通光孔内，且使得液晶盒的参考方向与曝光模板上的光栅方向满足预设角度关系；根据液晶盒内的材料特性以及待曝光区域内的光栅参数信息，控制曝光光束的曝光参数，对待曝光区域进行曝光，在待曝光区域内形成光栅。仅使用一条光路对多个光栅区域进行曝光，曝光光路具有搭建方便，校准精确，曝光快速的特点。
一种全息波导光栅曝光方法系统

[发明专利]一种纳米压印用拼版模版的制备方法-CN202310114480.3在审
发明人：胡庆文;史瑞;史瑞城;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种纳米压印用拼版模版的制备方法，包括：提供模版框架和至少两个单元模版，所述模版框架中包含至少两个子框架；所述单元模版上设有预置图案；将所述单元模版填充进所述子框架中，得到整版模版；将所述整版模版压印在待压印模版上，得到拼版模版。采用上述技术方案，能够实现制备大面积的纳米压印用拼版模版，能够提高制备效率，节约生产成本。
一种纳米压印拼版模版制备方法

[发明专利]一种纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法-CN201910721247.5有效
发明人：李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2019-08-06 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种纳米压印模板、其制备方法及纳米压印方法。所述纳米压印模板包括功能区和非功能区；所述非功能区分为第一非功能区和第二非功能区，所述第一非功能区围绕所述功能区并与所述功能区相邻，所述非功能区上除去第一非功能区的区域为第二非功能区；所述第一非功能区的高度高于所述功能区和所述第二非功能区的高度。所述纳米压印模板是在现有的纳米压印凹模板的基础上进行整形得到。相较于现有的纳米压印凹模板，本发明提供的纳米压印模板在保证模板强度的同时，能够降低压印压力，提高图案转移质量，提高压印良率，延长模板寿命。
一种纳米压印模板制备方法

[发明专利]一种基于单镜头的双目合像方法、光学模组及头显设备-CN202211586810.0在审
发明人：徐王仙;史瑞;李晓军 -专利权人： 广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H04N13/344 文献下载
摘要：本发明公开一种基于单镜头的双目合像方法、光学模组及头显设备。该方法采用单镜头摄像设备的远景、暗场模式拍摄待组装光学模组中左波导片、右波导片显示的图像，获得具有左波导片所显示图像的至少部分图像和右波导片所显示图像的至少部分图像的一张目标图片；获取所述目标图片中左波导片所显示图像的至少部分图像和右波导片所显示图像的至少部分图像的位移值和角度值；计算所述位移值和角度值与参考的位移值和角度值的差值；根据所述差值调整左光机和/或右光机进行双目合像。本发明的误差较小，可获得更高精度和质量的双目合像，并且，采用单镜头进行双目合像，结构简单，成本低。
一种基于镜头双目方法光学模组设备

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