专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果5552个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]条码模版获取方法及医学病历管理设备-CN201710773887.1在审
  • 徐大林;冯崇;甘明武;穆朋选;曲杰 - 武汉联影医疗科技有限公司
  • 2017-08-31 - 2017-11-21 - G06F19/00
  • 本发明实施例提供了一种条码模版获取方法及医学病历管理设备。本发明实施例通过响应于条码模版配置指令,在当前界面上显示条码模版编辑界面和可配置的打印项界面,在条码模版编辑界面中指定位置显示预览区域,响应于从可配置的打印项界面拖动第一指定打印项的标签至预览区域上的操作指令,在预览区域上添加第一指定打印项,根据预览区域和预览区域上的有效打印项,生成条码模版,利用预览区域展示条码模版,使用拖动打印项标签的方式,在条码模版上配置打印项,方便快捷,需要的处理时间较少,因此提高了处理效率,在一定程度上解决了现有技术中获取条码模版的方案需要的处理时间较多,导致处理效率较低的问题。
  • 条码模版获取方法医学病历管理设备
  • [发明专利]一种大数据清洗配置式字段解析方法-CN202011050140.1在审
  • 任毅 - 成都商通数治科技有限公司
  • 2020-09-29 - 2021-01-05 - G06F40/186
  • 本发明公开了一种大数据清洗配置式字段解析方法,包括如下具体步骤:S1、设置文件的类型ID,用户通过excel模版的数据设置文件的类型ID,每一个字段对应的数据类型可为字符串、整形、浮点数;S2、建立程序配置文件目录,将设置文件的类型ID上传到程序配置文件目录;S3、模版数据清洗,当用户进行模版数据清洗时,上传excel模版并选择模版类型的ID;S4、字段解析,清洗程序根据数据来源,模版ID会自动调用响应的解析配置对应的字段进行解析通过excel模版的数据设置文件的类型ID,ID上传到程序配置文件目录,清洗程序根据数据来源,模版ID会自动调用响应的解析配置对应的字段进行解析,进而减少了工作人员的工作量。
  • 一种数据清洗配置字段解析方法
  • [发明专利]模版及其修正方法-CN202210279764.3在审
  • 陈维邦;郑志成 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2022-03-22 - 2022-04-19 - G03F1/76
  • 本发明提供一种掩模版及其修正方法。所述掩模版的修正方法包括提供掩模版,掩模版中形成有多个栅极图案,其中,多个栅极图案包括设计间距小于设定值的第一栅极图案和第二栅极图案,且第一栅极图案和第二栅极图案位置相对,在对掩模版进行图案修正时,将第一栅极图案靠近第二栅极图案的部分边界沿远离第二栅极图案的方向外移利用该掩模版制作栅极时,各个栅极图案对应一栅极,且设计间距小于设定值的第一栅极图案和第二栅极图案对应的栅极的形状更接近设计形状且不容易相互接触,进而可以改善栅极之间的短路问题,提高半导体器件的电性能。本发明还提供一种通过上述的掩模版的修正方法修正的掩模版
  • 模版及其修正方法
  • [发明专利]焊膏珠回收系统及方法-CN202080056656.9在审
  • 威廉·A·洛西维奇;马修·F·舒马赫;布鲁斯·C·西顿;肯尼斯·J·金 - 伊利诺斯工具制品有限公司
  • 2020-06-11 - 2022-06-03 - B41F15/42
  • 一种模版印刷机被配置成在电子基板上印刷装配材料。该模版印刷机包括:机架;联接到该机架的模版;联接到该机架的支撑组件;以及联接到该机架的印刷头门架。该印刷头门架包括:沿着该机架上设置的轨道跨设的长形梁;以及印刷头组件,该印刷头组件由该印刷头门架支撑,其方式使得该印刷头组件被配置成在印刷行程期间横越模版。该印刷头组件包括印刷头,该印刷头具有被配置成使焊膏沿着该模版滚动的刮刀刀片组件。该模版印刷机进一步包括焊膏珠回收系统,该焊膏珠回收系统被配置成从该模版的顶表面上去除焊膏珠并且将该焊膏珠沉积到新的更换用模版上。
  • 焊膏珠回收系统方法
  • [发明专利]一种浸没式超分辨光刻方法-CN202211702747.2在审
  • 罗先刚;罗云飞;刘凯鹏;赵泽宇;高平;王长涛 - 中国科学院光电技术研究所
  • 2022-12-28 - 2023-03-28 - G03F7/20
  • 本公开提供一种浸没式超分辨光刻方法,包括:在基底上制备依次叠设的反射金属层、感光层及表层金属层;选择包括图形区和非图形区的光刻掩模版,光刻掩模版的非图形区形成有导液槽;将光刻掩模版置于表层金属层上方,在表层金属层与光刻掩模版之间填充浸没液体,调节光刻掩模版与表层金属层之间的间隙距离至预定间隙范围内,其中,多余的浸没液体通过导液槽导出;基于光刻掩模版对感光层进行超分辨光刻,显影得到超分辨光刻图形结构。该浸没式超分辨光刻方法通过在光刻掩模版与成像结构之间引入浸没液体,能够提高光刻掩模版与成像结构之间传输介质的折射率,进而能够提高光刻图形的对比度和分辨率。
  • 一种浸没分辨光刻方法
  • [发明专利]模版及其制作方法-CN201810523448.X有效
  • 张继帅;黄秀颀;叶訢;李伟丽 - 昆山国显光电有限公司
  • 2018-05-28 - 2020-06-16 - C23C14/04
  • 本发明涉及掩模版及其制作方法,该掩模版包括具有多个镂空孔的开孔区、用于夹持掩模版的夹持区以及位于所述开孔区与所述夹持区之间的应力缓冲区,应力缓冲区包括至少一个凸部和至少一个凹部,并且凸部和凹部一一对应地设置于掩模版的相对的两个表面在对该掩模版的张网过程中,在应力缓冲区形成的凸部和凹部有助于减小该区域的应力,并且使掩模版上的应力分布更均匀,可以提高掩模版的抵抗变形能力,在相同张网拉力下掩模版的下垂量有所减小,因此有助于提高像素位置精度
  • 模版及其制作方法
  • [发明专利]指纹识别方法和装置-CN201610210599.0有效
  • 纪传舜;杜慧;王强 - 北京小米移动软件有限公司
  • 2016-04-06 - 2020-10-13 - G06K9/00
  • 所述方法包括:获取识别记录,识别记录用于指示每次指纹识别时,预先存储的至少两个指纹模版中与输入指纹匹配成功的指纹模版,根据历史记录对至少两个指纹模版进行重新排序,在接收到新的输入指纹时,按照重新排序后的至少两个指纹模版的排列顺序,将新的输入指纹与至少两个指纹模版依次进行匹配,根据历史匹配成功的情况对指纹模版进行匹配,可以将常用或者最近使用的指纹模版排在最前面,使得后续指纹识别时优先匹配最近或者最常使用的指纹模版,从而达到节约指纹模板匹配所用的时间
  • 指纹识别方法装置
  • [发明专利]一种椭球面螺旋曲面仿形机构及其控制方法-CN201710854839.5有效
  • 顾立志;迟岩;蔡宏伟;陈伟欣;武星 - 厦门华天涉外职业技术学院
  • 2017-09-20 - 2020-09-29 - B23D79/00
  • 本发明提供一种椭球面螺旋曲面仿形机构,包括杠杆缩放单元、杠杆反向拨动单元、模版椭球运动单元和工作制件坯体运动单元;所述模版椭球运动单元包括模版椭球和轴向限位滚动体组件,所述轴向限位滚动体组件与所述模版椭球抵接;所述模版椭球具有第一轴线,所述模版椭球可绕所述第一轴线旋转的同时在所述轴向限位滚动体组件的作用下沿所述第一轴线直线运动;所述工作制件坯体运动单元包括工作制件坯体,所述工作制件坯体具有与所述第一轴线平行的第二轴线,所述工作制件坯体可绕所述第二轴线旋转的同时沿所述第二轴线直线运动,所述工作制件坯体的旋转与所述模版椭球的旋转同步,能够使模版椭球的形态复映到工作端,实现精确仿形。
  • 一种椭球螺旋曲面机构及其控制方法
  • [发明专利]一种保持脸型不变的图像换脸方法-CN202110415546.3有效
  • 卢闰霆;阳文兵;马文广;马伟;李冰;赵金 - 金科智融科技(珠海)有限公司;北京工业大学
  • 2021-04-19 - 2022-09-20 - G06T3/00
  • 本发明获取模版图像,对模版图像进行预处理。获取用户图像,通过人脸对齐网络,获得对齐用户人脸图像。通过仿射变换将用户人脸轮廓与模版人脸轮廓对齐。然后通过点对点肤色变换,将用户人脸肤色转换为模版人脸肤色,再通过仿射变换将用户人脸轮廓转换为原来的轮廓,得到肤色转换后的用户人脸。然后将肤色转换后的用户人脸与模版肤色图像进行柏松融合,再将模版额头与其柏松融合。最后通过修正后的用户人脸掩膜将融合后的用户人脸抠出,将抠出的用户人脸粘贴到瘦脸后的模版图像,再粘贴上模版头发,对粘贴后的边缘做平滑处理后得到最终结果。本发明使得换脸后的人脸与用户人脸具有高度相似性。
  • 一种保持脸型不变图像方法
  • [发明专利]对准标记的制作方法及晶圆键合方法-CN202210677258.X有效
  • 张祥平;李海峰;古哲安;林士程 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2022-06-16 - 2022-11-04 - G03F1/42
  • 本发明提供一种对准标记的制作方法及晶圆键合方法,包括提供标准掩模版,在所述标准掩模版上形成有对准标记图案;计算待标记的所述晶圆的曝光区域与所述标准掩模版的曝光区域的差值,并根据所述差值调整曝光机台的曝光参数;根据所述曝光参数将所述标准掩模版上的对准标记图案分别转移至具有不同曝光区域的所述晶圆。本发明通过一个标准掩模版即可在不同尺寸的晶圆上制作对准标记,节省掩模版成本。进一步的,在晶圆键合过程中,可以使用同一掩模版对不同的承载晶圆制作对准标记以匹配器件晶圆,满足不同产品的键合需求,针对每个需要承载晶圆键合的产品都能节省一块掩模版,具有实际效益。
  • 对准标记制作方法晶圆键合方法
  • [发明专利]一种晶圆边缘曝光装置、方法及光刻设备-CN202010423426.3有效
  • 梁学玉 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-05-19 - 2023-07-21 - G03F1/00
  • 其中装置包括晶圆承载模块、掩模版、掩模版驱动模块、对准模块、曝光模块及控制模块;晶圆承载模块用于承载晶圆,带动晶圆旋转;晶圆包括有效区域和围绕有效区域的边缘区域,边缘区域包括至少一个凹口单元;掩模版的形状与有效区域的形状相同;掩模版驱动模块用于驱动掩模版旋转;对准模块用于检测掩模版和晶圆的对准状态;控制模块用于控制晶圆承载模块和掩模版驱动模块的运动状态,还用于在对准模块检测到掩模版和晶圆对准时控制曝光模块对晶圆进行晶圆边缘曝光
  • 一种边缘曝光装置方法光刻设备

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top