专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]均匀轧辊-CN201620579803.1有效
  • -
  • 2016-06-15 - 2017-01-04 - D06B15/02
  • 本实用新型公开了一种均匀轧辊,旨在提供一种带有优质密封条的均匀轧辊,其技术方案要点是:包括轧辊辊体、胶辊,所述轧辊辊体的直径延长线两侧设有密封槽;所述密封槽内嵌设有密封组件;所述密封组件包括底部抵触于密封槽内轴向延伸于轧辊辊体的尼龙密封条
  • 均匀轧辊
  • [发明专利]用于使磁场均匀化的均匀化装置-CN201410410804.9有效
  • A.德格拉夫;H.范德林登;J.T.A.波尔斯;J-W.拉蒙特 - 克洛纳有限公司
  • 2014-08-20 - 2020-12-08 - G01R33/38
  • 本发明涉及一种用于使磁场均匀化的均匀化装置(1),其带有非磁性的支架(2)和由磁性材料构成的平衡元件(3),其中,支架(2)具有支架壁部(4)且支架壁部(4)包围支架内腔(5),其中,在布置在磁场中的均匀化装置中磁场通过支架壁部(4)的第一支架区域(6)侵入支架内腔(5)中而通过支架壁部(4)的第二支架区域(7)从支架内腔(5)挤出,并且布置在支架(2)处的平衡元件(3)中的每个至少在支架内腔(5)中有助于磁场的均匀化在根据本发明的均匀化装置(1)中,在均匀化期间操作被改善,亦即因为,在支架壁部(4)中设置有凹口(8)且在凹口(8)中的每个中可直接插入和取出平衡元件(3)中的至少一个。
  • 用于磁场均匀化装
  • [发明专利]均匀采光花盆-CN201510460743.1在审
  • 杨仁卫 - 杨仁卫
  • 2015-07-30 - 2015-11-18 - A01G9/02
  • 本发明公开一种均匀采光花盆,它包括花盆(1),底座(2),主太阳能电池板(3);所述底座(2)上设有一转轴上固定有一齿轮的驱动马达(4);所述花盆(1)的底部外侧壁上设有一圈与驱动马达(4)的齿轮相啮合的齿;所述花盆(1)的底板中心垂直固定有一中空管(5);所述中空管(5)垂直套接在底座(2)的轴承上,所述花盆(1)的内腔与中空管(5)连通;本发明具有全方位接受阳光,能够保持花卉均匀光照的优点。
  • 均匀采光花盆
  • [发明专利]均匀搅拌装置-CN201510838785.4在审
  • 范祥荣 - 苏州市金翔钛设备有限公司
  • 2015-11-27 - 2016-02-03 - B01F7/18
  • 本发明公开了一种均匀搅拌装置,包括:承载物料的搅拌桶,置于搅拌桶上方的搅拌轴,连接于搅拌轴的搅拌桨,连接于搅拌轴的旋转电机,固定于旋转电机上的伸缩杆,连接于伸缩杆的导轨。本发明提供一种搅拌装置,搅拌轴不仅可以上下移动以及围绕搅拌桶转圈移动,确保搅拌桶内各个位置的密度均匀,确保搅拌机运行的稳定,提高搅拌质量。
  • 均匀搅拌装置
  • [发明专利]均匀浇灌器-CN201510190125.X在审
  • 易程千 - 常州市凯拉电气有限公司
  • 2015-04-21 - 2016-11-02 - A01G27/02
  • 本发明涉及植物灌溉设备技术领域,尤其是一种均匀浇灌器。现有浇灌器不能对植物进行均匀灌溉,喷洒水流较大,导致土壤吸收不均匀,一定程度上影响植物生长。该均匀浇灌器包括储水罐和喷洒圆盘,储水罐和喷洒圆盘通过输液软管连接,储水罐一侧设有竖向滑轨,滑轨上通过滑块连接有伸缩定位杆,伸缩定位杆端部通过旋转定位销固定有活动连杆,活动连杆一端固定连接有喷洒圆盘,喷洒圆盘底部均布出水孔改进后的均匀浇灌器结构简单,操作方便,旋转孔式喷洒,水流大小可调节,对土壤进行均匀灌溉,助于植物健康生长。
  • 均匀浇灌
  • [发明专利]均匀吸热锅-CN202110365043.X在审
  • 李勇军;陈剑;缪卫江;蔡少钦 - 上海军宏环保科技有限公司
  • 2021-04-06 - 2021-06-01 - A47J27/00
  • 一种均匀吸热锅,具体涉及餐饮、居家领域,目前常规的不粘锅,需要在锅的内表面喷涂四氟涂层,金属刷容易刷掉且500度高温下有毒,本发明的目的在于提供均匀吸热锅,锅为金属材质,内表面有很多凸起和外表面有很多凸起,按照斐波那契数列螺旋排列,本发明的优点及有益效果:1.纯铁不粘;2.受热均匀,适合做电饼铛、煎锅、电磁炉锅;3.斐波那契数列是开口螺旋,刷锅无残留;4.流体动力学上,中间倒油,会极其均匀的铺满整个锅底;5.煎出的制品,因受热均匀,油均匀,每个地方都一样的金黄色;6.节能。
  • 均匀吸热
  • [发明专利]均匀播种器-CN202110841242.3在审
  • 曾庆林 - 曾庆林
  • 2021-07-26 - 2021-11-09 - A01C7/02
  • 均匀播种器,特别是能准确控制窝距和行距,播出的种子横平竖直,尤其是能让杂交水稻的秧苗变均匀;还能播各种不同大小的粮食和蔬菜种籽,让每一颗蔬菜苗长成一样壮;外壳上设有外壳手柄和外壳支撑,在外壳上还设有外壳漏孔和进种孔
  • 均匀播种
  • [发明专利]均匀加热方法-CN202010886933.0在审
  • 林柏昌 - 正合林兴业股份有限公司
  • 2020-08-28 - 2022-03-01 - B29C44/34
  • 本发明公开了一种均匀加热方法,其步骤包含:将一待加热物引入一模具中;该模具依序包含可相互结合的一上盖、一中盖与一下盖,其中:该上盖与该下盖、该中盖与该下盖或该上盖与该中盖间为凹凸配合并于其中形成一容置空间该待加热物引入该容置空间中,该模具包含一内部加热源可通透的部分;对该待加热物施予该内部加热源于特定加工时间后;以及待该待加热物冷却后得到一被加热物成品;本发明所提供的加热制程与模具搭配下,能够改善既有技术容易加热不均匀的问题
  • 均匀加热方法
  • [发明专利]均匀发光LED-CN201110458472.8有效
  • 魏臻 - 聚灿光电科技股份有限公司
  • 2011-12-31 - 2016-10-26 - H01L33/38
  • 本发明涉及一种均匀发光LED,它包括位于底层的基底、位于所述的基底上方的CBL层、覆盖于所述的基底与CBL层上的ITO层、以及位于所述的ITO层上的金属电极,所述的CBL层与金属电极在垂直方向上相对应,本发明提供了本发明的目的是解决现有技术中LED芯片发光不均匀的技术问题,提供一种在发光面积内均匀出光的LED芯片。
  • 均匀发光led
  • [发明专利]均匀气流装置-CN201410366171.6有效
  • 杨宏超;V·纳其;金一诺;张怀东;王坚;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
  • 2014-07-29 - 2019-12-20 - H01L21/67
  • 本发明揭示了一种均匀气流装置,包括:导气管,导气管中空形成气体腔,在导气管的侧壁和底端开有出气孔,出气孔与气体腔连通,气体腔连接到气体输送管道,导气管沿高度方向具有数个安装槽,每两个安装槽之间为一段,每一段中具有不同数量的出气孔数个引导片,分别安装在导气管的外壁上的安装槽中,数个引导片具有不同的面积,引导片引导从导气管的不同的段中输出的气流,沿不同的引导片流至引导片的边缘之后向下,由不同的段中输出的气流在该均匀气流装置的下方形成各自的气流区域
  • 均匀气流装置

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