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- [发明专利]光刻设备-CN202310773203.3在审
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陈超;涂先勤;姜尧;王鹏;零萍;陈锡媛;许艳;林垂真;王晓
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中山新诺科技股份有限公司
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2023-06-27
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2023-09-19
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G03F7/20
- 本发明公开了一种光刻设备，其包括：机台、光刻机构、位移机构和调节机构，所述机台上设置有作业位；光刻机构设置于所述机台，所述光刻机构用于对所述作业位上的工件进行光刻作业；所述光刻机构连接有移动组件，所述移动组件能够带动所述光刻机构相对于所述作业位进行位置调节；位移机构设置于所述机台，所述位移机构连接有用于运载物料的载物盘，所述位移机构用于带动所述载物盘相对于所述作业位进行移动；调节机构连接于所述载物盘，所述调节机构用于调节所述载物盘和所述光刻机构之间的相对角度。通过调节机构对载物盘和光刻机构之间进行相对的角度调整，从而可以及时、有效地达到角度差的修正效果。
- 光刻设备
- [实用新型]一种UV-LED打标装置-CN202220473856.0有效
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周捷;林垂真;张峰;王阔;耿可;尚小兵
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杭州新诺微电子有限公司
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2022-03-04
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2023-01-24
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G03F7/20
- 本实用新型涉及一种UV‑LED打标装置，属于激光直写式光刻技术领域，它解决了现有技术中输出的光束，不做准直、聚光，光斑不规则、不均匀，且发散，无法保证打定位精度的问题。本一种UV‑LED打标装置，包含底座，所述的底座上设有LED电路板和LED灯珠，所述的LED灯珠前还设有出光光阑，所述的出光光阑和LED灯珠之间还设有第一光阑，所述的出光光阑设置在光阑固定座上，所述的光阑固定座前端还设有通气孔；所述的LED灯珠射出的光线依次经过第一光阑和出光光阑。第一光阑和出光光阑形成双光阑的结构，光线经过双光阑两次的限制调整后，大光斑边缘发散的部分被遮挡，发散的小光斑也只留下中心重叠的高亮部分，在出光光阑中心可以打出规则均匀的光斑。
- 一种uvled装置
- [实用新型]一种激光打标装置-CN202220568754.7有效
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林垂真;周捷;张峰;周智涛;尚小兵
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杭州新诺微电子有限公司
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2022-03-04
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2022-12-23
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B23K26/362
- 本实用新型涉及一种激光打标装置，属于激光直写式光刻技术领域，它解决了现有技术中光纤跳线容易断裂、拆装都非常麻烦、吸盘吸附PCB板效果较差的问题。本实用新型为一种激光打标装置，包含底座和光源发射器，所述的底座上还设有光源插芯，所述的光源插芯一端与光源发射器相连，另一端设有调整光线的透镜，所述的底座上还设有限制光束孔径的出光光阑；所述的光源发射器发出的光线依次经过光源插芯、透镜和出光光阑。将原先的光源头和打标头合并后，取消了光纤作为跳线的结构，光源插芯与光源发射器连接后另一端直接设有透镜，光线经过光源插芯后可以马上通过透镜处理后具备所需要的属性后再通过出光光阑最终射出。
- 一种激光装置
- [发明专利]一种激光打标装置-CN202210208116.9在审
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林垂真;周捷;张峰;周智涛;尚小兵
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杭州新诺微电子有限公司
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2022-03-04
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2022-07-29
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B23K26/362
- 本发明涉及一种激光打标装置，属于激光直写式光刻技术领域，它解决了现有技术中光纤跳线容易断裂、拆装都非常麻烦、吸盘吸附PCB板效果较差的问题。本发明为一种激光打标装置，包含底座和光源发射器，所述的底座上还设有光源插芯，所述的光源插芯一端与光源发射器相连，另一端设有调整光线的透镜，所述的底座上还设有限制光束孔径的出光光阑；所述的光源发射器发出的光线依次经过光源插芯、透镜和出光光阑。将原先的光源头和打标头合并后，取消了光纤作为跳线的结构，光源插芯与光源发射器连接后另一端直接设有透镜，光线经过光源插芯后可以马上通过透镜处理后具备所需要的属性后再通过出光光阑最终射出。
- 一种激光装置
- [实用新型]双台面曝光机-CN202220466898.1有效
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林垂真;周川;张华;吴越;项铭;向正西;杜一
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杭州新诺微电子有限公司
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2022-03-04
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2022-07-01
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H05K7/20
- 本实用新型涉及一种双台面曝光机，双台面曝光机包括底座、两个第一浮动组件以及曝光系统，其中：第一浮动组件包括第一滑轨与第一浮动块，两根第一滑轨沿第一方向平行固定于底座上，且沿第二方向延伸，第一浮动块沿第二方向可移动地设置于第一滑轨上；曝光系统包括龙门支架、第二浮动组件以及曝光头，龙门支架固定于底座靠近第一浮动块的一侧，第二浮动组件包括第二滑轨与第二浮动块，第二滑轨固定于龙门支架上，且沿第一方向延伸，第二浮动块沿第一方向可移动地设置于第二滑轨上，曝光头固定于第二浮动块，且朝向第一浮动块；本实用新型提供的双台面曝光机采用气浮运动控制方式，可显著提高第一浮动块与第二浮动块的运动精度。
- 台面曝光
- [发明专利]PCB阻焊曝光设备及其光源单元-CN202210202432.5在审
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王阔;林垂真;尚小兵
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杭州新诺微电子有限公司
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2022-03-02
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2022-05-24
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G03F7/20
- 本申请涉及一种PCB阻焊曝光设备及其光源单元，包括光输出装置、聚焦装置与照明装置，光输出装置发出的光依次经过聚焦装置与照明装置后，通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至待曝光基板上；光输出装置用于输出初始光信号；聚焦装置用于接收初始光信号并进行汇聚准直处理，输出汇聚后的光信号；照明装置用于接收汇聚后的光信号并进行匀光整形处理，输出匀光整形后的光信号；其中，匀光整形后的光信号用于完成待曝光基板的PCB阻焊层曝光。原本发散的光极大程度的变为可利用的能量，得到光斑面积符合投影单元工作范围的光信号照射至待曝光基板上，促使其阻焊层完成聚合固化，使得所需的曝光时长与功耗大大降低，减少了光照与能耗上的资源浪费。
- pcb曝光设备及其光源单元
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