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[发明专利]一种掩膜板的制备方法、掩膜板、蒸镀设备-CN201810817969.6有效
发明人：徐倩;张微;嵇凤丽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-07-24 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板的制备方法、掩膜板、蒸镀设备。该制备方法包括：形成过渡掩膜板；对所述过渡掩膜板进行电解抛光处理，获得最终掩膜板，所述最终掩膜板的厚度小于所述过渡掩膜板的厚度。采用该方法制备掩膜板时，通过对过渡掩膜板进行电解抛光处理，使得获得的最终掩膜板的厚度小于过渡掩膜板的厚度，从而，减小了相邻像素混色风险，提高了有效显示区的膜厚均一性，有效地提高了OLED面板的显示良率。同时，本发明提出的掩膜板的制备方法，降低了对掩膜板原材料的厚度要求，在一定程度上降低了掩膜板的制作难度，降低了掩膜板的制作成本。本发明还公开了采用该方法制备出的掩膜板以及包括该掩膜板的蒸镀设备。
一种掩膜板制备方法设备

[发明专利]一种掩膜装置及掩膜装置与基板的贴合方法-CN202010356403.5在审
发明人：段廷原 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜装置及掩膜装置与基板的贴合方法，掩膜装置包括掩膜板，掩膜板包括掩膜板框架以及所述掩膜板框架环绕的掩膜区域；掩膜条，围绕掩膜区域设置于掩膜框架上，掩膜条在掩膜板上的投影与掩膜区域不重叠；掩膜板框架对应掩膜条的端部设有通孔；升降机构，设置于掩模版框架上的通孔内；其中，掩膜条的端部焊接在升降机构上。本申请通过在掩膜条的端部焊接升降机构，升降机构位于掩膜板框架通孔内，当掩模版与基板贴合时，升降机构带动掩膜条的端部沿垂直于掩模板框架所在平面朝向远离掩模板框架的方向移动预设距离，使基板与掩膜条紧密贴合。
一种装置贴合方法

[实用新型]一种金属掩膜板-CN202320216814.3有效
发明人：李泽鹏;刘雪;秦晓东;沈毅祥;金光哲 -专利权人：海宁奕诺炜特科技有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种金属掩膜板，包括上层金属掩膜板和下层金属掩膜板，上层金属掩膜板开设有若干引脚孔，上层金属掩膜板部分设置于下层金属掩膜板顶部，上层金属掩膜板与下层金属掩膜板可拆卸固定连接，上层金属掩膜板邻近下层金属掩膜板一侧开设有若干滑槽，下层金属掩膜板相对应滑槽固定有滑块，滑块与滑槽滑动配合，下层金属掩膜板邻近上层金属掩膜板一侧开设有卡槽，上层金属掩膜板相对应卡槽设置有卡块，卡槽与卡块可拆卸固定连接，本实用新型利用上层金属掩膜板开设若干引脚孔可对基板托盘引脚进行固定，下层金属掩膜板与上层金属掩膜板连接，对引脚孔进行遮盖，避免过多材料沉积在基板托盘引脚上且防止材料从引脚孔流至上层金属掩膜板背部。
一种金属掩膜板

[发明专利]掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法-CN202010588550.5有效
发明人：郭登俊;周俊吉;杨博文;张文畅;马超;伍青峰;罗小龙;杜志林;石应东;易烁文;吕文旭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开是关于一种掩膜板、掩膜板结构和掩膜板制作方法，属于蒸镀领域。掩膜板包括掩膜板主体和掩膜条。掩膜板主体包括多个凹槽，多个凹槽间隔分布在掩膜板主体的第一表面，凹槽内布置有镂空结构；掩膜条位于掩膜板主体上，掩膜条的图形区域位于凹槽在第一表面的正投影内。在基板与掩膜条贴合的过程中，基板对掩膜条产生朝向掩膜板主体的力，使掩膜条的中间部分向凹槽内移动，使得掩膜条的中间部分与基板之间无摩擦力。在基板下放过程中，减小了掩膜条的图形区域的移动，减小了掩膜条的弯曲程度，提高了蒸镀形成的像素区域的精度。
掩膜板板结制作方法

[发明专利]掩膜板组件及掩膜板组件拼接精度的检测方法-CN201910231879.3有效
发明人：杨华东;张鹏记;林超;王建禹 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板组件及掩膜板组件拼接精度的检测方法，掩膜板组件包括两个以上的掩膜板，两个以上的掩膜板能够相拼接形成预设的掩膜图案，掩膜板包括：基底层，包括掩膜区以及环绕在掩膜区周侧的非掩膜区，掩膜区包括用于拼接形成掩膜图案的掩膜图案单元，非掩膜区包括用于拼接的拼接区域；以及电阻层，设置于拼接区域且沿平行于拼接界面的第一方向延伸预定宽度；其中，相邻两个掩膜板的电阻层对接形成待测电阻，待测电阻的电阻值与对接接触面积的大小成反比。本发明提供的掩膜板组件及掩膜板组件拼接精度的检测方法，能够直观、有效地监测掩膜板组件的拼接精度。
掩膜板组件拼接精度检测方法

[发明专利]高功率半导体激光器阵列掩膜装置-CN201110157807.2无效
发明人：刘云;王立军;宁永强;秦莉;单肖楠;付喜宏;张金龙 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2011-06-13 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：高功率半导体激光器阵列掩膜装置，涉及电子学技术领域，它解决现有高功率半导体激光器阵列的器件的绝缘片与芯片的热沉焊接采用人工涂抹过程中易出现焊料涂抹不均匀及涂抹错位，导致器件的稳定性和可靠性差的问题，本发明包括第一掩膜板、第二掩膜板、掩膜条和掩膜板架，所述第一掩膜板和第二掩膜板分别固定在掩膜板架上，第一掩膜板和第二掩膜板上分别设有六个掩膜板方孔组，每个掩膜板方孔组由掩膜条平均分成两个掩膜板方孔；掩膜板架内设置两个掩膜板架方孔组，每个掩膜板架方孔组上分别设置与第一掩膜板和第二掩膜板对称的六个掩膜板架方孔。
功率半导体激光器阵列装置

[发明专利]一种掩膜板及其制作方法-CN201910453473.X在审
发明人：谢志生 -专利权人：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板及其制作方法，所述掩膜板包括掩膜板框和固定在掩膜板框上的掩膜本体，所述掩膜板框的厚度大于掩膜本体，所述掩膜本体与掩膜板框为电铸一体成型结构。本申请通过电铸成型工艺得到掩膜本体和掩膜板框为一体的掩膜板结构，节省了传统掩膜板制作过程中的张网和焊接制程，减少了张网焊接设备的高额投资；同时避免了张网和焊接制程中造成的不良和浪费，提高了掩膜板的制作良率和效率另外，蒸镀工艺中，掩膜板下表面的平整要求较高，本申请的掩膜板下表面依附在电铸模板上表面生成，电铸模板上表面为平面，因此掩膜板下表面更加平整，掩膜板在电铸完成后，不需要进行额外的后加工程序。
掩膜板掩膜本体下表面张网电铸模板上表面电铸制程焊接平整制作电铸成型工艺一体成型结构掩膜板结构传统掩膜焊接设备加工程序制作过程良率申请蒸镀依附投资

[发明专利]掩膜板及其制作方法-CN202210276961.X在审
发明人：关新兴;毕娜;刘华猛;刘佳宁;白珊珊;李彦松;曾琪皓;刘浩 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开提供了一种掩膜板及其制作方法，涉及显示技术领域。该掩膜板的制作方法包括：形成具有第一开口的掩膜基板；将掩膜基板铺设于一掩膜板框架一侧，并对掩膜基板进行张网；在掩膜基板背离掩膜板框架的表面设置遮盖第一开口的支撑层；形成覆盖掩膜基板的掩膜层，掩膜层填充第一开口，且掩膜层位于第一开口内的区域具有多个第二开口；剥离支撑层。本公开通过在掩膜基板上形成精细金属掩膜板开口，并在精细金属掩膜板开口中形成电铸精细掩膜板开口，提高了掩膜板的分辨率，同时解决了传统的电铸精细掩膜板的焊接难度大、低开口率、张网误差大以及热膨胀系数大引起的蒸镀混色不良问题
掩膜板及其制作方法

[发明专利]掩膜板张网方法、掩膜板张网装置及掩膜板-CN202010129968.X有效
发明人：余强根;卓林海;王亚 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2020-02-28 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板张网方法、掩膜板张网装置及掩膜板。掩膜板张网方法包括：在张网平台上预设坐标系；将掩膜板框架置于张网平台上，获取第一对位点在坐标系中的第一实际位置；对掩膜板框架进行框架位置校正，获取第一对位点在坐标系中的校正位置；根据第一对位点的校正位置和第一实际位置得到补偿参数；将掩膜单元与掩膜板框架连接，获取第二对位点在坐标系中的第二实际位置；根据补偿参数对第二对位点进行位置补偿，得到第二对位点的补偿后位置；以及根据第二对位点的补偿后位置和第一对位点的校正位置，对掩膜单元进行掩膜单元位置校正根据本发明实施例的掩膜板张网方法，提高张网组装过程的效率。
掩膜板张网方法装置掩膜板

[发明专利]掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板-CN201711006716.2在审
发明人：苏君海;龚建国;吴俊雄;冉应刚;柯贤军;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2017-10-25 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板，掩膜装置包括掩膜组件和掩膜框架，所述掩膜组件包括一掩膜板和一遮挡件；所述掩膜板的边沿与所述掩膜框架连接；所述掩膜板上均匀开设有若干通孔所述遮挡件开设有若干通口；所述遮挡件抵接于所述掩膜板，各所述通口分别对齐于所述掩膜板上的部分所述通孔，所述遮挡件挡设于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。掩膜板无需根据不同显示区设置不同的预留区，只需整体进行蚀刻，减少了蚀刻工序，降低了工艺复杂度，掩膜板整体均匀开设通孔，使得掩膜板的各部分的力学性能趋于一致，有效减少形变，能够同时蒸镀不同形状的显示区，提高玻璃基板的利用率
装置及其组件掩膜板

[发明专利]一种掩膜板及其制作方法-CN201910452518.1在审
发明人：谢志生 -专利权人：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请日： 2019-05-28 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板及其制作方法，掩膜板包括掩膜板框和固定在掩膜板框上的掩膜本体；所述掩膜本体上设置有掩膜图案，所述掩膜图案包括贯穿所述掩膜本体的通孔，所述掩膜本体与掩膜板框通过电铸方法一体成型。本申请的掩膜本体和掩膜板框是通过电铸一体成型工艺得到的，节省了传统掩膜板制作过程中的张网和焊接制程，减少了张网焊接设备的高额投资，进而降低了掩膜板的制作成本；同时避免了张网加工过程中造成的对位误差和张网不紧等问题，避免了焊接制程中造成的不良和浪费，增强了掩膜板的机械强度，提高了掩膜板的制作良率和效率；提高了有机发光材料的蒸镀质量和良品率。
掩膜板掩膜本体张网掩膜图案制作电铸制程焊接一体成型工艺有机发光材料传统掩膜对位误差焊接设备一体成型制作过程良品率良率通孔蒸镀贯穿申请投资

[发明专利]FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法-CN200810217118.4有效
发明人：熊启龙 -专利权人：清溢精密光电（深圳）有限公司
申请日： 2008-10-28 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法包括以下步骤：(1)将Reticle掩膜板设计的图形通过计算机辅助处理转化成Reticle掩膜版曝光设备识别的电子数据文件(2)通过Reticle掩膜版曝光设备将步骤(1)取得的电子数据文件在Reticle掩膜板原料上进行激光直写光刻操作(3)将Reticle掩膜板原料进行显影处理(4)将Reticle掩膜板原料进行蚀刻处理(5)将Reticle掩膜板从Reticle掩膜板原料上剥离并对其清洗(6)将Reticle掩膜板保护膜贴合在Reticle掩膜板的表面上。利用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜板，投入较低，生产周期较短。
fpd 掩膜版制作设备 reticle 方法

[发明专利]掩膜板及其制作方法-CN201911147901.2有效
发明人：王亚玲;刘亚伟;宋平;肖志慧;单为健;杨志业 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板及其制作方法。掩膜板包括掩膜区，包括多个开口；夹持区，位于所述掩膜区两侧；过渡区，位于所述夹持区与所述掩膜区之间；其中，所述夹持区的厚度大于所述掩膜区的厚度，所述过渡区的厚度自所述夹持区向所述掩膜区趋于减小。本发明提供的掩膜板及掩膜板制作方法，在掩膜板的掩膜区减薄的同时，增加了夹持区的固定能力，且避免了在掩膜板拉平焊接时产生褶皱，整体提高了掩膜板的蒸镀精度。
掩膜板及其制作方法

[发明专利]一种两段式吸附光罩及其吸附方法-CN202110108450.2在审
发明人：金华君;吴聪原 -专利权人：福建华佳彩有限公司
申请日： 2021-01-27 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种两段式吸附光罩及其吸附方法，包括掩膜框、第一掩膜板、第二掩膜板、基板和磁板，其中，第一掩膜板的受磁性大于第二掩膜板，第二掩膜板和第一掩膜板先后依次重叠且相互紧贴地固定在掩膜框的一面上，第一掩膜板远离第二掩膜板的一面设有基板，基板远离第一掩膜板的一侧设有磁板。第一掩膜板上的面板区域和第二掩膜板上的开口数量相同且位置一一对应重叠，面板区域能完全覆盖对应的开口且只与一个开口发生重叠。使用时，磁板先后吸附第一掩膜板和第二掩膜板，使二者贴附在基板上，消除掩膜板在贴附基板过程中由于自身的下垂和贴附压力等因素对贴附效果的影响，实现掩膜板在蒸镀过程与基板紧密平坦贴合，保证成膜的精准性。
一种段式吸附及其方法

[发明专利]一种掩膜对准装置及方法-CN202310077093.7有效
发明人：张雷 -专利权人：江苏西迈科技有限公司
申请日： 2023-02-01 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜对准装置及方法，掩膜对准装置包括：基底定位单元、掩膜安装单元以及掩膜定位结构。其中，基底定位单元被配置为容纳基底，掩膜安装单元被配置为安装掩膜板，掩膜定位结构被配置为定位掩膜板的位置。掩膜定位结构具有驱动件和定位件，掩膜定位结构具有驱动件驱动定位件插入于插板腔内以限定掩膜板的定位状态，以及定位件不受驱动件施力，定位件与插板腔间隔设置的分离状态；在定位件处于定位状态下，定位件抵接压紧在掩膜板的掩膜孔内、且具有驱动掩膜板朝向第一定位面方向运动的第一定位驱动力和/或驱动掩膜板朝向第二定位面方向运动的第二定位驱动力。此结构的掩膜对准装置实现对于掩膜板的定位，提高定位精度。
一种对准装置方法