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[发明专利]FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法-CN200810217118.4有效
发明人：熊启龙 -专利权人：清溢精密光电（深圳）有限公司
申请日： 2008-10-28 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法包括以下步骤：(1)将Reticle掩膜板设计的图形通过计算机辅助处理转化成Reticle掩膜版曝光设备识别的电子数据文件(2)通过Reticle掩膜版曝光设备将步骤(1)取得的电子数据文件在Reticle掩膜板原料上进行激光直写光刻操作(3)将Reticle掩膜板原料进行显影处理(4)将Reticle掩膜板原料进行蚀刻处理(5)将Reticle掩膜板从Reticle掩膜板原料上剥离并对其清洗(6)将Reticle掩膜板保护膜贴合在Reticle掩膜板的表面上。利用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜板，投入较低，生产周期较短。
fpd 掩膜版制作设备 reticle 方法

[发明专利]降低光罩上沉淀物雾状缺陷的方法-CN200910056135.9无效
发明人：武咏琴 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-08-07 - 公布日： 2011-03-23 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种降低光罩上沉淀物雾状缺陷的方法，该方法包括：在曝光前，将光罩存放在通有稀释气体的曝光机台光罩室scanner reticle library内；将光罩从scanner reticle library中取出，直接进行曝光处理；在曝光后，直接将光罩再次传入通有稀释气体的scanner reticle library中。
降低光罩上沉淀物雾状缺陷方法

[发明专利]一种微粒清扫装置及方法-CN202310768259.X在审
发明人：吴金钢 -专利权人：捷捷微电(南通)科技有限公司
申请日： 2023-06-27 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：微粒检测模块连接；清扫模块设置在微粒检测模块的上方；其中，清扫模块通过微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，预警模块还用于调整清扫时间；本发明实施能够在完成检测后，直接根据检测结果，在超出设定规范的情况下实现掩模版reticle的自动清扫，简化人为转置掩模版reticle流程，提高工作效率，并在此基础上，利用简单的电气件优化，根据现有检测装置及报警装置实现自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。
一种微粒清扫装置方法

[发明专利]用于微影曝光工具中的污染检测与监控的方法及系统以及其在控制空气条件下的操作方法-CN200580033102.2无效
发明人： U·克纳佩;U·欧可洛尼亚吾 -专利权人：先进微装置公司
申请日： 2005-09-21 - 公布日： 2007-09-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：以这种方式，对如光罩(reticle)与透镜的曝光工具的关键元件的不利效应，以例如沉积无机盐的形式，可显著地降低，而可提升工艺的效能。
用于曝光工具中的污染检测监控方法系统及其控制空气条件下操作方法

[发明专利]抗静电光罩的制造方法-CN02105017.1有效
发明人：苏威宇;郑东旭;滕立功 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2002-02-10 - 公布日： 2003-08-27 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗静电光罩(reticle)的制造方法，其依藉在光罩制造过程中，采用马南根尼干燥技术(Marangonidryer)进行干燥处理并将抗静电材料加入异丙醇(IPA)，以在干燥处理期间同时于光罩表面上涂布形成一抗静电层作为光罩的保护层
抗静电制造方法

[发明专利]一种光罩及利用该光罩在磁头表面形成气垫面图案的方法-CN200610079939.7无效
发明人：金则清;尹辉;肖爱龙 -专利权人：新科实业有限公司
申请日： 2006-04-27 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： G11B5/60 文献下载
摘要：所述金属薄膜层上形成有透光的气垫面图像(ABS image)、光罩标志(reticle key)及机器视觉系统窗口(MVS window)，其中，所述机器视觉系统窗口与所述气垫面图像重合。
一种利用磁头表面形成气垫图案方法

[发明专利]一种针对特殊批次货物进行预排程的系统及其方法-CN201410635860.2有效
发明人：李金舒;刘忠武;王洁 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-11-12 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：依据各种线上的影响因素,准实时计算工序时间/预计的生产步骤数据,预测掩膜版(Reticle)和机台,为特殊批次提供合理的预排程。
一种针对特殊批次货物进行预排程系统及其方法

[实用新型]一种光学镜头测试料盘-CN202222848224.0有效
发明人：曾嘉健;李雪平 -专利权人：世大光电（东莞）有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本光学镜头测试料盘通过在盘体上设置能够与底座配合的定位槽，使得锁配后的镜头和后座能够一同放入MTF中进行测试，从而能够通过测试排除掉由于锁配误差而产生的不良品；并且可以通过调整MTF中RETICLE与镜头的距离
一种光学镜头测试

[发明专利]投影机曝光装置、曝光方法以及元件制造方法-CN200810211496.1有效
发明人：白石直正 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-10-26 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：照明光学系统ILS以照明光IL照射光栅(reticle)R，投影光学系统PL将光栅R的图案像投影于晶圆(wafer)W上。
投影机曝光装置方法以及元件制造

[发明专利]投影机曝光装置、曝光方法以及元件制造方法-CN200480031414.5有效
发明人：白石直正 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-10-26 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：照明光学系统ILS以照明光IL照射光栅(reticle)R，投影光学系统PL将光栅R的图案像投影于晶圆(wafer)W上。
投影机曝光装置方法以及元件制造

[发明专利]背侧浸没式光刻-CN200780026360.7无效
发明人：乌尔里克·扬布莱德;珀-埃里克·古斯塔夫森 -专利权人：麦克罗尼克激光系统公司
申请日： 2007-05-15 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：这些方法以及相应的器件可用于生产掩模(mask)(有时被称为母掩模(reticle))、在半导体器件中产生潜像以及利用掩模形成半导体器件的部件。
浸没光刻

[实用新型]一种光罩盒充气电子货架-CN202022650825.1有效
发明人：刘幸伟;潘晓;邱珏敏;苏盼勇;贾星 -专利权人：上海晖哲通讯科技有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： B25H3/04 文献下载
摘要：上传到工厂自动化执行系统，让产线工人能通过PC准确、快速的在系统端查到指定光罩盒所在的位置，及时将指定光罩盒拿去制程机台使用，加装充气功能支援，提升产品良率；本实用新型的电子货架可以有效帮助半导体工厂的生产线解决Reticle
一种光罩盒充气电子货架

[发明专利]一种用于镜头MTF测试的自动对心方法-CN202211476488.6在审
发明人：杨凯;李长明;郭崇波;张丁增;傅健;李亮 -专利权人：江西联益光学有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：，具体涉及到一种用于镜头MTF测试的自动对心方法，针对镜头结构设计专用驱盘，专用驱盘上设置有若干均匀排布的孔位；在MTF测试机台对其中一个待测镜头测试时，移动专用驱盘使得待测镜头中心与MTF测试机台的Reticle
一种用于镜头 mtf 测试自动对心方法

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