[发明专利]一种掩膜板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910452518.1 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN110273124A 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 谢志生 申请(专利权)人: 信利(仁寿)高端显示科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C25D1/10
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 廖苑滨
地址: 620500 四川省眉山*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种掩膜板及其制作方法,掩膜板包括掩膜板框和固定在掩膜板框上的掩膜本体;所述掩膜本体上设置有掩膜图案,所述掩膜图案包括贯穿所述掩膜本体的通孔,所述掩膜本体与掩膜板框通过电铸方法一体成型。本申请的掩膜本体和掩膜板框是通过电铸一体成型工艺得到的,节省了传统掩膜板制作过程中的张网和焊接制程,减少了张网焊接设备的高额投资,进而降低了掩膜板的制作成本;同时避免了张网加工过程中造成的对位误差和张网不紧等问题,避免了焊接制程中造成的不良和浪费,增强了掩膜板的机械强度,提高了掩膜板的制作良率和效率;提高了有机发光材料的蒸镀质量和良品率。
搜索关键词: 掩膜板 掩膜本体 张网 掩膜图案 制作 电铸 制程 焊接 一体成型工艺 有机发光材料 传统掩膜 对位误差 焊接设备 一体成型 制作过程 良品率 良率 通孔 蒸镀 贯穿 申请 投资
【主权项】:
1.一种掩膜板,包括掩膜板框和固定在掩膜板框上的掩膜本体;其特征在于,所述掩膜本体上设置有掩膜图案,所述掩膜图案包括贯穿所述掩膜本体的通孔,所述掩膜本体与掩膜板框为电铸一体成型结构。
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  • 减少在基板上形成图案时所使用的掩膜中的、所形成的图案的位置偏移。将包含形成有规定图案的多个图案部的蒸镀掩膜(20)向框架(30)固定的蒸镀掩膜的对准方法包含以下步骤:第1对准步骤(S3),基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第1基准标记(101)和形成在所述蒸镀掩膜的缘部的第1对准标记(201)的第1偏移量,对所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行对准;以及第2对准步骤(S5),基于用于所述蒸镀掩膜与所述框架对位的第2基准标记(102)和形成在所述图案部的外周部的第2对准标记(202)的第2偏移量,对通过所述第1对准步骤进行了对准的所述蒸镀掩膜与所述框架的相对位置进行再对准。
  • 一种掩膜板及其制作方法-201910452518.1
  • 谢志生 - 信利(仁寿)高端显示科技有限公司
  • 2019-05-28 - 2019-09-24 - C23C14/04
  • 本发明公开了一种掩膜板及其制作方法,掩膜板包括掩膜板框和固定在掩膜板框上的掩膜本体;所述掩膜本体上设置有掩膜图案,所述掩膜图案包括贯穿所述掩膜本体的通孔,所述掩膜本体与掩膜板框通过电铸方法一体成型。本申请的掩膜本体和掩膜板框是通过电铸一体成型工艺得到的,节省了传统掩膜板制作过程中的张网和焊接制程,减少了张网焊接设备的高额投资,进而降低了掩膜板的制作成本;同时避免了张网加工过程中造成的对位误差和张网不紧等问题,避免了焊接制程中造成的不良和浪费,增强了掩膜板的机械强度,提高了掩膜板的制作良率和效率;提高了有机发光材料的蒸镀质量和良品率。
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