[发明专利]一种掩膜板的制备方法、掩膜板、蒸镀设备有效
| 申请号： | 201810817969.6 | 申请日： | 2018-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN108796438B | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 徐倩;张微;嵇凤丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56;C23C14/24;C25F3/16 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张京波;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板的制备方法、掩膜板、蒸镀设备。该制备方法包括：形成过渡掩膜板；对所述过渡掩膜板进行电解抛光处理，获得最终掩膜板，所述最终掩膜板的厚度小于所述过渡掩膜板的厚度。采用该方法制备掩膜板时，通过对过渡掩膜板进行电解抛光处理，使得获得的最终掩膜板的厚度小于过渡掩膜板的厚度，从而，减小了相邻像素混色风险，提高了有效显示区的膜厚均一性，有效地提高了OLED面板的显示良率。同时，本发明提出的掩膜板的制备方法，降低了对掩膜板原材料的厚度要求，在一定程度上降低了掩膜板的制作难度，降低了掩膜板的制作成本。本发明还公开了采用该方法制备出的掩膜板以及包括该掩膜板的蒸镀设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 制备 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：形成过渡掩膜板；对所述过渡掩膜板进行电解抛光处理，获得最终掩膜板，所述最终掩膜板的厚度小于所述过渡掩膜板的厚度。
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