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- [实用新型]蒸镀设备-CN202122005493.6有效
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赵利;孙军旗;刘芳军;孙玉群;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2021-08-24
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2022-01-07
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C23C14/24
- 本实用新型实施例公开了一种蒸镀设备，具有一蒸镀腔体，所述蒸镀设备包括：蒸镀源和蒸镀锅；蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部；其中，所述蒸镀源的数量设置至少两个，每个所述蒸镀源间隔排布，且每个所述蒸镀源到所述蒸镀腔体的中心线的距离相等；蒸镀锅，设置在所述蒸镀腔体的顶部，所述蒸镀锅在所述蒸镀腔体内绕所述中心线公转；其中，单个所述蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成单个蒸镀区域；所有所述单个蒸镀区域构成总蒸镀区域，所述蒸镀锅对应设置在所述总蒸镀区域内。本实用新型实施例以此提高了蒸镀的效率。
- 设备
- [发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法-CN202210849790.5在审
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李晓虎;王路;王伟杰;焦志强;袁广才
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京东方科技集团股份有限公司
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2022-07-19
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2022-10-21
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C23C14/24
- 本公开实施例提供了一种蒸镀装置及蒸镀方法，属于蒸镀技术领域。该蒸镀装置包括蒸镀掩膜板和多个蒸镀源。其中，该蒸镀掩膜板中，每个蒸镀区域包括多个蒸镀开口和间隔每相邻两个蒸镀开口的遮挡部。多个蒸镀源能够通过该多个蒸镀开口在待蒸镀基板上蒸镀形成不同颜色的发光层。并且，多个蒸镀开口相交，每个蒸镀开口与待蒸镀基板的夹角小于蒸镀掩膜板的厚度与通过该蒸镀开口形成的发光层的宽度的比值的反正切值，每个蒸镀源与待蒸镀基板的夹角等于或是近似等于蒸镀开口与待蒸镀基板的夹角。如此，可以通过该一个蒸镀掩膜板配合控制蒸镀源的蒸镀角，一次对位后，在待蒸镀基板上可靠形成所需的不同颜色的发光层。进而，提高了蒸镀效率，加快了产能。
- 装置方法
- [发明专利]一种蒸镀设备-CN202111315737.9在审
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潘洪英
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TCL华星光电技术有限公司
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2021-11-08
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2022-02-11
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C23C14/24
- 本申请提供一种蒸镀设备，包括蒸镀基台；蒸镀源，包括多个坩埚，每一坩埚在蒸镀基板上对应一蒸镀区，蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区，重叠蒸镀子区由相邻两坩埚在蒸镀基板上对应的两蒸镀区部分重叠形成；速率监控模块，用于获取任一坩埚在蒸镀基板上对应的非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；调节模块用于获取坩埚的开口大小信息，接收坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并根据第一蒸镀速率、第二蒸镀速率以及坩埚的开口大小信息调节坩埚的开口大小，以使坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
- 一种设备
- [发明专利]蒸镀方法及蒸镀设备-CN201710055136.6有效
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彭兆基;邱林;李倩;何麟;高峰
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昆山国显光电有限公司
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2017-01-24
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2020-04-21
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C23C14/24
- 本发明涉及一种蒸镀方法及蒸镀设备。上述蒸镀方法包括如下步骤：将蒸镀材料放置于蒸镀设备的蒸镀源中，将蒸镀源与待蒸镀基板相对设置，且蒸镀源的开口朝向待蒸镀基板；对蒸镀源进行加热至预设温度后，移动蒸镀源和/或待蒸镀基板，使蒸镀源相对于待蒸镀基板采用上述蒸镀方法进行蒸镀时，即使TS距离较小，由于蒸镀源相对于待蒸镀基板，在平行于待蒸镀基板的平面上移动的轨迹为波浪线，则shadow effect贡献度低、分布均匀且无周期性波动，不容易形成低视角G向mura，从而能够提高蒸镀PPI。此外，本发明还涉及一种可采用上述蒸镀方法的蒸镀设备。
- 方法设备
- [发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法-CN201680083566.2有效
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西田光志;矢野耕三;岸本克彥;崎尾进
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鸿海精密工业股份有限公司
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2016-07-22
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2021-02-09
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C23C14/04
- 提供蒸镀方法及及其蒸镀装置,在蒸镀蒸镀材料时,蒸镀掩膜与被蒸镀基板之间不会由于形成间隙而蒸镀的膜的图案不均匀,可以以正确的图案蒸镀。特征在于,蒸镀掩膜(1)在周缘部由框架(12)支撑往水平方向配置,其蒸镀掩膜(1)的上面侧重叠配置形成蒸镀膜的被蒸镀基板(2),蒸镀掩膜(1)的下方配置蒸镀源(5),从蒸镀源(5)蒸发蒸镀材料(51),由此在被蒸镀基板(2)形成蒸镀膜。蒸镀掩膜(1)的弯曲中心部的铅直方向上,从被蒸镀基板(2)的上面位置开始,以成为相当于根据蒸镀掩膜(1)的弯曲延伸后的蒸镀掩膜(1)的长度(沿着蒸镀掩膜的一边的剖面中的长度)之长度的方式,一边压入被蒸镀基板(2),一边进行蒸镀。
- 装置方法有机el显示装置制造
- [发明专利]蒸发镀膜装置-CN202210607488.9在审
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吕凯丽;赵利;孙军旗;孙帅;刘孝玲;任宏志
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北海惠科半导体科技有限公司
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2022-05-31
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2022-09-06
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C23C14/24
- 本申请公开了一种蒸发镀膜装置，蒸发镀膜装置包括蒸镀腔体、蒸镀源、多个蒸镀锅和驱动组件；蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，气体分子蒸镀材料在蒸镀腔体中运动形成蒸镀区域；多个蒸镀锅对应设置在蒸镀区域内；驱动组件设置在蒸镀腔体的顶部，驱动多个蒸镀锅围绕蒸镀源的中心线进行旋转；多个蒸镀锅包括第一蒸镀锅和第二蒸镀锅，第二蒸镀锅的直径小于第一蒸镀锅的直径，第二蒸镀锅设置在两个第一蒸镀锅相互靠近的一端和两个第一蒸镀锅相互远离的一端之间的间隙内本申请在一个蒸镀腔室内设置不同大小的蒸镀锅，能够更好的利用空间，防止蒸镀源材料的浪费，且同腔体可以生产不同批次的晶圆，提供生产效率。
- 蒸发镀膜装置
- [发明专利]蒸镀气体供给装置-CN201080037560.4无效
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李炳一;朴暻完;康浩荣;金彻镐;宋钟镐
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泰拉半导体株式会社
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2010-08-25
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2012-07-11
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H01L21/205
- 本发明公开蒸镀气体供给装置，该蒸镀气体供给装置在用于制造半导体元件或平板显示器的薄膜蒸镀工序时，在每个蒸镀工序能够供给均匀量的蒸镀气体。本发明的蒸镀气体供给装置(100)，包括：蒸镀物质储藏部(200)，用于储藏蒸镀物质；蒸镀物质蒸发部(300)，用于对蒸镀物质加热而产生蒸镀气体；以及载气供给部(400)，用于供给载气，该蒸镀气体供给装置还包括蒸镀物质供给部(500)，该蒸镀物质供给部配置在蒸镀物质储藏部(200)和蒸镀物质蒸发部(300)之间，蒸镀物质供给部(500)在每个蒸镀工序，向蒸镀物质蒸发部(300)供给恒定量的蒸镀物质。
- 气体供给装置
- [实用新型]蒸镀设备-CN202122005303.0有效
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赵利;刘芳军;孙军旗;孙玉群;鲁艳春
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北海惠科半导体科技有限公司
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2021-08-24
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2022-03-22
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C23C14/24
- 本申请实施例公开了一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔体、蒸镀源、蒸镀锅和分流板；蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部，用于将蒸镀材料转化成气体分子蒸镀材料；至少两个所述蒸镀锅设置在所述蒸镀源的上方；以所述蒸镀源的顶面为基准面，所述分流板设置的高度，低于至少两个所述蒸镀锅的最高点的高度，高于所述基准面；其中，所述蒸镀腔体中能被至少两个所述蒸镀锅覆盖的区域为有效蒸镀区域，不能被至少两个所述蒸镀锅覆盖的区域为无效蒸镀区域；所述分流板对应所述无效蒸镀区域设置，所述分流板将所述无效蒸镀区域的气体分子蒸镀材料分流至所述有效蒸镀区域。本申请以此减少了蒸镀材料的浪费。
- 设备
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