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[发明专利]掩模板框架、掩模板组件及其制备方法-CN202110931870.0有效
发明人：刘华猛;王蓓;左鹏飞;白珊珊;关新兴;刘佳宁;李彦松 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及掩膜板技术领域，提供一种掩模板框架、掩模板组件及其制备方法，掩模板框架是中部具有开口区域的边框结构，所述掩模板框架包括依次贴合连接的第一框架、第二框架以及第三框架，所述第一框架供掩膜板固定连接，所述第一框架固定连接于所述第二框架，所述第二框架固定连接于所述第三框架，所述第三框架用于固定于蒸镀腔，所述第二框架的刚度大于所述第一框架的刚度。刚度更大的第二框架可以进一步降低蒸镀时框架的挠度，框架分成多层也可以在挠度和热膨胀上达到平衡，最大程度降低蒸镀像素位移偏移量。
模板框架组件及其制备方法

[发明专利]一种蒸镀源和蒸镀装置-CN202310584402.X在审
发明人：曾琪皓;郭佳文;李彦松;白珊珊;赵莹;关新兴;杨炳伟;刘浩;刘华猛;刘佳宁 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种蒸镀源和蒸镀装置，所述蒸镀源包括坩埚本体和内压板，所述坩埚本体设有朝向待蒸镀基板表面的出口；所述内压板可移动地设置在所述坩埚本体内以与所述坩埚本体形成容置腔，所述内压板开设有蒸镀孔。上述蒸镀源在真空蒸镀过程中，蒸镀材料蒸镀时会在坩埚本体内产生一定的内压，由于内压板可移动地设置在坩埚本体内，通过内压板相对于坩埚本体的移动可以调整坩埚本体内的容置腔大小，从而可以平衡蒸镀时产生的内压，使容置腔内的内压维持在稳定的范围，继而使得蒸镀源具有稳定的蒸发速率，从而提高蒸镀形成的膜层厚度的均一性，提高OLED的显示效果和产品良率。
一种蒸镀源装置

[实用新型]蒸发源及蒸发源组件-CN202222548058.2有效
发明人：刘华猛;白珊珊;李彦松;关新兴;王蓓;刘佳宁;刘浩;曾琪皓 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开涉及一种蒸发源及蒸发源组件，其中，蒸发源包括：加热器，具有加热腔，所述加热腔具有开口；盖板，位于所述加热腔的开口侧并覆盖所述开口，所述盖板包括第一遮盖部和第二遮盖部，所述第二遮盖部远离所述开口的一侧与所述开口之间的距离，大于所述第一遮盖部远离所述开口的一侧与所述开口之间的距离；所述第二遮盖部设置有扩散部，所述扩散部包括至少一个扩散孔，所述扩散孔的一端位于所述扩散部远离所述开口的一侧，且所述扩散孔的另一端向靠近所述开口的方向延伸并与所述加热腔连通。该蒸发源的加工难度较低，并且通过该蒸发源制作出的显示面板具有较高的性能和产品良率。
蒸发组件

[发明专利]显示基板及显示装置-CN202180002300.1在审
发明人： 关新兴;白珊珊;张羽豪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H10K50/822 文献下载
摘要：本公开提供的显示基板及显示装置，包括衬底基板，具有第一显示区和位于第一显示区至少一侧的第二显示区；其中，第一显示区的透过率大于第二显示区的透过率；多个发光组件，在衬底基板上呈阵列排布，多个发光组件包括位于第一显示区的多个第一发光组件，以及位于第二显示区的多个第二发光组件，其中，相邻两个第一发光组件的间隙大于相邻两个第二发光组件的间隙；多个发光组件包括阴极，阴极在第一显示区具有镂空结构，镂空结构在衬底基板上的正投影与至少部分第一发光组件的间隙的正投影相互交叠；阴极图案化材料层，位于发光组件的出光侧，阴极图案化材料层在衬底基板上的正投影与镂空结构的正投影大致重合。
显示显示装置

[发明专利]显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置-CN202310130776.4在审
发明人：王斌;梁翠翠;关新兴 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H10K50/86 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。其中显示基板包括：衬底基板；发光功能层，包括：像素界定层和多个发光器件，像素界定层包括与发光器件一一对应的多个像素容纳孔，发光器件位于对应的像素容纳孔内；半透降反层，位于发光器件远离衬底基板的一侧，半透降反层在衬底基板上的正投影至少覆盖像素容纳孔在衬底基板上的正投影，半透降反层的光透过率为30％～70％。
显示及其制备方法面板显示装置

[发明专利]蒸镀源和蒸镀装置-CN202310010176.4在审
发明人：刘浩;李彦松;白珊珊;关新兴;曾琪皓;沈阔;刘华猛;刘佳宁 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开涉及一种蒸镀源和蒸镀装置。其中，蒸镀源包括：至少一个蒸镀源模块，包括：加热器，具有侧板、顶板和底板，侧板位于顶板和底板之间以与顶板和底板围成加热空间，至少部分侧板为第一加热板；分隔板，设置于加热空间内，并与加热板相对设置，分隔板与顶板和底板连接，以将加热空间分为第一加热空间和第二加热空间，第二加热空间相对于第一加热空间靠近第一加热板；第一通气结构，贯穿分隔板，并且蒸镀材料能够穿过第一通气结构；第一喷嘴，位于顶板上，并且第一喷嘴在第一方向上的正投影位于第一加热空间内；第二喷嘴，位于顶板上，并且第二喷嘴在第一方向上的正投影位于第二加热空间内。该蒸镀源的材料利用率高。
蒸镀源装置

[发明专利]一种蒸镀掩膜版及其制作方法、蒸镀设备-CN202211287226.5在审
发明人：白珊珊;李彦松;刘华猛;关新兴 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-10-20 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀掩膜版及其制作方法、蒸镀设备，该蒸镀掩膜版包括：掩膜本体，所述掩膜本体具有贯穿厚度方向的多个通孔，一个通孔对应一个显示面板，所述掩膜本体与所述显示面板的衬底基板具有相同的热形变特性；限定掩膜层，设置在所述掩膜本体的一侧，所述限定层掩膜用于形成所述显示面板所需的蒸镀图形；所述衬底基板位于所述限定掩膜层远离所述掩膜本体的一侧，所述掩膜本体的厚度远大于所述限定掩膜层的厚度。
一种蒸镀掩膜版及其制作方法设备

[发明专利]掩膜组件及其制造方法、目标结构的制造方法、显示装置-CN202110984184.X有效
发明人：毕娜;关新兴 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：本申请公开一种掩膜组件及其制造方法、目标结构的制造方法、显示装置，属于显示技术领域。掩膜组件包括：至少一个蒸镀掩膜板。蒸镀掩膜板中具有多个蒸镀孔，该掩膜组件中的每个蒸镀孔用于在目标基板的一个目标区域中形成目标结构。该掩膜组件中的蒸镀孔的孔间距被配置为：使该掩膜组件和目标基板均处于目标环境中时，该掩膜组件中的蒸镀孔与目标基板中相应的目标区域对准，该目标环境的温度为目标温度。例如，目标结构为阴极。本申请可以保证在目标环境中采用该掩膜组件在目标基板上形成目标结构时，目标结构能够准确形成在目标基板的目标区域中，避免目标结构与目标区域发生错位。
组件及其制造方法目标结构显示装置

[发明专利]显示面板及显示装置-CN202211080064.8在审
发明人：汪顺;杨炳伟;郑爽;何雨濛;关新兴;李哲;李彦松 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-05 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： H10K50/858 文献下载
摘要：本申请涉及一种显示面板及显示装置。其中，显示面板具有用于出光的出光侧。显示面板还包括第一电极、发光层与聚光层。聚光层位于第一电极远离发光层的一侧，且位于显示面板的出光侧。聚光层包括外包部与聚光部，聚光部包括内包部、外芯部与内芯部。在聚光层所在的平面上，外包部、内包部、外芯部与内芯部互不重叠。外包部包围至少三个内芯部。发光层包括至少三个子像素，每一子像素在第一电极上的正投影位于一个内芯部在第一电极上的正投影之内。每一内芯部包围至少三个内包部。每一内芯部内，至少三个内包部围绕内芯部的中心阵列排布。内包部包围外芯部。外包部的折射率大于内芯部与外芯部的折射率。内包部的折射率大于内芯部与外芯部的折射率。
显示面板显示装置

[发明专利]一种掩膜板组件-CN202110216696.1有效
发明人：刘佳宁;白珊珊;毕娜;刘华猛;关新兴 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种掩膜板组件，该掩膜板组件包括：支撑框架和覆盖于支撑框架上的掩膜层，掩膜层包括多个间隔分布的掩膜条；支撑框架包括：外框、以及设于外框上的多个间隔分布的遮挡条；遮挡条的延伸方向与掩膜条的延伸方向相同，遮挡条的排列方向与掩膜条的排列方向相同，每个掩膜条搭接于相邻的两个遮挡条上；遮挡条包括遮挡层和位于遮挡层远离掩膜层一侧的第一支撑层；第一支撑层在掩膜层上的正投影位于遮挡层在掩膜层上的正投影内；第一支撑层的材料的磁性小于遮挡层的材料的磁性。该掩膜板组件中，掩膜条在搭接区域和搭接区域附近所受的压力差距较小，使掩膜条吸附更平整，提高蒸镀的均匀性，降低蒸镀过程中的混色风险。
一种掩膜板组件

[发明专利]掩膜版及其制备方法-CN202110362242.5有效
发明人：毕娜;关新兴;刘明丽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-04-02 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版包括：第一遮挡部；多个间隔设置且贯穿所述第一遮挡部的第一开口；其中，所述第一开口对应显示面板的显示区；设置于所述第一开口内侧并与所述第一遮挡部连接的第二遮挡部；多个间隔设置且贯穿所述第二遮挡部的第二开口；其中，所述第二遮挡部包括位于至少部分相邻的所述第二开口之间的第一金属层，以及设置于所述第一金属层与所述第二开口之间以围绕所述第二开口的第二金属层；所述第一金属层从所述第一开口侧壁向所述第一开口内延伸，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。该掩膜版可在保证蒸镀精度的前提下，同时兼顾用于蒸镀整面公共层(如阴极)的大开孔和蒸镀公共层图案的小开孔。
掩膜版及其制备方法

[发明专利]坩埚组件以及具有其的蒸镀装置-CN202211198533.6在审
发明人：曾琪皓;李彦松;白珊珊;关新兴;刘佳宁;刘华猛;刘浩 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提出了一种坩埚组件以及具有其的蒸镀装置，所述坩埚组件包括坩埚本体，所述坩埚本体包括底板和侧壁，所述底板和所述侧壁的一端相连，所述底板和所述侧壁的内周壁限定出适于容纳待加热介质的容纳腔，所述容纳腔沿所述坩埚本体的长度方向延伸；加热层，所述加热层设置在所述坩埚本体的至少部分外表面，以适于对所述坩埚本体进行加热；隔热板，所述隔热板设置在所述坩埚本体与所述加热层之间，以降低热量由所述加热层传递到所述坩埚本体的速率。由此，坩埚本体上各处温度更加均匀，坩埚本体内不同位置处具有相同的蒸镀速率，无需额外增加热输入，耗能少，生产效率高。
坩埚组件以及具有装置

[发明专利]坩埚结构及蒸镀源装置-CN202211119076.7在审
发明人：杨炳伟;曾琪皓;刘浩;关新兴 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开提供了一种坩埚结构及蒸镀源装置。该坩埚结构包括：埚体，包括底壁与侧围壁，侧围壁连接于底壁；隔板组件，设于埚体内，且连接于侧围壁，隔板组件与底壁相对设置，以将埚体内的空间分成多个容置空间；在隔板组件的厚度方向上，隔板组件包括能够相对滑动的第一隔板和第二隔板；第一隔板设有间隔分布的多个第一通孔，第二隔板设有间隔分布的多个第二通孔，多个第二通孔与多个第一通孔一一对应；在第一隔板相对第二隔板运动至第一位置时，第一通孔与第二通孔连通；在第一隔板相对第二隔板运动至第二位置时，第一通孔与第二通孔错开。本公开能够提高蒸镀效果。
坩埚结构蒸镀源装置

[实用新型]显示基板和显示装置-CN202221169839.4有效
发明人： 关新兴;陈友春;白珊珊;李彦松 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种显示基板和显示装置。该显示基板包括衬底基板；多个子像素，位于衬底基板上；至少一个子像素在衬底基板上的正投影的形状包括第一形状，第一形状包括第一弯曲边和第二弯曲边，第一弯曲边的两端和第二弯曲边的两端分别相连，并形成第一连接点和第二连接点；第一连接点和第二连接点的第一连线的长度为第一形状在第一连线的延伸方向上的最大长度，第一形状被第一连线划分为包括第一弯曲边的第一子部分和包括第二弯曲边的第二子部分；第一子部分的面积大于第二子部分的面积，第一弯曲边上的各点与第一连线的最大垂直距离大于第二弯曲边上的各点与第一连线的最大垂直距离。由此，该显示基板可减轻甚至避免色分离现象的产生。
显示显示装置

[发明专利]蒸发源装置及蒸镀设备-CN202211035457.7在审
发明人：刘佳宁;刘华猛;白珊珊;关新兴;沈阔 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种蒸发源装置及蒸镀设备。该蒸发源装置包括：第一蒸发源组件，包括第一蒸发源和至少一个第一喷嘴，各第一喷嘴均与第一蒸发源的第一蒸发腔连通，各第一喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置；第二蒸发源组件，包括第二蒸发源和至少一个第二喷嘴，各第二喷嘴均与第二蒸发源的第二蒸发腔连通，各第二喷嘴的出口均朝向待蒸镀基板设置；其中：第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口均布置在同一预设平面内，预设平面垂直于待蒸镀基板，且沿平行于待蒸镀基板的方向，第一喷嘴的出口和第二喷嘴的出口依次交替排列。本申请实施例解决了现有技术存在的在材料蒸镀过程中，两种或两种以上材料的混合掺杂比例不均，膜层厚度均一性较差的技术问题。
蒸发装置设备

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